[發明專利]改善光學膠保護膜難撕離的淺刀痕刀模在審
| 申請號: | 201910405438.0 | 申請日: | 2019-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN110053098A | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發明(設計)人: | 王鼎;吳光閔;葛晨陽;鄭偉;楊兵 | 申請(專利權)人: | 業成科技(成都)有限公司;業成光電(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B26F1/44 | 分類號: | B26F1/44;B26D3/08 |
| 代理公司: | 成都希盛知識產權代理有限公司 51226 | 代理人: | 楊冬梅;張行知 |
| 地址: | 611730 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 刀痕 起始角 位置處 撕膜 光學膠膜 刀模 離型層 撕離 框形刀片 保護膜 光學膠 刀刃 刀模裁切 光學膠層 不良率 裁切 溢膠 | ||
一種改善光學膠保護膜難撕離的淺刀痕刀模,包括有:一裁切光學膠膜(OCA)之刀模;該刀模設一框形刀片,該框形刀片在對應一光學膠膜之重離型層之撕膜起始角位置處設有刀刃較其他區域刀刃高之淺刀痕區域;藉此,經該刀模裁切后之光學膠膜,該重離型層之撕膜起始角位置處,產生之刀痕會較淺,令在該撕膜起始角位置處之該光學膠膜的光學膠層溢進刀痕中之情況大幅減少,使該撕膜起始角位置處溢膠沾黏之情況會明顯減弱,進而由該撕膜起始角位置處進行撕離該重離型層時,不良率大幅度降低。
技術領域
本發明系一種改善光學膠保護膜難撕離的淺刀痕刀模,尤指一種在撕膜起始角位置具有 淺刀痕設計,達到降低撕膜的不良率。
背景技術
按,一般習知之光學膠膜(OCA)結構,請參閱第1圖所示,其系包含有:一光學膠層11、 一重離型層12以及一輕離型層13,該光學膠層11設有相對之上表面111、下表面112,而該重離型層12系覆蓋于該光學膠層11之上表面111,該輕離型層13則覆蓋于該光學膠層11之下表面112,令可由輕離型層13處方便進行撕除即可進行壓合使用。
然而,光學膠膜之撕膜(撕離該重離型層12)失效的問題在各類制程中均有出現過或一直 存在(重離型層12因離型力相較輕離型層13更大,撕離難度會更高),請參閱圖2、圖3、 圖4所示,其主要原因是,為保證光學膠膜制造時在裁切過程中可被裁斷,該重離型層12上 會因裁切而留下一圈刀痕線121(如圖2所示),令光學膠膜之光學膠層11的邊緣有較大可能 性溢進該重離型層12之刀痕122中(如第3圖所示),導致該重離型層12之撕膜起始位置, 亦有光學膠層11溢進該重離型層12之刀痕122中(如圖3所示),而造成撕離該重離型層12 時,該重離型層12對抗剝離的阻力會增大(即該光學膠膜黏貼于一吸附于一真空吸附平臺21 之處理器22上,進行撕離該重離型層12時,該重離型層12對抗剝離的阻力會增大),而增 加撕膜失效的風險(如圖4所示)。
由此可見,上述習用物品仍有諸多缺失,實非一良善之設計者,而亟待加以改良。
發明內容
有鑒于此,本案發明人本于多年從事相關產品之制造開發與設計經驗,針對上述之目標, 詳加設計與審慎評估后,終得一確具實用性之本發明。
本發明之目的,在提供一種改善光學膠保護膜難撕離的淺刀痕刀模,系在撕膜起始角位 置具有淺刀痕設計,達到降低撕膜的不良率。
根據上述之目的,本發明之改善光學膠保護膜難撕離的淺刀痕刀模,其主要系包括有: 一裁切光學膠膜(OCA)之刀模;其中,該刀模設有一近矩形之框形刀片,該框形刀片具有一刀 身,該刀身前端具有一刀刃,該框形刀片在對應一光學膠膜之重離型層之撕膜起始角位置處 設有刀刃較其他區域刀刃高之淺刀痕區域;藉此,經該刀模裁切后之光學膠膜,該光學膠膜 之重離型層之撕膜起始角位置處,產生之刀痕會較淺(幾乎消失不可見),令在該撕膜起始角 位置處之該光學膠膜的光學膠層溢進刀痕中之情況大幅減少,使該撕膜起始角位置處溢膠沾 黏之情況會明顯減弱,如此,由該撕膜起始角位置處進行撕離該重離型層時,不良率大幅度 降低,達到降低撕膜不良率的目的。
為便貴審查委員能對本發明之目的、形狀、構造裝置特征及其功效,做更進一步之認識 與了解,茲舉實施例配合圖式,詳細說明如下:
附圖說明
圖1為現有技術之光學膠膜之外觀示意圖。
圖2為現有技術之光學膠膜之正面示意圖。
圖3為現有技術之光學膠膜之部分剖面圖。
圖4為現有技術之光學膠膜進行撕膜之示意圖。
圖5為本發明刀模之外觀示意圖。
圖6為本發明在重離型層產生淺刀痕之示意圖。
圖7為現有技術之撕膜角未做淺刀痕處理的光學膠膜(OCA)撕重膜(重離型層)剝離力之 實驗數據圖。
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