[發(fā)明專利]一種顯示基板的制備方法、顯示基板及顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910478176.0
• 申請(qǐng)日: 2019-06-03
• 公開（公告）號(hào): CN110164945B
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙攀;蔣志亮;王格
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32
• 代理公司: 北京潤澤恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319
• 代理人: 莎日娜

1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括有效顯示區(qū)域、打孔區(qū)域以及設(shè)置在所述有效顯示區(qū)域和所述打孔區(qū)域之間的臨界區(qū)域，所述臨界區(qū)域的顯示基板包括：

基底，以及設(shè)置在所述基底上的至少一個(gè)第一阻擋墻，所述至少一個(gè)第一阻擋墻為凸起結(jié)構(gòu)；

所述至少一個(gè)第一阻擋墻包括依次層疊設(shè)置的第一柵極金屬層、第一柵極絕緣層、第二柵極金屬層、第二柵極絕緣層以及源漏電極金屬層，所述第一柵極金屬層比第一柵極絕緣層更靠近所述基底；

所述源漏電極金屬層的材料包括層疊設(shè)置的第一鈦材料層、鋁材料層和第二鈦材料層，所述第一鈦材料層、鋁材料層和第二鈦材料層共同形成倒梯形結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述基底包括：襯底以及設(shè)置在所述襯底上的無機(jī)膜層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述臨界區(qū)域的顯示基板還包括：

設(shè)置在所述基底上、位于所述第一阻擋墻和所述有效顯示區(qū)域之間的第二阻擋墻，所述第二阻擋墻包括層疊設(shè)置的平坦層、第一像素界定層和第一支撐層，所述平坦層比所述第一像素界定層更靠近所述基底，第二阻擋墻的高度高于所述第一阻擋墻的高度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板，其特征在于，所述臨界區(qū)域的顯示基板還包括：

設(shè)置在所述基底上、位于所述第二阻擋墻和所述有效顯示區(qū)域之間的第三阻擋墻，所述第三阻擋墻包括層疊設(shè)置的第二像素界定層和第二支撐層，所述第二像素界定層比所述第二支撐層更靠近所述基底，所述第三阻擋墻的高度大于第一阻擋墻的高度，小于等于第二阻擋墻的高度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述臨界區(qū)域的顯示基板還包括：

設(shè)置在所述基底和所述第一阻擋墻上的第一功能層，所述第一功能層在被源漏電極金屬層斷開。

6.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，所述顯示基板包括有效顯示區(qū)域、打孔區(qū)域以及設(shè)置在所述有效顯示區(qū)域和所述打孔區(qū)域之間的臨界區(qū)域，所述制備方法包括：

提供基底；

在所述基底上對(duì)應(yīng)所述臨界區(qū)域的位置形成至少一個(gè)第一阻擋墻，其中，所述至少一個(gè)第一阻擋墻為凸起結(jié)構(gòu)；

在所述基底上形成至少一個(gè)第一阻擋墻的步驟，包括：

依次在所述基底上形成第一柵極金屬層、第一柵極絕緣層、第二柵極金屬層、第二柵極絕緣層以及源漏電極金屬層，進(jìn)而得到所述至少一個(gè)第一阻擋墻；

所述源漏電極金屬層的材料包括層疊設(shè)置的第一鈦材料層、鋁材料層和第二鈦材料層，所述第一鈦材料層、鋁材料層和第二鈦材料層共同形成倒梯形結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述提供基底的步驟，包括：

提供襯底；

在所述襯底上形成無機(jī)膜材料；

對(duì)所述無機(jī)膜材料進(jìn)行刻蝕，得到無機(jī)膜層。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：

在所述基底上、位于所述第一阻擋墻和所述有效顯示區(qū)域之間依次形成平坦層、第一像素界定層和第一支撐層，進(jìn)而得到第二阻擋墻，所述第二阻擋墻的高度大于所述第一阻擋墻的高度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：

在所述基底上、且位于所述第二阻擋墻和所述有效顯示區(qū)域之間依次形成第二像素界定層和第二支撐層，進(jìn)而得到第三阻擋墻，所述第三阻擋墻的高度大于第一阻擋墻的高度，小于等于第二阻擋墻的高度。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：

在所述基底和所述第一阻擋墻上形成第一功能層，所述第一功能層被所述源漏電極金屬層斷開。

11.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的顯示基板。