[發(fā)明專利]用于基板輸送系統(tǒng)的示教裝置及示教方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910502824.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110600397A | 公開(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 磯川英立;橋本幸一;稻葉充彥;飯?zhí)锺R琴 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社荏原制作所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 31300 上海華誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本東京都*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基板輸送裝置 基板接收裝置 示教 基板 基板輸送系統(tǒng) 控制裝置 示教裝置 攝影機(jī) 解析 接收基板 示教作業(yè) 停止位置 圖像計(jì)算 對(duì)基板 接收部 圖像 技能 拍攝 | ||
本發(fā)明能夠不受進(jìn)行示教作業(yè)的作業(yè)人員的技能影響進(jìn)行示教。提供用于基板輸送系統(tǒng)的示教裝置,基板輸送系統(tǒng)具有構(gòu)成為能對(duì)基板進(jìn)行保持的基板輸送裝置及構(gòu)成為能從基板輸送裝置接收基板的基板接收裝置,示教裝置具有:構(gòu)成為保持于基板輸送裝置的示教基板;能被安裝于示教基板的攝影機(jī);及用于控制保持著示教基板的基板輸送裝置及/或基板接收裝置的動(dòng)作的控制裝置,控制裝置具有:接收由攝影機(jī)拍攝的圖像的接收部;根據(jù)接收的圖像計(jì)算基板輸送裝置與基板接收裝置的相對(duì)的位置關(guān)系的解析部;及根據(jù)由解析部計(jì)算的基板輸送裝置與基板接收裝置的相對(duì)的位置關(guān)系,確定基板輸送裝置及/或基板接收裝置的停止位置的確定部。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及用于基板輸送系統(tǒng)的示教裝置及示教方法。
背景技術(shù)
近年,隨著半導(dǎo)體設(shè)備高集成化的推進(jìn),電路的布線正在微細(xì)化、布線間距離也在變窄。在半導(dǎo)體設(shè)備的制造中,在硅基板上將多種材料反復(fù)形成膜狀,形成層疊構(gòu)造。為了形成該層疊構(gòu)造,使基板的表面平坦的技術(shù)變得重要。作為這樣的使基板的表面平坦化的一個(gè)技術(shù)手段,廣泛使用進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)的研磨裝置(也稱作化學(xué)機(jī)械研磨裝置)。
該化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)裝置一般具備安裝有研磨墊的研磨臺(tái)、保持基板的頂環(huán)以及將研磨液向研磨墊上供給的噴嘴。一邊將研磨液從噴嘴供給到研磨墊上,一邊由頂環(huán)將基板推壓到研磨墊,進(jìn)而使頂環(huán)與研磨臺(tái)相對(duì)移動(dòng),從而對(duì)基板進(jìn)行研磨使其表面平坦。
基板處理裝置具備用來進(jìn)行CMP的CMP單元、用來對(duì)研磨后的基板進(jìn)行清洗的清洗單元,還具備用來使清洗后的基板干燥的干燥單元。在這樣的基板處理裝置中,為了使基板在各單元間移動(dòng),具備基板輸送系統(tǒng)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2017-183647號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
在基板處理裝置中,要求縮短起動(dòng)時(shí)間及維護(hù)時(shí)間。在基板處理裝置所具備的基板輸送系統(tǒng)中,由機(jī)械臂等保持基板,或者載置到可動(dòng)載物臺(tái)上使基板移動(dòng)。為了將基板正確地輸送,需要進(jìn)行用來示范對(duì)基板進(jìn)行保持的機(jī)械臂、可動(dòng)載物臺(tái)的停止位置的作業(yè)(示教作業(yè))。以往,這樣的示教作業(yè)由人類一邊目視確認(rèn)基板的停止位置一邊進(jìn)行,在起動(dòng)時(shí)、維護(hù)時(shí)進(jìn)行示教作業(yè)的情況下需要大量時(shí)間。另外,還存在因進(jìn)行示教作業(yè)的作業(yè)人員的經(jīng)驗(yàn)、技能而產(chǎn)生其正確性偏差的問題。本申請(qǐng)的目的是提供一種可以不受進(jìn)行示教作業(yè)的作業(yè)人員的技能影響地進(jìn)行示教的技術(shù)。
用于解決課題的技術(shù)手段
提供一種用于基板輸送系統(tǒng)的示教裝置,所述基板輸送系統(tǒng)具有:基板輸送裝置,所述基板輸送裝置構(gòu)成為能夠?qū)暹M(jìn)行保持;以及基板接收裝置,所述基板接收裝置構(gòu)成為能夠從所述基板輸送裝置接收基板,所述示教裝置具有:示教基板,所述示教基板構(gòu)成為保持于所述基板輸送裝置;攝影機(jī),所述攝影機(jī)能夠被安裝于所述示教基板;以及控制裝置,所述控制裝置用于對(duì)保持著所述示教基板的所述基板輸送裝置及/或所述基板接收裝置的動(dòng)作進(jìn)行控制,所述控制裝置具有:接收部,所述接收部接收由所述攝影機(jī)拍攝的圖像;解析部,所述解析部根據(jù)接收的所述圖像計(jì)算所述基板輸送裝置與所述基板接收裝置的相對(duì)的位置關(guān)系;以及確定部,所述確定部根據(jù)由所述解析部計(jì)算的所述基板輸送裝置與所述基板接收裝置的相對(duì)的位置關(guān)系,確定所述基板輸送裝置及/或所述基板接收裝置的停止位置。
附圖說明
圖1是表示一個(gè)實(shí)施方式涉及的基板處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖2是表示一個(gè)實(shí)施方式涉及的輸送部的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的分解立體圖。
圖3是示意地表示一個(gè)實(shí)施方式涉及的第一研磨裝置的立體圖。
圖4是表示一個(gè)實(shí)施方式涉及的輸送機(jī)械手的側(cè)視圖。
圖5是表示一個(gè)實(shí)施方式涉及的第一輸送單元的立體圖。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





