[發明專利]光刻機的投圖系統及消除曝光過程中產生的拖影的方法在審
| 申請號： | 201910373551.5 | 申請日： | 2019-05-07 |
| 公開（公告）號： | CN109960113A | 公開（公告）日： | 2019-07-02 |
| 發明（設計）人： | 張峰;張雷;李偉成 | 申請（專利權）人： | 蘇州源卓光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 蘇州國誠專利代理有限公司 32293 | 代理人： | 陳松 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 同步脈沖信號 光刻機 激光器控制器 曝光過程 拖影 激光發射 同步控制 曝光 激光器 翻轉 控制板 銳利 發送 清晰 | ||
1.光刻機的投圖系統，其特征在于，包括主控系統和與所述主控系統電控連接的：
基板平臺，用于放置PCB板；
平臺控制器，用于控制所述基板平臺的位移；
DMD微鏡陣列，用于生成曝光圖形；
DMD控制板，用于發送投圖同步脈沖信號給DMD微鏡陣列生成曝光圖形；
激光器，用于發射激光到所述DMD微鏡陣列上；
激光器控制器，用于控制激光器的開關；
光學鏡片模塊，用于將所述激光器發射的激光投射到所述DMD微鏡陣列上。
2.根據權利要求1所述的光刻機的投圖系統，其特征在于：平臺控制器包括直線電機驅動器、直線電機。
3.根據權利要求2所述的光刻機的投圖系統，其特征在于：所述平臺控制器能夠控制基板平臺在X軸、Y軸、Z軸的三維空間內運動。
4.根據權利要求1所述的光刻機的投圖系統，其特征在于：所述光學鏡片模塊包含不同方向的鏡片，用于將DMD微鏡陣列的光投射到PCB板上。
5.一種采用權利要求1所述的光刻機的投圖系統消除曝光過程中產生的拖影的方法，其特征在于：在DMD控制板發送投圖同步脈沖信號控制DMD微鏡陣列翻轉的同時，同步將所述投圖同步脈沖信號發送給激光器控制器，激光器控制器根據所述投圖同步脈沖信號同步控制激光器的激光發射。
6.根據權利要求5所述的投圖系統消除曝光過程中產生的拖影的方法，其特征在于：當PCB板接收到DMD微鏡陣列投射下來的圖形時，PCB板上的化學膜感光后自身或與PCB板的表面材料發生化學反應，形成曝光后圖像。
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