[發明專利]區域日照分析方法、裝置、設備和存儲介質

有效

• 申請號: 201910376565.2
• 申請日: 2019-05-07
• 公開（公告）號: CN110110438B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發明（設計）人: 丁偉;劉從豐
• 申請（專利權）人: 洛陽眾智軟件科技股份有限公司
• 主分類號: G06F30/13
• 分類號: G06F30/13;G06F111/04
• 代理公司: 北京細軟智谷知識產權代理有限責任公司 11471
• 代理人: 付登云

本發明涉及一種區域日照分析方法、裝置、設備和存儲介質，該方法包括：獲取目標分析區域內的采樣點以及遮擋集，遮擋集包括能對目標分析區域產生遮擋的建筑模型集合，建筑模型集合包括預先指定待調整的第一建筑模型和預先指定無需調整的第二建筑模型；計算第一建筑模型調整后的第一日照約束時間集合，和，目標分析區域的初始日照約束時間集合與第二建筑模型的日照約束時間集合的共有時間集合，得到第二日照約束時間集合，初始日照約束時間集合包括目標分析區域沒有任何建筑遮擋時各個采樣點的日照約束時間集合；計算第一日照約束時間集合和第二日照約束時間集合的共有時間集合，以得到目標日照約束時間集合。提高了建筑模型微調時日照分析的效率。

技術領域

本發明涉及日照分析技術領域，具體涉及一種區域日照分析方法、裝置、設備和存儲介質。

背景技術

日照分析是指，具有相關資質的專業技術部門利用分析軟件，在指定日期進行模擬計算某一層建筑或高層建筑群對其北側某一規劃、或保留地塊的建筑、建筑部分層析的日照影響情況或日照時數

在實際的設計規劃過程中，需要不斷調節建筑模型，以滿足設計時的日照需求。例如，通過調節建筑模型，改變建筑的位置、角度以及高度的拉伸，來滿足日照需求。

在建筑設計階段，往往需要根據建筑模型對周邊環境的日照影響對建筑模型進行多次微調，現有技術中，在建筑模型每次微調后，需要重新對該建筑模型對周邊環境的日照影響，例如，某些建筑模型沒進行微調，在重新計算微調的建筑模型對周邊日照的影響時，也需要將其對日照的影響進行計算。這樣，重復進行日照分析，降低了工作效率，浪費了大量的人力和時間。

發明內容

有鑒于此，提供一種區域日照分析方法、裝置、設備和存儲介質，以解決現有技術中的當建筑模型微調后重復計算日照分析帶來的工作效率低、浪費人力和時間的問題。

第一方面，本申請實施例提供了一種區域日照分析方法，該方法包括：

獲取目標分析區域內的采樣點以及遮擋集，所述遮擋集包括能對所述目標分析區域產生遮擋的建筑模型集合，所述建筑模型集合包括預先指定待調整的第一建筑模型和預先指定無需調整的第二建筑模型；

計算所述第一建筑模型調整后的第一日照約束時間集合，以及，所述目標分析區域的初始日照約束時間集合與所述第二建筑模型的日照約束時間集合的共有時間集合，以得到第二日照約束時間集合，其中，所述初始日照約束時間集合包括目標分析區域沒有任何建筑遮擋時各個采樣點的日照約束時間集合；

計算所述第一日照約束時間集合和所述第二日照約束時間集合的共有時間集合，以得到目標日照約束時間集合。

第二方面，本申請實施例提供了一種區域日照分析裝置，該裝置包括：

獲取模塊，用于獲取目標分析區域內的采樣點以及遮擋集，所述遮擋集包括能對所述目標分析區域產生遮擋的建筑模型集合，所述建筑模型集合包括預先指定待調整的第一建筑模型和預先指定無需調整的第二建筑模型；

第一計算模塊，用于計算所述第一建筑模型調整后的第一日照約束時間集合，以及，所述目標分析區域的初始日照約束時間集合與所述第二建筑模型的日照約束時間集合的共有時間集合，以得到第二日照約束時間集合，其中，所述初始日照約束時間集合包括目標分析區域沒有任何建筑遮擋時各個采樣點的日照約束時間集合；

第二計算模塊，用于計算所述第一日照約束時間集合和所述第二日照約束時間集合的共有時間集合，以得到目標日照約束時間集合。

第三方面，本申請實施例提供了一種設備，該設備包括：

處理器，以及與所述處理器相連接的存儲器；

所述存儲器用于存儲計算機程序，所述計算機程序至少用于執行本申請實施例第一方面所述的區域日照分析方法；