[發明專利]一種DI機投圖控制系統及對曝光位置進行補償的方法

有效

• 申請號: 201910373535.6
• 申請日: 2019-05-07
• 公開（公告）號: CN110095947B
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 張峰;張雷;李偉成
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司 32293
• 代理人: 陳松

本發明了提供一種DI機投圖控制系統，同時提供了對曝光位置的進行補償方法，以解決現有技術中曝光載板平臺在二維平面的各區域走位不均勻、位置精度不夠的問題，在曝光載板平臺上建立平面坐標系，將曝光載板平臺沿坐標軸方向等分成若干曝光條帶，每個曝光條帶等分成若干區域；進行預曝光，通過相機系統抓取曝光圖形的位置，分別在每個曝光條帶上，計算每個區域的曝光圖形的誤差補償值；按曝光條帶分別通過每個區域的誤差補償值對曝光位置進行補償。

技術領域

本發明涉及激光直接成像技術領域，具體是一種DI機投圖控制系統及對曝光位置進行補償的方法。

背景技術

激光直接成像技術是用激光掃描的方法直接將PCB gerber圖像在干膜等干膜上成像，用于pcb板制作的曝光工序，曝光后，圖像留在掩膜板上，結合后續的工序，完成pcb板制作。激光直接成像設備的核心部分由軟件部分，曝光載板平臺部分，平臺驅動器部分，投圖系統部分，曝光控制部分組成。

軟件部分負責把PCB工廠的原始圖形轉換成設備需要的圖形格式。平臺控制器和曝光平臺部分負責裝載干膜等化學膜，根據設定參數控制直線電機以高精度在X,Y二維平面各方向進行位移。曝光控制部分和投圖部分在平臺位移過程中生成曝光圖形，投圖系統核心部件為DMD，DMD受投圖系統控制產生圖像，經過光學鏡頭，由激光把圖形投射到干膜上去。

激光直接成像技術曝光的分辨率精度比較高，在um級。因此理想曝光平臺的走位精度要很精確，并且要求曝光平臺在二維平面的各區域走位要均勻。但是由于物理平臺由于生產組裝或以面本身的物理特性，很難實現在二維平面各區域絕對均勻，會有一定的誤差，影響曝光不同區域成像結果的質量。

發明內容

本發明旨在提供一種DI機投圖控制系統及對曝光位置進行補償的方法，以解決現有技術中平臺在二維平面的各區域走位不均勻、位置精度不夠的問題。

其技術方案是這樣的：一種DI機投圖控制系統，其特征在于，包括主控系統和與所述主控系統電控連接的：

曝光載板平臺，用于放置干膜；

平臺控制器，用于控制曝光載板平臺的在平面內位移；

投圖系統，包括若干DMD投圖子系統，用于將曝光圖形投影到放置在所述曝光載板平臺上的干膜上；

曝光控制板，用于控制DMD投圖子系統進行曝光；

相機系統，包括CCD相機，用于抓取干膜上的曝光圖形；

所述主控系統與相機系統通信，用于獲取相機系統所抓取的圖形信息；所述主控系統與曝光控制板通信，用于下發曝光的參數信息，并且獲取曝光控制板內存的曝光載板平臺的位置信息；所述主控系統與投圖系統的通信，用于傳輸曝光圖形。

進一步的，DMD投圖子系統包括DMD控制電路，激光部件，光學鏡頭部件。

進一步的，平臺控制器包括直線電機驅動器、直線電機。

一種基于上述的DI機投圖控制系統的對曝光位置進行補償的方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟step1：在曝光載板平臺上建立平面坐標系，將曝光載板平臺沿其中一坐標軸方向等分成若干曝光條帶，每個曝光條帶等分成若干區域；

步驟step2：在曝光載板平臺放置干膜進行預曝光，曝光結束后，通過相機系統抓取曝光圖形的位置，分別在每個曝光條帶上，計算每個區域的曝光圖形的誤差補償值；

步驟step3：在進行實際曝光時，按曝光條帶分別通過每個區域的誤差補償值對曝光位置進行補償，同時，通過判斷上一個曝光條帶上累計的誤差補償值與曝光載板平臺的移位精度的大小，來調整下一個曝光條帶的實際曝光間隔數。