[發明專利]與西瓜短蔓基因Cldw1共分離的分子標記

有效

• 申請號: 201910434493.2
• 申請日: 2019-05-23
• 公開（公告）號: CN110157831B
• 公開（公告）日: 2022-11-22
• 發明（設計）人: 楊路明;孫守如;朱華玉;馬長生;楊森;胡建斌;劉東明;張敏娟
• 申請（專利權）人: 河南農業大學
• 主分類號: C12Q1/6895
• 分類號: C12Q1/6895;C12N15/11
• 代理公司: 鄭州聯科專利事務所(普通合伙) 41104
• 代理人: 時立新

本發明屬于西瓜遺傳育種技術領域，具體涉及與西瓜短蔓基因Cldw1共分離的分子標記專利申請事宜。該分子標記dCAPS3與西瓜短蔓基因Cldw1共分離，利用該分子標記來檢測判定西瓜莖蔓長度性狀。本申請中，以西瓜長蔓材料中WT4和西瓜短蔓材料WM102作為種質材料基礎，對西瓜短蔓基因Cldw1進行了精細定位，并找到了與短蔓性狀共分離的分子標記。利用這一結果，可為最終實現對Cldw1基因的克隆，進而為西瓜蔓長形成的分子機制研究奠定技術基礎。另一方面，由于該標記與西瓜短蔓基因Cldw1共分離，因此可直接用于西瓜短蔓材料的分子標記輔助育種，在西瓜短蔓新品種培育中具有較好的應用價值。

技術領域

本發明屬于西瓜遺傳育種技術領域，具體涉及與西瓜短蔓基因Cldw1共分離的分子標記專利申請事宜。

背景技術

近年來，設施栽培已成為我國西瓜栽培的主要方式之一，而設施栽培中西瓜主要采取吊蔓栽培方式，也因此，西瓜蔓長是品種選擇和株型表型選擇的主要考慮因素之一。現有西瓜主栽品種中，其主蔓表型普遍較長，可達2-4米，進而容易影響群體內的透光和通風條件，這樣不僅會降低植株光合效率，而且易導致病蟲害的傳播和蔓延，最終影響西瓜的產量和品質。生產上通常采用增大株行距、人工整枝打杈等方式來降低上述影響，但這種方法勢必將導致單位面積產量的降低和人力成本的上升。而短蔓植株株型緊湊、占用空間相對較少，具有適宜密植、單位面積產量高的優點；同時短蔓西瓜還具有便于管理、勞動成本低、單位面積經濟效益高的優勢。符合目前“輕簡化”栽培的需求，因此，短蔓株型已成為西瓜及其它葫蘆科植物株型改良的一個重要方向。

現有技術中，在水稻、玉米、小麥等農作物和豌豆、番茄等園藝作物上，目前對矮生種質資源的利用已取得了巨大成就。研究人員相繼利用矮生種質資源培育出了大批矮生優質新品種，明顯提高了作物產量和品質，其中矮生水稻品種的選育和推廣更是被作為“第一次綠色革命”的主要標志之一。而矮生基因的發掘和鑒定對矮生種質資源的利用具有極大推動作用，也因此，對矮生基因的研究一直是農業科學領域的重要研究內容之一。近年來，科研人員相繼在玉米、水稻、小麥等主要農作物上發現和分離了多個矮生基因。