[發(fā)明專利]一種調(diào)光片及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910439366.1 | 申請日: | 2019-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN111435181A | 公開(公告)日: | 2020-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李剛;夏寅;劉志鵬;付坤;薛永富;唐海江;張彥 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波激智科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/02 | 分類號: | G02B5/02 |
| 代理公司: | 北京策略律師事務(wù)所 11546 | 代理人: | 張華 |
| 地址: | 315040 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 調(diào)光 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種基于體散射的調(diào)光片,尤其涉及一種基于高純度體散射的調(diào)光片及其制備方法。為了實現(xiàn)對輸入光的調(diào)控,本發(fā)明提供一種調(diào)光片及其制備方法。所述調(diào)光片由調(diào)光層和基體構(gòu)成,調(diào)光層置于基體之上,所述調(diào)光層由傳播介質(zhì)和光散射劑構(gòu)成,所述傳播介質(zhì)為一種固態(tài)聚合物樹脂,所述光散射劑為光散射粒子,所述光散射劑嚴格分散在傳播介質(zhì)內(nèi)部,增加了調(diào)光片體散射的調(diào)控光,所述調(diào)光片的上下外表面和各層界面非常平整、光滑,減少了調(diào)光片各層表面散射的雜散光。所述調(diào)光片可對輸出光進行特異性調(diào)控,使透射輸出光滿足特定分布形態(tài),使輸出光更適合人眼和鏡頭觀看,也更適合作為新的輸入光源進行二次利用,尤其適合作為光學(xué)系統(tǒng)的信號源以便對其接收和解析。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種基于體散射的調(diào)光片,尤其涉及一種基于高純度體散射的調(diào)光片及其制備方法。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的光學(xué)膜具有特定的光學(xué)涂層,但均無法產(chǎn)生高純度的體散射,如:
(1)擴散粒子層,利用光在擴散粒子的表面和內(nèi)部產(chǎn)生多次折射、反射產(chǎn)生幾何光學(xué)尺度的擴散,利用擴散粒子暴露在膠層上方的幾何形狀與空氣產(chǎn)生足夠的折射率差,擴大光學(xué)曲折幅度,強化擴散效果,如擴散、霧化、防眩等。此種光學(xué)涂層因粒子有部分埋于膠層中,具有一定的體散射,但是具有強烈的表面散射。
(2)微復(fù)制結(jié)構(gòu)層,利用光在微結(jié)構(gòu)的表面和內(nèi)部產(chǎn)生多次折射、反射產(chǎn)生幾何光學(xué)尺度的光分布調(diào)控,利用微結(jié)構(gòu)與空氣產(chǎn)生足夠的折射率差,強化調(diào)控效果,如增加亮度、控制視角或定向?qū)Ч狻4朔N光學(xué)涂層不具有體散射,或可認為體散射及其微弱。
(3)無粒子涂層/鍍層,即不含粒子的涂層/鍍層,利用涂層/鍍層的表面性能(如硬度、親疏水性),厚度與折射率搭配等,實現(xiàn)特定的功能,如抗刮、防霧、防污、增反、減反、波長選擇、偏振選擇等。但此種光學(xué)不具備散射調(diào)控性。
(4)常規(guī)體散射涂層,在現(xiàn)有的技術(shù)方案中,均沒有強調(diào)對表面散射干擾的控制以獲得高純度體散射光,也沒有意識到高純度體散射調(diào)控方式的優(yōu)勢。
因此,針對上述問題,有必要提出進一步的解決方案,以實現(xiàn)對特定輸入光的體散射調(diào)控。
發(fā)明內(nèi)容
為了實現(xiàn)對輸入光的調(diào)控,本發(fā)明提供一種調(diào)光片及其制備方法。該調(diào)光片能夠調(diào)控輸出光的光束形態(tài)和方向,使輸出光的光強分布曲線在坐標系(平面直角坐標系或極坐標系)中形成圖形,并同時降低調(diào)光層和基體表面散射的干擾。該調(diào)光片實現(xiàn)了對特定輸入光的特異性調(diào)控,使透射輸出光的光強分布曲線滿足特定分布形態(tài),同時嚴格控制表面散射的干擾。該調(diào)光片通過高純度體散射來特異性調(diào)控透射輸出光,同時降低了雜散光的比例,提高了調(diào)控精度,并使光強變化柔和,分布曲線過渡平滑,使輸出光更適合人眼和鏡頭觀看,也更適合作為新的輸入光源進行二次利用,尤其適合作為光學(xué)系統(tǒng)的信號源以便對其接收和解析。
所謂調(diào)控,調(diào)整的是光強分布,這包含兩個層面,一是光束的形態(tài),光強分布用圖形代碼大致區(qū)分,光束的彌散程度用光束角Φ2量化;二是光束的方向,用平均出射角θ2表示。光強分布和輸入光、調(diào)光層都有關(guān)系。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用下述技術(shù)方案:
本發(fā)明提供一種調(diào)光片,所述調(diào)光片包括調(diào)光層和基體,調(diào)光層置于基體的一個表面上;所述調(diào)光層和基體均具有入光面和出光面;調(diào)光層內(nèi)包含有光散射劑,所述光散射劑置于調(diào)光層的入光面和出光面之間。
所述光散射劑完全置于調(diào)光層的入光面和出光面之間。所述光散射劑不會突出于調(diào)光層的上下表面。所述光散射劑完全埋在調(diào)光層內(nèi)。
所述調(diào)光層的入光面為光滑平面,所述調(diào)光層的出光面為光滑平面;所述調(diào)光層的入光面的表面粗糙度Ra≤250nm,所述調(diào)光層的出光面的表面粗糙度Ra≤250nm;所述基體的入光面為光滑平面,所述基體的出光面為光滑平面;所述基體的入光面的表面粗糙度Ra≤250nm,所述基體的出光面的表面粗糙度Ra≤250nm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寧波激智科技股份有限公司,未經(jīng)寧波激智科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910439366.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





