[發(fā)明專利]區(qū)域日照分析方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910376565.2
• 申請(qǐng)日: 2019-05-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110110438B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丁偉;劉從豐
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 洛陽(yáng)眾智軟件科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G06F30/13
• 分類號(hào): G06F30/13;G06F111/04
• 代理公司: 北京細(xì)軟智谷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11471
• 代理人: 付登云

1.一種區(qū)域日照分析方法，其特征在于，包括：

獲取目標(biāo)分析區(qū)域內(nèi)的采樣點(diǎn)以及遮擋集，所述遮擋集包括能對(duì)所述目標(biāo)分析區(qū)域產(chǎn)生遮擋的建筑模型集合，所述建筑模型集合包括預(yù)先指定待調(diào)整的第一建筑模型和預(yù)先指定無(wú)需調(diào)整的第二建筑模型；

計(jì)算所述第一建筑模型調(diào)整后的第一日照約束時(shí)間集合，以及，所述目標(biāo)分析區(qū)域的初始日照約束時(shí)間集合與所述第二建筑模型的日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合，以得到第二日照約束時(shí)間集合，其中，所述初始日照約束時(shí)間集合包括目標(biāo)分析區(qū)域沒(méi)有任何建筑遮擋時(shí)各個(gè)采樣點(diǎn)的日照約束時(shí)間集合；

計(jì)算所述第一日照約束時(shí)間集合和所述第二日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合，以得到目標(biāo)日照約束時(shí)間集合；

針對(duì)任一個(gè)建筑模型，日照約束時(shí)間集合的計(jì)算過(guò)程包括：

獲取建筑模型的每個(gè)端點(diǎn)在日照有效時(shí)間中的每個(gè)目標(biāo)時(shí)刻的陰影長(zhǎng)度；

將所述建筑模型的各個(gè)端點(diǎn)在同一目標(biāo)時(shí)刻的陰影根據(jù)陰影長(zhǎng)度組合為閉合區(qū)域；

將所述建筑模型的各個(gè)端點(diǎn)在各個(gè)目標(biāo)時(shí)刻的閉合區(qū)域組合為對(duì)應(yīng)的陰影輪廓區(qū)域；

計(jì)算所述目標(biāo)分析區(qū)域內(nèi)的采集點(diǎn)中，落入陰影輪廓區(qū)域的目標(biāo)采集點(diǎn)；

計(jì)算各個(gè)目標(biāo)采集點(diǎn)在建筑模型影響下的日照約束時(shí)間集合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取目標(biāo)分析區(qū)域內(nèi)的采樣點(diǎn)，包括：

根據(jù)預(yù)設(shè)采樣規(guī)則對(duì)目標(biāo)分析區(qū)域進(jìn)行采樣，以獲取目標(biāo)分析區(qū)域內(nèi)的采集點(diǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，計(jì)算所述目標(biāo)分析區(qū)域的初始日照約束時(shí)間集合與第二建筑模型的日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合，以得到第二日照約束時(shí)間集合，包括：

識(shí)別屬于第二建筑模型的各個(gè)建筑模型的編號(hào)；

計(jì)算初始編號(hào)的建筑模型的日照約束時(shí)間集合與初始日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合，得到第一次計(jì)算的日照約束時(shí)間集合；

針對(duì)屬于第二建筑模型的其他每一個(gè)建筑模型，按照所述建筑模型的編號(hào)順序，計(jì)算當(dāng)前編號(hào)的建筑模型的日照約束時(shí)間集合與上一次計(jì)算得到的日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合，直到完成第二建筑模型中的全部建筑模型的日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合的計(jì)算。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，計(jì)算當(dāng)前編號(hào)的建筑模型的日照約束時(shí)間集合與上一次計(jì)算得到的日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合包括：

對(duì)于上一次計(jì)算得到的日照約束時(shí)間集合中的對(duì)應(yīng)的每一個(gè)采集點(diǎn)，計(jì)算落入建筑模型的陰影輪廓區(qū)域中的采集點(diǎn)對(duì)應(yīng)的日照約束時(shí)間與上一次計(jì)算得到的日照約束時(shí)間集合中該采集點(diǎn)對(duì)應(yīng)的日照約束時(shí)間集合的共有時(shí)間集合。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)采樣規(guī)則包括：

根據(jù)目標(biāo)分析區(qū)域的輪廓，按照預(yù)設(shè)采樣順序以預(yù)設(shè)采樣間隔進(jìn)行采樣，其中，所述預(yù)設(shè)采樣間隔為預(yù)設(shè)距離間隔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在確定目標(biāo)日照約束時(shí)間集合之后，還包括：

將目標(biāo)日照約束時(shí)間集合以預(yù)設(shè)形式進(jìn)行展示。