[發(fā)明專利]光刻機的投圖系統(tǒng)及消除曝光過程中產生的拖影的方法

在審

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• 申請日: 2019-05-07
• 公開（公告）號: CN109960113A
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發(fā)明（設計）人: 張峰;張雷;李偉成
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司 32293
• 代理人: 陳松

本發(fā)明提供了光刻機的投圖系統(tǒng)，同時還提供采用該光刻機的投圖系統(tǒng)消除曝光過程中產生的拖影的方法，在DMD控制板發(fā)送投圖同步脈沖信號控制DMD微鏡陣列翻轉的同時，同步將所述投圖同步脈沖信號發(fā)送給激光器控制器，激光器控制器根據(jù)所述投圖同步脈沖信號同步控制激光器的激光發(fā)射，由此得到的曝光的圖形清晰、銳利，曝光的質量好。

技術領域

本發(fā)明涉及直寫式光刻機技術領域，具體為一種光刻機的投圖系統(tǒng)及消除曝光過程中產生的拖影的方法。

背景技術

DMD(Digital Micromirror Device，數(shù)字微鏡器件)是PCB光刻設備光學系統(tǒng)的重要組成部分，其是用數(shù)字電壓信號控制微鏡片執(zhí)行機械運動來實現(xiàn)光學功能的裝置，它由大量微小的反光鏡片組成，組成一個微鏡陣列，每個微鏡都懸掛在一個單獨的靜態(tài)RAM上根據(jù)寫入SDRAM的是1還是0，均可以單獨圍繞一個軸旋轉到+12度或-12度方向，這樣落在DMD的光便可以根據(jù)微鏡的朝向反射到兩個方向上去，以實現(xiàn)對光的空間調制，基于DMD的光刻機采用掃描曝光方式，DMD(數(shù)字微鏡器件)圖像滾動輸出與運動平臺移動同步來實現(xiàn)大面積曝光。

在曝光過程中，激光器開啟，控制DMD投影的DMD控制板發(fā)出同步信號，控制DMD的鏡片的翻轉實現(xiàn)投圖，基板平臺移動，實現(xiàn)在基板平臺上的PCB板進行曝光，然而由于在曝光過程中，激光器一直處于開啟，DMD微鏡陣列在翻轉的過程中，投影的圖形一直存在，就會PCB板上形成拖影，影響曝光的質量。

發(fā)明內容

針對上述問題，本發(fā)明提供了光刻機的投圖系統(tǒng)，同時還提供采用該光刻機的投圖系統(tǒng)消除曝光過程中產生的拖影的方法，由此得到的曝光的圖形清晰、銳利，曝光的質量好。

其技術方案是這樣的：光刻機的投圖系統(tǒng)，其特征在于，包括主控系統(tǒng)和與所述主控系統(tǒng)電控連接的：

基板平臺，用于放置PCB板；

平臺控制器，用于控制所述基板平臺的位移；

DMD微鏡陣列，用于生成曝光圖形；

DMD控制板，用于發(fā)送投圖同步脈沖信號給DMD微鏡陣列生成曝光圖形；

激光器，用于發(fā)射激光到所述DMD微鏡陣列上；

激光器控制器，用于控制激光器的開關；

光學鏡片模塊，用于將所述激光器發(fā)射的激光投射到所述DMD微鏡陣列上；

進一步的，平臺控制器包括直線電機驅動器、直線電機。

進一步的，所述平臺控制器能夠控制基板平臺在X軸、Y軸、Z軸的三維空間內運動。

進一步的，所述光學鏡片模塊包含不同方向的鏡片，將DMD微鏡陣列的光投射到PCB板上。

一種采用上述的光刻機的投圖系統(tǒng)消除曝光過程中產生的拖影的方法，其特征在于，在DMD控制板發(fā)送投圖同步脈沖信號控制DMD微鏡陣列翻轉的同時，同步將所述投圖同步脈沖信號發(fā)送給激光器控制器，激光器控制器根據(jù)所述投圖同步脈沖信號同步控制激光器的激光發(fā)射。

進一步的，當PCB板接收到DMD微鏡陣列投射下來的圖形時，PCB板上的化學膜感光后自身或與PCB板的表面材料發(fā)生化學反應，形成曝光后圖像。

本發(fā)明通過將用于控制DMD微鏡陣列翻轉的同步脈沖信號發(fā)送給到控制激光器開光的激光器控制器，使得激光器僅在DMD微鏡陣列翻轉到位后，激光器才會發(fā)射激光，避免激光器始終開啟發(fā)射激光，導致DMD微鏡陣列在翻轉過程中仍然將圖形投射到PCB板上，在PCB板上產生拖影的情況發(fā)生，通過本發(fā)明的光刻機的投圖系統(tǒng)曝光得到的圖形的線條清晰、銳利，圖形質量好。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的光刻機的投圖系統(tǒng)的框圖。