[發(fā)明專利]一種檢測FPD基板的成像系統(tǒng)及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910448588.X | 申請日: | 2019-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN110132999B | 公開(公告)日: | 2021-11-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李波;曾耀 | 申請(專利權)人: | 武漢中導光電設備有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956;G01N21/88 |
| 代理公司: | 武漢智權專利代理事務所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 張凱 |
| 地址: | 430000 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 fpd 成像 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種檢測FPD基板的成像系統(tǒng),其特征在于,其包括:
同軸照明裝置(4),所述同軸照明裝置(4)用于凸顯FPD基板(7)上電路線條的方位特征;
圖像采集裝置(1),其用于采集被凸顯電路線條方位特征的FPD基板(7)的第一圖像;
暗場照明裝置(3),所述暗場照明裝置(3)用于凸顯FPD基板(7)上電路線條的缺陷特征;
圖像處理裝置(5),其用于根據(jù)第一圖像確定電路線條的角度,并且根據(jù)電路線條的角度把FPD基板(7)劃分出不同的特征區(qū)域;同時,
所述圖像采集裝置(1)還用于逐個采集被凸顯FPD電路線條缺陷特征的所有所述特征區(qū)域的第二圖像;所述圖像處理裝置(5)還用于獲取所有第二圖像后進行缺陷特征識別,且對有缺陷特征的圖像進行定位;
所述系統(tǒng)還包括:
控制所述同軸照明裝置(4)和暗場照明裝置(3)的光源控制裝置(6),所述光源控制裝置(6)分別與同軸照明裝置(4)和暗場照明裝置(3)電連接,所述光源控制裝置(6)用于控制同軸照明裝置(4)和暗場照明裝置(3)的工作狀態(tài);
打開暗場照明裝置(3)的光源具體方式為:
計算暗場照明裝置(3)的光源角度與電路線條的角度之間的差值的絕對值A,打開滿足45≤A≤90角度的暗場光源。
2.如權利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于:
所述圖像采集裝置(1)為相機,所述同軸照明裝置(4)連接在相機的鏡頭上,所述同軸照明裝置(4)的光線與相機鏡頭的主光軸平行。
3.如權利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于:
所述同軸照明裝置(4)的光線射出端設有物鏡(2),所述物鏡(2)用于放大FPD基板(7)上電路線條,提高圖像采集裝置(1)的圖像清晰度。
4.如權利要求3所述的系統(tǒng),其特征在于:
所述暗場照明裝置(3)套設在物鏡(2)的外圓上,暗場照明裝置(3)為物鏡(2)提供設定角度的暗場光線。
5.如權利要求2所述的系統(tǒng),其特征在于:所述相機為線陣CCD相機或矩陣CCD相機。
6.一種檢測FPD基板的成像方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
把待檢測的FPD基板(7)放置在圖像采集裝置(1)的圖像采集區(qū)域的范圍內(nèi);
打開同軸照明裝置(4)的光源,凸顯FPD基板(7)電路線條的方位特征;
圖像采集裝置(1)采集被凸顯電路線條方位特征的FPD基板(7)的第一圖像;
圖像處理裝置(5)根據(jù)第一圖像確定電路線條的角度,并且根據(jù)電路線條的角度把FPD基板(7)劃分出不同的特征區(qū)域;
關閉同軸照明裝置(4)的光源,打開暗場照明裝置(3)的光源,凸顯FPD基板(7)上電路線條的缺陷特征,所述打開暗場照明裝置(3)的光源具體方式為:
計算暗場照明裝置(3)的光源角度與電路線條的角度之間的差值的絕對值A,打開滿足45≤A≤90角度的暗場光源;
圖像采集裝置(1)逐個采集被凸顯FPD電路線條缺陷特征的所有特征區(qū)域的第二圖像;
圖像處理裝置(5)獲取所有第二圖像后進行缺陷特征識別,且對有缺陷特征的圖像進行定位。
7.如權利要求6所述的一種檢測FPD基板的成像方法,其特征在于:所述缺陷特征為線條斷裂、缺口、線條邊緣凸起、線條孔洞、非線條區(qū)堆積中的一種或多種。
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