[發明專利]光學測定裝置以及光學測定方法

有效

• 申請號: 201910414005.1
• 申請日: 2019-05-17
• 公開（公告）號: CN110500963B
• 公開（公告）日: 2022-02-11
• 發明（設計）人: 新家俊輝;川口史朗;井上展幸
• 申請（專利權）人: 大塚電子株式會社
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

本公開涉及一種光學測定裝置以及光學測定方法，其要解決的問題在于，在對試樣中的一方的表面照射光的光學測定裝置中，測定探頭與試樣之間的距離和試樣的膜厚。本公開的厚度測定裝置包括：探頭，包括具有參照面的透射光學構件，經由所述參照面將光照射至試樣，接受來自所述參照面的第一反射光、來自所述試樣的表面的第二反射光以及來自所述試樣的背面的第三反射光；以及運算部，使用由所述第一反射光和所述第二反射光產生的第一反射干渉光，計算出從所述參照面到所述試樣的表面的第一距離，使用由所述第二反射光和所述第三反射光產生的第二反射干渉光，計算出所述試樣的厚度。

技術領域

本公開涉及一種光學測定裝置以及光學測定方法。

背景技術

以往，例如下述專利文獻1公開了一種光學測定裝置，從探頭對試樣中的一方的表面照射光，通過分析該反射光，計算出試樣的膜厚。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009-92454號公報

發明內容

發明所要解決的問題

但是，以往的光學測定裝置存在無法計測探頭與試樣之間的距離的問題。

本公開是鑒于上述實際情況而完成的，其目的在于，在對試樣中的一方的表面照射光的光學測定裝置中，測定探頭與試樣之間的距離和試樣的膜厚。

用于解決問題的方案

為了解決上述問題，本公開的光學測定裝置包括：探頭，包括具有參照面的透射光學構件，經由所述參照面將光照射至試樣，接受來自所述參照面的第一反射光、來自所述試樣的表面的第二反射光以及來自所述試樣的背面的第三反射光；以及運算部，使用由所述第一反射光和所述第二反射光產生的第一反射干渉光，計算出從所述參照面到所述試樣的表面的第一距離，使用由所述第二反射光和所述第三反射光產生的第二反射干渉光，計算出所述試樣的厚度。

此外，本公開的光學測定方法為使用包括具有參照面的透射光學構件的探頭的光學測定方法，其中，使用所述探頭，經由所述參照面將光照射至試樣，使所述探頭接受來自所述參照面的第一反射光、來自所述試樣的表面的第二反射光以及來自所述試樣的背面的第三反射光，使用由所述第一反射光和所述第二反射光產生的第一反射干渉光，計算出從所述參照面到所述試樣的表面的第一距離，使用由所述第二反射光和所述第三反射光產生的第二反射干渉光，計算出所述試樣的厚度。

附圖說明

圖1為表示第一實施方式的光學測定裝置的概略構成的示意圖。

圖2A為表示第一實施方式的光學測定裝置中的臺與探頭的配置關系的示意圖。

圖2B為表示第一實施方式的光學測定裝置中的臺與探頭的配置關系的示意圖。

圖3為表示第一實施方式的光學測定裝置所取得的反射率光譜的示意圖。

圖4為表示第一實施方式的光學測定裝置所取得的功率譜的示意圖。

圖5為表示第一實施方式的光學測定裝置中的臺、探頭與試樣的配置關系的示意圖。

圖6為表示第一實施方式的光學測定方法中的計算出第三距離的方法的流程圖。

圖7為表示第一實施方式的光學測定裝置所取得的反射率光譜的示意圖。

圖8為表示第一實施方式的光學測定裝置所取得的功率譜的示意圖。

圖9為表示第一實施方式中的光學測定方法所得的測定結果的曲線圖。

圖10為表示第一實施方式中的光學測定裝置的分光器的內部構造的示意圖。