[發明專利]鍍膜機散熱系統的清洗裝置及清洗方法

在審

• 申請號: 201910406501.2
• 申請日: 2019-05-16
• 公開（公告）號: CN110129760A
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 鄧榮斌;王光華;段良飛;張麗娟;高思博;馬興民;段堯;魯朝宇;季華夏
• 申請（專利權）人: 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/30;C23C16/44;C23G1/02;C23G1/14;C23G3/00
• 代理公司: 昆明祥和知識產權代理有限公司 53114
• 代理人: 張亦凡

1.鍍膜機散熱系統的清洗裝置，其特征在于該裝置由進液清洗系統和循環再清洗系統組成，其中：

所述進液清洗系統，包括相互連通的加壓電機和進液主管道，進液主管道上安裝若干進液閥門，進液閥門上設置有轉換接頭，通過轉換接頭與各清洗管道分支連接；

所述循環再清洗系統，包括相互連通的儲液罐和回液主管道，儲液罐與加壓電機通過循環管道連接，所述循環管道上設置有循環閥門；回液主管道上安裝若干回液閥門，回液閥門上設置有轉換接頭，通過轉換接頭與各清洗管道分支連接。

2.如權利要求1所述的鍍膜機散熱系統的清洗裝置，其特征在于儲液罐外設置有水浴鍋。

3.如權利要求1所述的鍍膜機散熱系統的清洗裝置，其特征在于進液閥門、回液閥門及循環閥門采用智能控制閥。

4.如權利要求1所述的鍍膜機散熱系統的清洗裝置，其特征在于加壓電機、進液閥門、回液閥門及循環閥門與上位機連接，實現智能控制。

5.鍍膜機散熱系統的清洗裝置用于清洗電子束蒸鍍機，其特征在于共使用四個清洗管道分支，分別為電子槍坩堝散熱分支、腔體散熱分支、膜厚儀散熱分支及低溫泵散熱分支，清洗方法如下：

電子槍坩堝散熱分支單獨清洗，以純水作為前期沖刷劑，以H₂SO₃作為中期清洗劑，以Ca(OH)₂作為后期清洗劑，純水作為最后的沖刷劑；

其余分支整體清洗，前期以純水作為沖刷劑，中期以H₂C₂O₄作為清洗劑，后期以NH₃·H₂O溶液作為清洗劑，純水作為最后的沖刷劑。

6.如權利要求5所述的鍍膜機散熱系統的清洗裝置用于清洗電子束蒸鍍機，其特征在于通過如下步驟完成電子束蒸鍍機散熱系統的清洗：

關閉設備所有工作系統，對電子槍放電，取下石英晶振片，腔體真空恢復到大氣壓，確保設備處于安全清洗狀態；

連接儲液罐，設定電子槍坩堝散熱分支上的進液閥門、回液閥門及循環閥門為工作狀態，設定前期純水沖刷溫度為60℃，壓力為0.2MPa，流速1.6L/S，沖刷時間10分鐘，運行清洗程序，沖刷沉積在管道內的沉積物；

更換儲液罐，將H₂SO₃：純水為1:60的H₂SO₃水溶液盛放到儲液罐中，設定H₂SO₃水溶液清洗溫度為10℃，壓力為0.4MPa，流速2.6L/S，反應時間20分鐘，運行清洗程序，溶解沉積在管道內以Fe₂O₃·nH₂O、Cu₂(OH)₂CO₃為主的腐蝕產物；

更換儲液罐，將Ca(OH)₂：純水為1:60的Ca(OH)₂水溶液盛放到儲液罐中，設定Ca(OH)₂水溶液清洗溫度為30℃，壓力為0.4MPa，流速2.6L/S，反應時間20分鐘，運行清洗程序，中和殘留在管道內的H₂SO₃水溶液；

更換儲液罐，將純水盛放到儲液罐中，設定純水沖刷溫度為30℃，壓力為0.2MPa，流速1.6L/S，沖刷時間10分鐘，運行清洗程序，沖刷完畢后電子槍坩堝散熱分支清洗完成；

更換儲液罐，關閉電子槍坩堝散熱分支的進液閥門和回液閥門，設定腔體散熱分支、膜厚儀散熱分支及低溫泵散熱分支上的進液閥門、回液閥門及循環閥門為工作狀態，設定前期純水沖刷溫度為20℃，總壓力為0.6MPa，總流速3.6L/S，沖刷時間20分鐘，運行清洗程序，沖刷沉積在各散熱分支內的沉積物；

更換儲液罐，將H₂C₂O₄：純水為1:30的H₂C₂O₄水溶液盛放到儲液罐中，設定H₂C₂O₄水溶液清洗溫度為15℃，總壓力為0.5MPa，總流速3L/S，反應時間30分鐘，運行清洗程序，溶解沉積在管道內以Fe₂O₃·nH₂O為主的腐蝕產物；

更換儲液罐，將NH₃·H₂O：純水為1:30的NH₃·H₂O水溶液盛放到儲液罐中，設定NH₃·H₂O水溶液清洗溫度為15℃，總壓力為0.5MPa，總流速3L/S，反應時間30分鐘，運行清洗程序，中和殘留在管道內的H₂C₂O₄水溶液；

更換儲液罐，將純水盛放到儲液罐中，設定純水沖刷溫度為15℃，總壓力為0.6MPa，總流速3.6L/S，沖刷時間20分鐘，運行清洗程序，程序運行完畢整個電子束蒸鍍機散熱系統清洗完成。