[發(fā)明專利]SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng)及其脫硝方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910403141.0 | 申請日: | 2019-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN110052162A | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 肖雨亭;陸金豐;周鳳翔;徐光輝;白偉;陳波 | 申請(專利權(quán))人: | 北京國電龍源環(huán)保工程有限公司;江蘇龍源催化劑有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/86 | 分類號: | B01D53/86;B01D53/88;B01D53/56 |
| 代理公司: | 北京中建聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11004 | 代理人: | 李丹;王靈靈 |
| 地址: | 100039 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 催化劑模塊 催化劑層 脫硝催化劑 脫硝反應(yīng)器 水平排布 矩陣式 脫硝 上下錯位設(shè)置 方向間隔 交錯排布 上下對應(yīng) 使用壽命 脫硝效率 煙氣流動 煙氣流速 煙氣通道 導(dǎo)向件 隔層 同排 煙氣 連通 流通 | ||
1.SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),包括奇數(shù)催化劑層(1)和偶數(shù)催化劑層(2),奇數(shù)催化劑層(1)和偶數(shù)催化劑層(2)的數(shù)量均不少于1層,且沿?zé)煔饬鲃臃较蜷g隔交錯排布,其特征在于:所述奇數(shù)催化劑層(1)包括多個沿脫硝反應(yīng)器橫截面、呈矩陣式水平排布的催化劑模塊A(11),催化劑模塊A(11)通過連接導(dǎo)向件(3)與隔層的催化劑模塊A(11)連通形成第一煙氣通道;偶數(shù)催化劑層(2)包括多個沿脫硝反應(yīng)器橫截面、呈矩陣式水平排布的催化劑模塊B(21),催化劑模塊B(21)的排間距與催化劑模塊A(11)一致且上下對應(yīng)設(shè)置,同排對應(yīng)設(shè)置的催化劑模塊B(21)與上方的催化劑模塊A(11)上下錯位設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),其特征在于:所述催化劑模塊A(11)和催化劑模塊B(21)均為長方體模塊,催化劑模塊B(21)的寬度為催化劑模塊A(11)寬度的0.5~1.0倍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),其特征在于:同排相鄰所述催化劑模塊A(11)之間的最小距離小于催化劑模塊A(11)的寬度設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),其特征在于:同排相鄰所述催化劑模塊A(11)之間的最小距離為催化劑模塊A(11)寬度的0.1~1倍,催化劑模塊A(11)的排間距不大于催化劑模塊A(11)的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),其特征在于:所述奇數(shù)催化劑層(1)與偶數(shù)催化劑層(2)之間的最小層間距小于催化劑模塊B(21)的高度設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),其特征在于:所述連接導(dǎo)向件(3)為由平面板或弧面板圍合而成的斗狀結(jié)構(gòu),所述連接導(dǎo)向件(3)的大口徑邊沿與催化劑模塊A(11)的上邊沿或下邊沿相配合并密封連接,小口徑端與相鄰偶數(shù)催化劑層(2)的催化劑模塊B(21)之間的空隙處對齊,且小口徑邊沿與相鄰催化劑模塊B(21)的相對邊沿連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),其特征在于:所述催化劑模塊A(11)的豎向中軸線與相鄰兩個催化劑模塊B(21)的幾何中心連線的中點重疊設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng),其特征在于:所述催化劑模塊A(11)和催化劑模塊B(21)均包括模塊框架和內(nèi)部填充的催化劑,所述連接導(dǎo)向件(3)與模塊框架可拆卸固定。
9.權(quán)利要求1-8任意一項所述的SCR脫硝反應(yīng)器中的脫硝催化劑系統(tǒng)的脫硝方法,其特征在于:包括以下步驟:
步驟一、高溫?zé)煔膺M入SCR脫硝反應(yīng)器后,與NH3混合;
步驟二、混合氣分流,部分進入第一個奇數(shù)催化劑層(1)的催化劑模塊A(11)內(nèi),通過催化劑模塊A(11)后經(jīng)由連接導(dǎo)向件(3)直接進入第二個奇數(shù)催化劑層(1)的催化劑模塊A(11)內(nèi),在相對封閉的第一煙氣通道內(nèi)進行脫硝反應(yīng);
步驟三、同時,部分混合氣直接進入第一個偶數(shù)催化劑層(2)的催化劑模塊B(21)內(nèi),通過催化劑模塊B(21)后沿連接導(dǎo)向件(3)的外側(cè)直接進入第二個偶數(shù)催化劑層(2)的催化劑模塊B(21)內(nèi),僅在催化劑模塊B(21)內(nèi)進行脫硝反應(yīng);
步驟四、在不同煙氣通道內(nèi)完成脫硝的凈化煙氣在催化劑層下方混合后,排出SCR脫硝反應(yīng)器。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京國電龍源環(huán)保工程有限公司;江蘇龍源催化劑有限公司,未經(jīng)北京國電龍源環(huán)保工程有限公司;江蘇龍源催化劑有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910403141.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:VOC光催化處理系統(tǒng)
- 下一篇:一種新型水泥窯脫硝除塵裝置





