[發(fā)明專利]一種陣列基板、顯示面板及陣列基板制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910471565.0
• 申請(qǐng)日: 2019-05-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110147018B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳曉曉;許喜愛(ài);劉冰萍;李作銀;陳國(guó)照
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廈門天馬微電子有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1362
• 分類號(hào): G02F1/1362;G02F1/1337;G02F1/1345
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種陣列基板，其特征在于，包括：

襯底基板，具有彩膜基板對(duì)置設(shè)置區(qū)和臺(tái)階區(qū)；

配向?qū)樱挥谒霾誓せ鍖?duì)置設(shè)置區(qū)；

導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)，包括多層導(dǎo)電膜層，位于所述臺(tái)階區(qū)；

至少一個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)，位于所述臺(tái)階區(qū)；

其中，所述凹槽結(jié)構(gòu)至少位于所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)與所述臺(tái)階區(qū)邊界之間，所述臺(tái)階區(qū)邊界為所述彩膜基板對(duì)置設(shè)置區(qū)和所述臺(tái)階區(qū)的邊界；

所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)的至少一層導(dǎo)電膜層上設(shè)置有一導(dǎo)電襯墊；

所述凹槽結(jié)構(gòu)包括第一凹槽結(jié)構(gòu)，所述第一凹槽結(jié)構(gòu)與所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)相毗鄰；

位于所述導(dǎo)電襯墊朝向所述襯底基板一側(cè)且與所述導(dǎo)電襯墊相鄰的所述導(dǎo)電膜層為第一類導(dǎo)電膜層；所述第一類導(dǎo)電膜層與所述導(dǎo)電襯墊形成有臺(tái)階結(jié)構(gòu)；所述第一類導(dǎo)電膜層的面積大于所述導(dǎo)電襯墊的面積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，包括：所述導(dǎo)電襯墊位于所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)的兩相鄰所述導(dǎo)電膜層之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

位于所述導(dǎo)電襯墊背離所述襯底基板一側(cè)且與所述導(dǎo)電襯墊相鄰的所述導(dǎo)電膜層為第二類導(dǎo)電膜層；所述第二類導(dǎo)電膜層與所述第一類導(dǎo)電膜層具有臺(tái)階結(jié)構(gòu)；所述第二類導(dǎo)電膜層的面積小于所述第一類導(dǎo)電膜層的面積。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述導(dǎo)電襯墊包括多個(gè)子導(dǎo)電襯墊，相鄰所述子導(dǎo)電襯墊之間具有第一間隙。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述第二類導(dǎo)電膜層包括多個(gè)子導(dǎo)電膜層，相鄰所述子導(dǎo)電膜層之間具有第二間隙；

沿垂直于所述襯底基板所在方向上，所述第二間隙與所述第一間隙對(duì)應(yīng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的陣列基板，其特征在于，所述凹槽結(jié)構(gòu)包括第二凹槽結(jié)構(gòu)，沿所述臺(tái)階區(qū)邊界朝向所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)的方向，所述第二凹槽結(jié)構(gòu)與所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)之間間隔預(yù)設(shè)距離。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述第二凹槽結(jié)構(gòu)呈U字形，且所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)位于所述U字形開(kāi)口內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述第二凹槽結(jié)構(gòu)呈封閉環(huán)形，所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)位于所述封閉環(huán)形內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述臺(tái)階區(qū)設(shè)置有至少兩個(gè)第二凹槽結(jié)構(gòu)時(shí)，沿所述臺(tái)階區(qū)邊界朝向所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)的方向，所述至少兩個(gè)第二凹槽結(jié)構(gòu)依次排列。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板，其特征在于，還包括位于所述襯底基板與所述配向?qū)又g的平坦化層；

所述平坦化層位于所述臺(tái)階區(qū)的區(qū)域設(shè)置有挖孔結(jié)構(gòu)，所述挖孔結(jié)構(gòu)與所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)一一對(duì)應(yīng)，所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)的至少一個(gè)所述導(dǎo)電膜層位于所述挖孔結(jié)構(gòu)內(nèi)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的陣列基板，其特征在于，沿垂直于所述襯底基板所在平面的方向上，所述第二凹槽結(jié)構(gòu)的深度小于所述平坦化層的厚度。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述彩膜基板對(duì)置設(shè)置區(qū)還包括位于所述襯底基板和所述配向?qū)又g的像素結(jié)構(gòu)；

所述導(dǎo)電端子結(jié)構(gòu)的所述導(dǎo)電膜層與所述像素結(jié)構(gòu)中的源漏電極層、柵極層、像素電極層以及公共電極層中的至少一層同層設(shè)置。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的陣列基板，其特征在于，所述彩膜基板對(duì)置設(shè)置區(qū)還包括位于所述襯底基板和所述配向?qū)又g的觸控電極層以及觸控走線層；

所述導(dǎo)電襯墊與所述觸控電極層和/或所述觸控走線層同層設(shè)置。