[發(fā)明專利]一種直寫光刻機(jī)構(gòu)及其曝光方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910379065.4
• 申請(qǐng)日: 2019-05-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110187607A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-08-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李偉成;張雷
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種直寫光刻機(jī)構(gòu)，其包括光源模組、曝光系統(tǒng)和放置待曝光基板的基板平臺(tái)，曝光模組將光源模組的光線投影到所述基板上，其特征在于：其還包括至少一個(gè)升溫裝置，所述升溫裝置包括熱源，所述熱源投射熱能量至所述基板，使得所述基板的溫度升高。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述熱源為投射光源。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述投射光源為紅外線光源。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述投射光源的光線通過(guò)曝光系統(tǒng)投射至所述基板。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述投射光源的光線通過(guò)光源系統(tǒng)和曝光系統(tǒng)投射至所述基板。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述升溫裝置包括微反射鏡陣列，所述投射光源的光線通過(guò)所述微反射鏡反射至所述基板。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述熱源投射的區(qū)域?yàn)樗龇胖糜谒龌迤脚_(tái)上的基板即將要進(jìn)行曝光的區(qū)域，或者正在進(jìn)行曝光的區(qū)域，或者曝光完成的區(qū)域，或者上述區(qū)域的任意兩個(gè)區(qū)域，或者同時(shí)包含上述三個(gè)區(qū)域。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述熱源投射的區(qū)域可以與所述投影鏡頭一次曝光投影的區(qū)域重合，或者所述熱源投射的區(qū)域的面積是所述投影鏡頭一次曝光投影區(qū)域面積的整數(shù)倍。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述升溫裝置還包括控制器，所述控制器控制所述熱源的功率和投射區(qū)域。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述熱源包含多個(gè)單元熱源。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述單元熱源的投射區(qū)域的組合為所述熱源的投射區(qū)域。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述單元熱源的投射區(qū)域與所述熱源的投射區(qū)域相同。

13.根據(jù)權(quán)利要求1-12任一所述的直寫光刻機(jī)構(gòu)的曝光方法，其特征在于：在所述曝光系統(tǒng)對(duì)所述基板進(jìn)行曝光的同時(shí)，所述升溫裝置預(yù)加熱所述即將進(jìn)行曝光的基板的相應(yīng)區(qū)域，或者所述升溫裝置在所述曝光系統(tǒng)曝光的同時(shí)加熱相應(yīng)的曝光區(qū)域，或者所述升溫裝置在所述曝光系統(tǒng)曝光后加熱相應(yīng)的區(qū)域，或者所述升溫裝置對(duì)所述三個(gè)區(qū)域的任意組合的區(qū)域進(jìn)行加熱。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的曝光方法，其特征在于：所述升溫裝置根據(jù)投影圖形的不同，控制所述熱源投影至所述曝光區(qū)域的熱能量的不同。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的曝光方法，其特征在于：所述升溫裝置根據(jù)所述光刻膠的材料不同，所述熱源的波長(zhǎng)不同等差異特性，調(diào)整所述熱源的功率。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的曝光方法，其特征在于：所述升溫裝置的控制器控制所述單元熱源的投射區(qū)域和/或者所述單元投射光源的功率。

17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的曝光方法，其特征在于：所述升溫裝置的控制器控制所述單元熱源的開(kāi)啟和關(guān)閉。