[發(fā)明專利]正型感光性組合物、薄膜晶體管及化合物在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910444673.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110209014A | 公開(公告)日: | 2019-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 井手正仁;稻成浩史;北島亞紀(jì);田原孔明;真鍋貴雄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社鐘化 |
| 主分類號(hào): | G03F7/075 | 分類號(hào): | G03F7/075;G03F7/039;H01L23/29;H01L29/51;H01L29/786 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 沈雪 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 正型感光性組合物 烯基 電絕緣可靠性 硅氫化催化劑 薄膜晶體管 圖案形成性 光產(chǎn)酸劑 酸性基團(tuán) 固化物 羥基 薄膜 分解 | ||
本發(fā)明提供一種圖案形成性及固化物(薄膜)的電絕緣可靠性優(yōu)異的正型感光性組合物,第一本發(fā)明的正型感光性組合物包含:(A)一個(gè)分子中包含烯基或SiH基的化合物,其具有在酸存在下發(fā)生分解而顯現(xiàn)酸性基團(tuán)或羥基的結(jié)構(gòu);(B)一個(gè)分子中包含SiH基或烯基的化合物;(C)硅氫化催化劑;及(D)光產(chǎn)酸劑。
本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2013年7月2日、申請(qǐng)?zhí)枮?01380035657.5、發(fā)明名稱為“正型感光性組合物、薄膜晶體管及化合物”的申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種正型感光性組合物、薄膜晶體管及化合物
背景技術(shù)
正型感光性組合物被廣泛用于制造顯示器、半導(dǎo)體等,提出了并對(duì)有一種以丙烯酸樹脂或苯酚樹脂作為主要成分的正型抗蝕劑進(jìn)行了商品化。
特別是作為用作永久抗蝕劑的正型感光性組合物,由于正型感光性組合物的固化物(薄膜)在圖案形成后作為功能膜殘留于裝置內(nèi),因此,提出了一種正型感光性組合物,其以更具有耐久性的樹脂即聚酰亞胺類聚合物(專利文獻(xiàn)1)、硅類聚合物(專利文獻(xiàn)2)等材料作為基體。
然而,在絕緣膜等中使用使這些正型感光性組合物固化而得到的薄膜時(shí),絕緣性不充分,從而仍不能得到滿足絕緣膜所要求的絕緣性的固化物即正型感光性組合物。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2011-033772號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開2011-022173號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題
本發(fā)明的目的在于,提供一種圖案形成性及固化物(薄膜)的電絕緣可靠性優(yōu)異的正型感光性組合物、以及作為絕緣膜具備使該正型感光性組合物固化而得到的薄膜的薄膜晶體管。
另外,本發(fā)明的目的在于,提供一種化合物,其可優(yōu)選用于得到圖案形成性及固化物(薄膜)的電絕緣可靠性優(yōu)異的正型感光性組合物。
用于解決問題的技術(shù)方案
本發(fā)明人等進(jìn)行了潛心研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),可通過以下的構(gòu)成實(shí)現(xiàn)上述課題,從而完成了本發(fā)明。
即,一種正型感光性組合物,其包含:
(A)一個(gè)分子中包含烯基或SiH基的化合物,其具有在酸存在下發(fā)生分解而顯現(xiàn)酸性基團(tuán)或羥基的結(jié)構(gòu);
(B)一個(gè)分子中包含SiH基或烯基的化合物;
(C)硅氫化催化劑;及
(D)光產(chǎn)酸劑。
在第一本發(fā)明的正型感光性組合物中,上述成分(B)優(yōu)選為不具有在酸存在下發(fā)生分解而顯現(xiàn)酸性基團(tuán)或羥基的結(jié)構(gòu)的化合物。
在第一本發(fā)明的正型感光性組合物中,上述成分(A)優(yōu)選為一個(gè)分子中包含SiH基的化合物,其具有在酸存在下發(fā)生分解而顯現(xiàn)酸性基團(tuán)或羥基的結(jié)構(gòu),上述成分(B)為一個(gè)分子中包含烯基的化合物。
在第一本發(fā)明的正型感光性組合物中,上述成分(A)中,在酸存在下發(fā)生分解而顯現(xiàn)酸性基團(tuán)或羥基的結(jié)構(gòu)是進(jìn)行了官能團(tuán)保護(hù)的酚結(jié)構(gòu)、或進(jìn)行了官能團(tuán)保護(hù)的羧酸結(jié)構(gòu)。
在第一本發(fā)明的正型感光性組合物中,上述進(jìn)行了官能團(tuán)保護(hù)的酚結(jié)構(gòu)為進(jìn)行了官能團(tuán)保護(hù)的雙酚結(jié)構(gòu),更優(yōu)選用三烷基甲硅烷基或丁氧基羰基進(jìn)行了官能團(tuán)保護(hù)的雙酚結(jié)構(gòu)。
在第一本發(fā)明的正型感光性組合物中,上述成分(A)優(yōu)選具有雙酚結(jié)構(gòu),更優(yōu)選具有雙酚S結(jié)構(gòu)或雙酚F結(jié)構(gòu)。
在第一本發(fā)明的正型感光性組合物中,上述進(jìn)行了官能團(tuán)保護(hù)的羧酸結(jié)構(gòu)優(yōu)選為包含縮醛鍵的結(jié)構(gòu)、或者包含羧酸叔酯鍵的結(jié)構(gòu)。
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
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