[發明專利]一種制備金-硫化銀-磷酸鉛異質結納米薄膜的方法有效
| 申請號: | 201910431722.5 | 申請日: | 2019-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN110176389B | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發明(設計)人: | 潘宏程;李向葵;陳雯 | 申請(專利權)人: | 桂林理工大學 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L31/0336;B82Y10/00;B82Y15/00;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 541004 廣*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 硫化 磷酸 鉛異質結 納米 薄膜 方法 | ||
1.一種制備金-硫化銀-磷酸鉛異質結納米薄膜的方法,其特征在于具體步驟為:
(1)將事先裁好的ITO導電玻璃電極,分別經由分析純丙酮、分析純乙醇和二次水超聲清洗5 min,干燥后用萬能表測出導電面待用;
(2)依次量取1 mL濃度為0.2 mol/L Pb(NO3)2、1 mL濃度為0.2 mol/L EDTA、3.5 mL濃度為0.3 mol/L Na2S2O3和4 mL濃度為1.25 mol/L Na2SO4溶液置于20 mL燒杯中均勻混合,制得電沉積PbS薄膜的底液;
(3)在步驟(2)中制得的電沉積PbS薄膜的底液中建立三電極體系,其中,工作電極為步驟(1)中制得的導電玻璃電極,對電極為Pt電極,參比電極為Ag/AgCl電極,用循環伏安法進行電沉積,電位掃描范圍為-1.0 V ~ 0 V,掃描速度為0.05 V/s,掃描段數為40 ~ 120,電沉積結束后,將電極取出并用二次水沖洗干凈,空氣烘干后即可得到PbS薄膜;
(4)將步驟(3)制得的PbS薄膜置于250℃管式爐,氮氣氛圍中加熱1 h,待管式爐冷卻后將PbS薄膜取出;
(5)于20 mL的玻璃瓶中依次加入700 μL濃度為 0.02 mol/L的Na2HPO4溶液,80 μL濃度為0.01 mol/L的AgNO3溶液,100 μL質量分數為1%的十二烷基苯磺酸鈉溶液,7 mL二次水,制得生長Ag2S-Pb3(PO4)2薄膜的生長液,將步驟(4)中制得的PbS薄膜正面朝上放入生長溶液中,于60℃恒溫水浴中反應24 h后取出PbS薄膜,以二次水沖洗干凈,烘干即可得到Ag2S-Pb3(PO4)2薄膜;
(6)于20 mL的玻璃瓶中依次加入300 μL濃度為0.2 mol/L、pH為6的HAc-NaAc緩沖溶液,15 μL ~ 100 μL質量分數為 1% 的氯金酸溶液,80 μL濃度為0.2 mol/L的十六烷基三甲基氯化銨溶液,7 mL二次水,制得生長Au-Ag2S-Pb3(PO4)2薄膜的生長液,將步驟(5)中制得的Ag2S-Pb3(PO4)2薄膜置正面朝上放入該生長液中,于60 ℃恒溫水浴反應0.5 h ~ 24 h后取出,以二次水沖洗干凈,烘干即可得到Au-Ag2S-Pb3(PO4)2納米異質結薄膜。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于所述步驟(1)中的ITO導電玻璃為摻雜氧化銦錫的玻璃電極。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于桂林理工大學,未經桂林理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910431722.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





