[發(fā)明專利]一種檢測(cè)FPD基板的成像系統(tǒng)及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910448588.X | 申請(qǐng)日: | 2019-05-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110132999B | 公開(公告)日: | 2021-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李波;曾耀 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢中導(dǎo)光電設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/956 | 分類號(hào): | G01N21/956;G01N21/88 |
| 代理公司: | 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 張凱 |
| 地址: | 430000 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 檢測(cè) fpd 成像 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種檢測(cè)FPD基板的成像系統(tǒng)及方法,涉及FPD基板缺陷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域。系統(tǒng)包括:同軸照明裝置,其用于凸顯FPD基板上電路線條的方位特征;圖像采集裝置,其用于采集被凸顯電路線條方位特征的FPD基板的第一圖像;暗場(chǎng)照明裝置,其用于凸顯FPD基板上電路線條的缺陷特征;圖像處理裝置,其用于根據(jù)第一圖像確定電路線條的角度,并且根據(jù)電路線條的角度把FPD基板劃分出不同的特征區(qū)域;圖像采集裝置還用于采集所有特征區(qū)域的第二圖像,圖像處理裝置獲取所有第二圖像后進(jìn)行缺陷特征識(shí)別,且對(duì)有缺陷特征的圖像進(jìn)行定位。本發(fā)明采用同軸照明裝置和暗場(chǎng)照明裝置來凸顯FPD基板上電路線條的特征,提高了對(duì)FPD基板缺陷檢測(cè)的準(zhǔn)確度和檢測(cè)效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉FPD基板缺陷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域及領(lǐng)域,具體是涉及一種檢測(cè)FPD基板的成像系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
在FPD基板實(shí)際生產(chǎn)過程中,常出現(xiàn)例如FPD基板表面電路存在線條斷裂、缺口、線條邊緣凸起、線條孔洞、非線條區(qū)堆積等各類缺陷,對(duì)此,需要通過FPD基板缺陷檢測(cè)技術(shù)來實(shí)現(xiàn)FPD基板缺陷的檢測(cè)。特別是,在FPD基板基板檢測(cè)技術(shù)中,對(duì)于FPD基板缺陷檢測(cè)通常采用孤立的亮場(chǎng)照明或暗場(chǎng)照明來獲得FPD基板表面缺陷圖像,從而根據(jù)FPD基板表面的缺陷圖像來確定具體缺陷類型。
而采用孤立的亮場(chǎng)照明或暗場(chǎng)照明的情況下,對(duì)相機(jī)的成像產(chǎn)生干擾,對(duì)相機(jī)的分辨率要求較高,并且對(duì)FPD基板表面的探測(cè)力度仍然不足,在檢測(cè)過程中難以發(fā)現(xiàn)例如線條斷裂,缺口,線條邊緣凸起,線條孔洞,非線條區(qū)堆積等部分缺陷。因此,目前提高對(duì)FPD基板表面缺陷的檢測(cè)力度對(duì)FPD基板基板的品質(zhì)改善起到尤為重要的作用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了克服上述背景技術(shù)中的孤立的亮場(chǎng)照明或暗場(chǎng)照明的情況下,對(duì)相機(jī)的成像產(chǎn)生干擾,在檢測(cè)過程中難以發(fā)現(xiàn)FPD基板電路線條缺陷的不足,提供一種檢測(cè)FPD基板的成像系統(tǒng)及方法。
本發(fā)明提供一種檢測(cè)FPD基板的成像系統(tǒng),其包括:
同軸照明裝置,所述同軸照明裝置用于凸顯FPD基板上電路線條的方位特征;
圖像采集裝置,其用于采集被凸顯電路線條方位特征的FPD基板的第一圖像;
暗場(chǎng)照明裝置,所述暗場(chǎng)照明裝置用于凸顯FPD基板上電路線條的缺陷特征;
圖像處理裝置,其用于根據(jù)第一圖像確定電路線條的角度,并且根據(jù)電路線條的角度把FPD基板劃分出不同的特征區(qū)域;
同時(shí)所述圖像采集裝置還用于逐個(gè)采集被凸顯FPD電路線條缺陷特征的所有所述特征區(qū)域的第二圖像;所述圖像處理裝置還用于獲取所有第二圖像后進(jìn)行缺陷特征識(shí)別,且對(duì)有缺陷特征的圖像進(jìn)行定位。
優(yōu)選方案:所述圖像采集裝置為相機(jī),所述同軸照明裝置連接在相機(jī)的鏡頭上,所述同軸照明裝置的光線與相機(jī)鏡頭的主光軸平行。
優(yōu)選方案:所述同軸照明裝置的光線射出端設(shè)有物鏡,所述物鏡用于放大FPD基板上電路線條,提高圖像采集裝置的圖像清晰度。
優(yōu)選方案:所述暗場(chǎng)照明裝置套設(shè)在物鏡的外圓上,暗場(chǎng)照明裝置為物鏡提供設(shè)定角度的暗場(chǎng)光線。
優(yōu)選方案:所述系統(tǒng)還包括:控制所述同軸照明裝置和暗場(chǎng)照明裝置的光源控制裝置,所述光源控制裝置分別與同軸照明裝置和暗場(chǎng)照明裝置電連接,所述光源控制裝置用于控制同軸照明裝置和暗場(chǎng)照明裝置的工作狀態(tài)。
優(yōu)選方案:所述相機(jī)為線陣CCD相機(jī)或矩陣CCD相機(jī)。
本發(fā)明的另一方面還提供了一種檢測(cè)FPD基板的成像方法,所述方法包括以下步驟:
把待檢測(cè)的FPD基板放置在圖像采集裝置的圖像采集區(qū)域的范圍內(nèi);
打開同軸照明裝置的光源,凸顯FPD基板電路線條的方位特征;
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
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- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
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