[發明專利]掩模板溫度控制裝置和掩模曝光裝置

有效

• 申請號: 201910409932.4
• 申請日: 2019-05-16
• 公開（公告）號: CN111948907B
• 公開（公告）日: 2022-01-28
• 發明（設計）人: 張明輝;周劍鋒;鄭鋒標;張帥
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明公開了一種掩模板溫度控制裝置和掩模曝光裝置。此掩模板溫度控制裝置包括：氣體溫控單元、氣體輸送單元和掩模存放單元；所述氣體輸送單元用于向所述掩模存放單元輸送氣浴氣體，所述氣體溫控單元用于將所述氣體輸送單元傳輸至所述掩模存放單元的氣浴氣體的溫度變化范圍調節至預設溫度范圍；其中，所述掩模存放單元包括版架主體和隔板，所述隔板固定在所述版架主體內，相鄰兩個所述隔板中間形成容納空間，所述容納空間用于放置掩模板。本發明的技術方案可降低掩模板溫度控制難度。

技術領域

本發明實施例涉及光刻設備技術領域，尤其涉及一種掩模板溫度控制裝置和掩模曝光裝置。

背景技術

隨著半導體技術的發展，以及高科技設備朝著小巧、精致以及復雜的方向發展，對集成電路的線寬提出更高的要求，由此，要求光刻機需要更高的套刻分辨率，而光刻機的套刻分辨率受到機械、光學、溫度以及潔凈度等因素的影響，上述因素的微小變化都有可能影響光刻機的套刻分辨率。

光刻機的整機結構中，掩模傳輸模塊為光刻機內部實現掩模板由掩模存放單元轉接至掩模單元的唯一模塊，其上版的溫度精度直接影響套刻分辨率，因此，在掩模傳輸區域設置掩模板溫控單元以保證上版的溫度尤為重要。但是，掩模板材質通常為低膨脹石英玻璃，其導熱換熱效率較低，導致掩模板溫度控制較為困難。

發明內容

本發明提供一種掩模板溫度控制裝置和掩模曝光裝置，以降低掩模板溫度控制難度。

本發明實施例提出一種掩模板溫度控制裝置，該掩模板溫度控制裝置包括：氣體溫控單元、氣體輸送單元和掩模存放單元；

所述氣體輸送單元用于向所述掩模存放單元輸送氣浴氣體，所述氣體溫控單元用于將所述氣體輸送單元傳輸至所述掩模存放單元的氣浴氣體的溫度變化范圍調節至預設溫度范圍；

其中，所述掩模存放單元包括版架主體和隔板，所述隔板固定在所述版架主體內，相鄰兩個所述隔板中間形成容納空間，所述容納空間用于放置掩模板。

進一步地，所述掩模存放單元還包括掩模支撐件；

每個所述隔板的承載面分別設置多個所述掩模支撐件；

所述掩模支撐件用于支撐放置于所述容納空間中的掩模板，以及用于固定所述隔板。

進一步地，所述掩模支撐件包括連接件和圓柱支撐體；所述版架主體包括輔助固定平臺；

所述連接件的第一端與所述輔助固定平臺固定連接，所述連接件的第二端與所述輔助固定平臺的臺面之間設置有固定間隙，所述固定間隙用于固定所述隔板；

所述圓柱支撐體的一端設置于所述連接件背離與其固定的輔助固定平臺的一側，所述圓柱支撐體的另一端用于支撐所述掩模板。

進一步地，所述隔板為直板結構；

所述隔板的邊側被所述固定間隙夾緊固定。

進一步地，所述預設溫度閾值范圍為22±0.05℃。

進一步地，所述氣體溫控單元包括熱交換器，所述熱交換器設置于所述氣體輸送單元的傳輸路徑中；

所述熱交換器用于將所述氣體輸送單元所傳輸的氣體的溫度穩定至所述第一溫度閾值范圍。

進一步地，該掩模板溫度控制裝置還包括溫度傳感器；所述溫度傳感器設置于所述氣體輸送單元中，且位于所述氣體溫控單元與所述氣體輸送單元的出氣口之間，和/或所述溫度傳感器設置于所述掩模存放單元中。

進一步地，所述熱交換器為管殼式熱交換器；

所述管殼式熱交換器中流通有導熱流體，所述導熱流體的流向與所述氣體在所述氣體輸送單元中的傳輸方向相反。