[發(fā)明專利]一種調(diào)光片及其制備方法

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• 申請日: 2019-05-24
• 公開（公告）號: CN111435181A
• 公開（公告）日: 2020-07-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李剛;夏寅;劉志鵬;付坤;薛永富;唐海江;張彥
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波激智科技股份有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02
• 代理公司: 北京策略律師事務(wù)所 11546
• 代理人: 張華

1.一種調(diào)光片，其特征在于，所述調(diào)光片包括調(diào)光層和基體，調(diào)光層置于基體的一個表面上；所述調(diào)光層和基體均具有入光面和出光面；調(diào)光層內(nèi)包含有光散射劑，所述光散射劑置于調(diào)光層的入光面和出光面之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)光片，其特征在于，所述調(diào)光層的入光面的表面粗糙度Ra≤250nm，所述調(diào)光層的出光面的表面粗糙度Ra≤250nm；所述基體的入光面的表面粗糙度Ra≤250nm，所述基體的出光面的表面粗糙度Ra≤250nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)光片，其特征在于，所述調(diào)光層內(nèi)包括傳播介質(zhì)和光散射劑，所述光散射劑分散在傳播介質(zhì)中；所述調(diào)光層的入光面的表面粗糙度Ra250nm，所述調(diào)光層的出光面的表面粗糙度Ra250nm；所述基體的入光面的表面粗糙度Ra250nm，所述基體的出光面的表面粗糙度Ra250nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)光片，其特征在于，所述調(diào)光層的厚度T為0.5～5000μm；所述調(diào)光層的入光面的表面粗糙度Ra100nm，所述調(diào)光層的出光面的表面粗糙度Ra100nm；所述基體的入光面的表面粗糙度Ra100nm，所述基體的出光面的表面粗糙度Ra100nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的調(diào)光片，其特征在于，所述傳播介質(zhì)選自聚合物樹脂。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)光片，其特征在于，所述光散射劑的粒徑D選自0.1～50μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)光片，其特征在于，所述調(diào)光層的入光面的表面粗糙度Ra50nm，所述調(diào)光層的出光面的表面粗糙度Ra50nm；所述基體的入光面的表面粗糙度Ra50nm，所述基體的出光面的表面粗糙度Ra50nm。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)光片，其特征在于，所述光散射劑選自聚合物粒子或無機粒子中的一種或至少兩種的組合。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)光片，其特征在于，所述光散射劑在調(diào)光層中的填充率D’為0.0001～0.95。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)光片，其特征在于，所述基體選自無色透明的聚合物基體、或玻璃基體中的一種。

11.一種根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項所述的調(diào)光片的制備方法，其特征在于，所述方法包含下述步驟：

(1)將光散射劑均勻分散在聚合物樹脂原料中，形成預(yù)分散體；

(2)將步驟(1)得到的預(yù)分散體制成層狀體；

(3)將步驟(2)得到的層狀體固化，得到調(diào)光層；

(4)將步驟(3)的調(diào)光層和基體進行復(fù)合，得到所述調(diào)光片。

12.一種根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項所述的調(diào)光片的制備方法，其特征在于，所述方法包含下述步驟：

(1)將光散射劑均勻分散在聚合物樹脂原料中，形成預(yù)分散體；

(2)將步驟(1)得到的預(yù)分散體在基體的一個表面上形成層狀體；

(3)將步驟(2)得到的層狀體固化，直接得到所述調(diào)光片。