[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201910451330.5
• 申請日: 2019-05-28
• 公開（公告）號: CN110553489B
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 樸庸碩
• 申請（專利權）人: 顯示器生產服務株式會社
• 主分類號: F26B15/12
• 分類號: F26B15/12;F26B21/00;F26B25/00
• 代理公司: 北京商專永信知識產權代理事務所(普通合伙) 11400
• 代理人: 方挺;黃謙

本發明涉及一種基板處理裝置，其照射紫外線使基板干燥，并且，能夠進行使基板的表面具有親水性的處理。本發明提供的基板處理裝置包括：燈組件，包括紫外線燈和反射罩，上述紫外線燈將紫外線照射到通過傳送裝置傳送的基板，上述反射罩配置在上述紫外線燈的上側，將從上述紫外線燈照射的紫外線反射向基板；氣體供應排出裝置，設置在上述基板的上側，用于向上述基板的上面供應氣體并排出沿著上述基板的上表面移動的流體；以及殼體，具有容納空間，上述容納空間容納通過上述紫外線燈加熱的氣體。

技術領域

本發明涉及基板處理裝置，更具體地涉及照射紫外線使基板干燥，并且，能夠進行使基板的表面具有親水性的處理的基板處理裝置。

背景技術

通常，大面積基板的基板干燥裝置具有氣刀和排氣結構，上述氣刀分別設置在傳送的基板的上面和下面，噴射干燥空氣，上述排氣結構將因該干燥空氣的噴射而產生的霧排出到外部。

以往的排氣結構是使用設置在干燥室的下部的排氣扇來一并排氣的結構。

以往的基板干燥裝置構成為包括：干燥室；上部氣刀和下部氣刀，設置在干燥室的內部，分別位于傳送的基板的上部和下部側，將干燥空氣噴射到基板；以及排氣部，設置在干燥室的下部。

這種以往的基板干燥裝置在傳送基板的狀態下，從上部氣刀和下部氣刀噴射干燥空氣。當噴射這種高壓的干燥空氣時，將基板的表面的清洗水或清洗藥液移動到基板的傳送方向的相反側，使基板干燥。

在這種情況下，通過高壓的干燥空氣的噴射液體顆粒與氣流一起從基板分離，以霧狀存在于槽的內部，這種霧通過設置在干燥室的下部的排氣部排出到外部。

然而，通過設置在干燥室下部的排氣部難以完全除去霧，并且，有可能發生霧再附著在基板的情況。

即，有可能發生如下情況：在槽的內部形成由于高壓的干燥空氣的噴射而引起的渦流，在渦流的作用下霧再附著到已通過上部氣刀和下部氣刀的基板。

因此，存在當霧再附著到基板時，水漬留在基板的問題，而且水漬作用為缺陷而可能導致工藝不良。

另外，利用氣刀的干燥工藝之后，為了接下來所進行的PI涂層固定，對基板的表面進行改質的表面處理工藝中使用紫外線照射裝置。

但是，由于基板在殘留有霧的狀態下通過紫外線照射裝置進行表面處理工藝，因而存在基板的表面處理成品率降低的問題。

因此，需要開發出在干燥工藝后除去殘留在基板上的霧的同時能夠對基板的表面進行處理的基板處理裝置。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻：韓國授權實用新型公報第20-0452959號(2011.04.04授權公告，發明名稱：大面積基板的干燥裝置)

發明內容

發明要解決的問題

本發明要解決的問題是提供一種基板處理裝置，其通過在基板的上側配置供氣室和排氣室并在供氣室的內部具備紫外線燈的單個裝置，在除去殘留在基板上的霧的同時能夠對基板的表面進行使其具有親水性的處理。

用于解決問題的手段