[發明專利]用于分子束外延設備的烘烤服及其使用方法有效
| 申請號: | 201910462458.1 | 申請日: | 2019-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN110184589B | 公開(公告)日: | 2021-07-02 |
| 發明(設計)人: | 王叢;高達 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十一研究所 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54 |
| 代理公司: | 工業和信息化部電子專利中心 11010 | 代理人: | 于金平 |
| 地址: | 100015*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 分子 外延 設備 烘烤 及其 使用方法 | ||
本發明公開一種用于分子束外延設備的烘烤服及其使用方法,分子束外延設備包括本體部和至少一個凸起部,凸起部與本體部連接且突出于本體部的外表面,烘烤服包括適于包裹本體部的主體結構,主體結構包括至少一個孔洞;和與孔洞一一對應的分體結構,分體結構均與主體結構可拆卸地連接,且每個分體結構適于遮擋其對應的孔洞,每個分體結構均設有一個通孔,通孔與凸起部一一對應且尺寸相同,并套設于對應的凸起部。本發明通過對烘烤服進行分體設置,烘烤服的分體結構根據分子束外延設備的凸起部單獨設計,使得分體結構的通孔與凸起部貼合,不僅保障通孔與凸起部之間的接觸密封性,還可以降低烘烤服的制備難度,提高烘烤服的制備效率與降低制備成本。
技術領域
本發明涉及分子束外延設備技術領域,尤其涉及一種用于分子束外延設備的烘烤服及其使用方法。
背景技術
分子束外延設備由真空系統、束流源系統、加熱系統、傳送系統等部分組成。其工作原理是由真空系統提供超高真空環境保證分子束外延過程的正常進行,束流源系統用于提供材料外延所需要的束流,加熱系統用于處理襯底以及在外延過程中保持襯底溫度,各系統之間依靠傳送系統進行連接。其中束流源系統依靠加熱高純的材料,蒸發出所需的束流以達到外延的需求,其所用的高純材料需要經過外界補充,該過程稱之為“開腔換料”。在“開腔換料”的整套工藝過程中,一般需要經過束流源降溫、真空系統功能停止、真空環境充氣、束流源拆卸、更換源料、束流源安裝、真空系統工作,系統檢漏、烘烤、束流源除氣等步驟。在該過程中對整套設備的烘烤是決定分子束外延設備是否可以恢復高真空條件的一項重要保障。烘烤過程需要對整套分子束外延設備進行包裹。包裹后使用帶加熱功能的鼓風機,將熱風吹入烘烤服內,從外部對分子束外延設備進行加溫,將設備內部吸附的氣體加熱排除,在真空系統的作用下達到超高真空的水平。烘烤關鍵因素是烤服內的溫度,此溫度是在鼓風機的加熱,烘烤服的保溫作用下達到。
相關技術中,由于設備本身的特點,存在一些不規則的突出部件,這就使得在烘烤服制備時留下必要的孔洞保證特殊部位能夠從烘烤服中穿過,而這種孔洞會在設備的特殊部件和烘烤服之間留下較大的縫隙,特別是隨著烘烤服的使用,縫隙會越來越大,造成烘烤服保溫能力下降。
發明內容
本發明實施例提供一種用于分子束外延設備的烘烤服及其使用方法,用以解決現有技術中烘烤服保溫性能差的問題。
本發明實施例提供一種用于分子束外延設備的烘烤服,分子束外延設備包括本體部和至少一個凸起部,凸起部與本體部連接且突出于本體部的外表面,烘烤服包括:
適于包裹本體部的主體結構,主體結構包括至少一個孔洞;和
與孔洞一一對應的分體結構,分體結構均與主體結構可拆卸地連接,且每個分體結構適于遮擋其對應的孔洞,每個分體結構均設有一個通孔,通孔與凸起部一一對應且尺寸相同,并套設于對應的凸起部。
根據本發明的一些實施例,通孔的內周壁與其對應的凸起部的外周壁密封配合。
根據本發明的一些實施例,通孔的內周壁與其對應的凸起部的外周壁貼合。
根據本發明的一些實施例,烘烤服還包括:
多個拼接片,組合后與通孔的外周形狀相適應,每個拼接片的一端均與通孔的壁面連接,拼接片適于與凸起部的外周壁接觸。
進一步地,多個拼接片適于遮擋通孔。
根據本發明的一些實施例,分體結構包括分割段,分割段的一端延伸至通孔,分割段的另一端延伸至分體結構的邊緣,通孔適于從分割段套設于凸起部。
根據本發明的一些實施例,分體結構與主體結構通過魔術貼連接。
根據本發明的一些實施例,孔洞呈正多邊形、圓形或橢圓形;
分體結構的形狀與孔洞的形狀相同。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





