[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201910451330.5
• 申請日: 2019-05-28
• 公開（公告）號: CN110553489B
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 樸庸碩
• 申請（專利權）人: 顯示器生產服務株式會社
• 主分類號: F26B15/12
• 分類號: F26B15/12;F26B21/00;F26B25/00
• 代理公司: 北京商專永信知識產權代理事務所(普通合伙) 11400
• 代理人: 方挺;黃謙

1.一種基板處理裝置，用于除去殘留在基板上的霧的同時對基板的表面進行使其具有親水性的處理，其特征在于，包括：

燈組件，包括紫外線燈和反射罩，所述紫外線燈將紫外線照射到通過傳送裝置傳送的基板，所述反射罩配置在所述紫外線燈的上側，將從所述紫外線燈照射的紫外線向所述基板反射；

氣體供應排出裝置，設置在所述基板的上側，用于向所述基板的上表面供應氣體并排出沿著所述基板的上表面移動的流體；以及

殼體，具有容納空間，所述容納空間容納通過所述紫外線燈加熱的氣體，

所述氣體供應排出裝置包括：

供氣室，設置在所述基板的上側并在內部形成供氣空間，所述燈組件配置在所述供氣空間上，具有從外部向所述供氣空間供應氣體的供氣口；以及

排氣室，沿著所述基板的傳送方向設置在所述供氣室的一側，在內部形成有排氣空間，具有排出存在于所述排氣空間上的流體的排氣口，

所述供氣室的一側壁具有用于連通所述供氣空間的一側和所述排氣空間的一側的連通部，

所述基板處理裝置還包括流動引導部件，所述流動引導部件配置在所述連通部上，以使通過所述紫外線燈加熱的氣體能夠沿著所述基板的上表面移動，

所述流動引導部件包括：

流動引導部件固定部，固定在所述供氣室的一側壁；以及

流體引導部，形成為從所述流動引導部件固定部的一端朝向引入基板的方向傾斜，并且，傾斜的部位形成為圓弧形，引導所述供氣空間上的流體沿著所述基板的上表面移動，除去因氣流而存在于基板的霧的同時防止基板翹起的現象，

所述供氣室的下部開放，使得從所述紫外線燈照射的紫外線能夠向所述基板照射，所述排氣室的下部具有開放的結構，所述殼體的上部具有開放的結構，使得能夠和所述供氣空間的下部、以及所述排氣空間的下部連通，

除了引入所述基板的引入口和排出所述基板的排出口之外，所述供氣空間、所述排氣空間、以及所述容納空間被密閉，在所述基板通過所述引入口之前，通過所述紫外線燈加熱的氣體容納在所述容納空間，當所述基板通過所述引入口并對所述基板進行處理時，所述基板的上表面被通過所述紫外線燈照射的紫外線和通過所述供氣口供應的氣體進行處理，所述基板的下表面被容納在所述容納空間的加熱的氣體進行處理，并且，所述基板的上下面同時被處理。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述氣體供應排出裝置還包括：

供氣扇，設置在所述供氣口，以從外部將氣體供應到所述供氣空間；

排氣扇，設置在所述排氣口，以將所述排氣空間上的流體排出到外部；以及

支撐框架，分別設置在所述傳送裝置的兩側，以在所述傳送裝置上支撐所述供氣室。

3.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述反射罩還包括狹縫部，形成在所述反射罩的上部，以使供應到所述供氣空間的氣體移動到所述紫外線燈側。

4.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

還包括高度調節裝置，配置在所述供氣空間上，以調節所述紫外線燈的高度，

所述高度調節裝置包括：

設置板，所述紫外線燈設置在所述設置板的下方，所述反射罩設置在所述設置板的上方；以及

滾珠螺桿，一端露出在所述供氣室的外側，另一端結合到所述設置板，向上下方向移動所述設置板。

5.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

還包括引導裝置，用于引導通過所述高度調節裝置移動的所述設置板的移動，

所述引導裝置包括：

第一引導部件和第二引導部件，一端連接到所述供氣室的上部，另一端連接到所述支撐框架，以引導所述設置板的移動；

第一套管，在與所述設置板的一側結合的狀態下可移動地結合到所述第一引導部件；以及

第二套管，在與所述的設置板的另一側結合的狀態下可移動地結合到所述第二引導部件。

6.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

在所述容納空間的上部配置有所述傳送裝置的一部分，

沿著所述基板的寬度方向配置有多個所述供氣口和所述排氣口。

7.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括固定部件，用于將所述殼體的上端固定到所述支撐框架的下部。