[發(fā)明專利]改善光學(xué)膠保護(hù)膜難撕離的淺刀痕刀模在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910405438.0 | 申請日： | 2019-05-15 |
| 公開（公告）號： | CN110053098A | 公開（公告）日： | 2019-07-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王鼎;吳光閔;葛晨陽;鄭偉;楊兵 | 申請（專利權(quán)）人： | 業(yè)成科技（成都）有限公司;業(yè)成光電（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B26F1/44 | 分類號： | B26F1/44;B26D3/08 |
| 代理公司： | 成都希盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51226 | 代理人： | 楊冬梅;張行知 |
| 地址： | 611730 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 刀痕 起始角 位置處 撕膜 光學(xué)膠膜 刀模 離型層 撕離 框形刀片 保護(hù)膜 光學(xué)膠 刀刃 刀模裁切 光學(xué)膠層 不良率 裁切 溢膠 | ||
1.一種改善光學(xué)膠保護(hù)膜難撕離的淺刀痕刀模，其特征在于，包括：
一裁切光學(xué)膠膜之刀模，該刀模設(shè)有一近矩形之框形刀片，該框形刀片在對應(yīng)一光學(xué)膠膜之重離型層之撕膜起始角位置處設(shè)有刀刃較其他區(qū)域刀刃高之淺刀痕區(qū)域，使經(jīng)該刀模裁切后之光學(xué)膠膜，該光學(xué)膠膜之重離型層之撕膜起始角位置處，產(chǎn)生之刀痕會較淺，并在該撕膜起始角位置處之該光學(xué)膠膜的光學(xué)膠層溢進(jìn)刀痕中之情況減少。
2.如權(quán)利要求1所述之改善光學(xué)膠保護(hù)膜難撕離的淺刀痕刀模，其中該框形刀片在撕膜起始角位置處設(shè)有刀刃較其他區(qū)域刀刃高10～15um之淺刀痕區(qū)域。
3.如權(quán)利要求1所述之改善光學(xué)膠保護(hù)膜難撕離的淺刀痕刀模，其中該撕膜起始角位置處位于該重離型層之左上角。
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