[發明專利]光學測定裝置以及光學測定方法

有效

• 申請號: 201910414005.1
• 申請日: 2019-05-17
• 公開（公告）號: CN110500963B
• 公開（公告）日: 2022-02-11
• 發明（設計）人: 新家俊輝;川口史朗;井上展幸
• 申請（專利權）人: 大塚電子株式會社
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

1.一種光學測定裝置，其包括：

探頭，包括具有參照面的透射光學構件，經由所述參照面將光照射至試樣，接受來自所述參照面的第一反射光、來自所述試樣的表面的第二反射光以及來自所述試樣的背面的第三反射光；

分光器，測定包括由所述第一反射光和所述第二反射光產生的第一反射干渉光以及由所述第二反射光和所述第三反射光產生的第二反射干渉光的測定反射光的光譜；以及

運算部，使用所述第一反射干渉光，計算出從所述參照面到所述試樣的表面的第一距離，使用所述第二反射干渉光，計算出所述試樣的厚度，

所述透射光學構件的光學厚度比由所述分光器的測定波長范圍的上限值和波長分辨率規定的相干光學厚度的上限值大。

2.根據權利要求1所述的光學測定裝置，其中，

所述光具有透射過所述試樣的波長。

3.根據權利要求1所述的光學測定裝置，其中，

使配置有所述試樣的臺與所述探頭中的至少一方沿第一方向移動，而且所述探頭通過將所述光照射至所述試樣，在所述第一方向上的多個位置接受所述第一反射光、所述第二反射光以及所述第三反射光，

所述運算部在所述第一方向上的所述多個位置計算出所述第一距離和所述試樣的厚度。

4.根據權利要求3所述的光學測定裝置，其中，

使所述臺與所述探頭中的至少一方沿與所述第一方向交叉的第二方向移動，而且

所述探頭通過將所述光照射至所述試樣，在所述第二方向上的多個位置接受所述第一反射光、所述第二反射光以及所述第三反射光，

所述運算部在所述第二方向上的所述多個位置計算出所述第一距離和所述試樣的厚度。

5.一種光學測定裝置，其包括：

探頭，包括具有參照面的透射光學構件，經由所述參照面將光照射至試樣，接受來自所述參照面的第一反射光、來自所述試樣的表面的第二反射光以及來自所述試樣的背面的第三反射光；以及

運算部，使用由所述第一反射光和所述第二反射光產生的第一反射干渉光，計算出從所述參照面到所述試樣的表面的第一距離，使用由所述第二反射光和所述第三反射光產生的第二反射干渉光，計算出所述試樣的厚度，

在所述試樣沒有配置于臺的狀態下，

所述探頭經由所述參照面將光照射至所述臺，接受所述第一反射光以及來自所述臺的表面的第四反射光，

所述運算部使用由所述第一反射光和所述第四反射光產生的第三反射干渉光，計算出從所述參照面到所述臺的第二距離，

將所述第二距離設為加法要素，將所述第一距離以及所述試樣的厚度設為減法要素，計算出所述試樣的背面與所述臺之間的第三距離。

6.根據權利要求5所述的光學測定裝置，其中，

在所述試樣沒有配置于所述臺的狀態下，

使所述臺與所述探頭中的至少一方沿第一方向移動，而且

所述探頭通過將所述光照射至所述臺，在所述第一方向上的多個位置接受所述第一反射光以及所述第四反射光，

在所述試樣設置于所述臺的狀態下，

使所述臺與所述探頭中的至少一方沿第一方向移動，而且

所述探頭通過將所述光照射至所述試樣，在與所述第四反射光的受光位置對應的多個位置接受所述第一反射光、所述第二反射光以及所述第三反射光，

所述運算部在所述第一方向上的所述多個位置計算出所述試樣的厚度、所述第一距離、所述第二距離以及所述第三距離。