[發明專利]一種DI機投圖控制系統及對曝光位置進行補償的方法

有效

• 申請號: 201910373535.6
• 申請日: 2019-05-07
• 公開（公告）號: CN110095947B
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 張峰;張雷;李偉成
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司 32293
• 代理人: 陳松

1.一種基于DI機投圖控制系統的對曝光位置進行補償的方法，DI機投圖控制系統包括主控系統和與所述主控系統電控連接的：

曝光載板平臺，用于放置干膜；

平臺控制器，用于控制曝光載板平臺的在平面內位移；

投圖系統，包括若干DMD投圖子系統，用于將曝光圖形投影到放置在所述曝光載板平臺上的干膜上；

曝光控制板，用于控制DMD投圖子系統進行曝光；

相機系統，包括CCD相機，用于抓取干膜上的曝光圖形；

所述主控系統與相機系統通信，用于獲取相機系統所抓取的圖形信息；所述主控系統與曝光控制板通信，用于下發曝光的參數信息，并且獲取曝光控制板內存的曝光載板平臺的位置信息；所述主控系統與投圖系統的通信，用于傳輸曝光圖形；

其特征在于：對曝光位置進行補償的方法包括以下步驟：

步驟step1：在曝光載板平臺上建立平面坐標系，將曝光載板平臺沿其中一坐標軸方向等分成若干曝光條帶，每個曝光條帶等分成若干區域；

步驟step2：在曝光載板平臺放置干膜進行預曝光，曝光結束后，通過相機系統抓取曝光圖形的位置，分別在每個曝光條帶上，計算每個區域的曝光圖形的誤差補償值；

步驟step3：在進行實際曝光時，按曝光條帶分別通過每個區域的誤差補償值對曝光位置進行補償，同時，通過判斷上一個曝光條帶上累計的誤差補償值與曝光載板平臺的移位精度的大小，來調整下一個曝光條帶的實際曝光間隔數。

2.根據權利要求1所述的基于DI機投圖控制系統的對曝光位置進行補償的方法，其特征在于：DMD投圖子系統包括DMD控制電路，激光部件，光學鏡頭部件。

3.根據權利要求1所述的基于DI機投圖控制系統的對曝光位置進行補償的方法，其特征在于：平臺控制器包括直線電機驅動器、直線電機。

4.根據權利要求1所述的基于DI機投圖控制系統的對曝光位置進行補償的方法，其特征在于，步驟step1具體如下：以曝光載板平臺的一個頂角為原點、曝光載板平臺的橫向為X軸、曝光載板平臺的縱向為Y軸建立坐標系，沿X軸方向，將曝光載板平臺等分成m個曝光條帶，曝光條帶編號分別為S1、S2…Sm，在Y軸方向以A長度為單位，分別將每個曝光條帶均勻分成n個區域，第m個條帶的第n區域記為Sm_n，m和n分別為自然數。

5.根據權利要求4所述的基于DI機投圖控制系統的對曝光位置進行補償的方法，其特征在于，步驟step2具體如下：設定每個曝光條帶上相鄰的兩個區域的中心點的距離為A，在曝光載板平臺放置干膜，投圖系統和曝光載板平臺以及平臺控制器相互配合按曝光條帶的順序進行預曝光，曝光結束后，從第一個曝光條帶開始，以其第一個區域的中心點為起點，按Y軸方向依次計算其它區域的中心點到第一個區域的中心點在Y軸方向上的距離，分別統計每個曝光條帶上的移動距離數據，第m個曝光條帶中，其它區域的中心點到第一個區域的中心點在Y軸方向上的距離分別記為dm_1,dm_2,...dm_n；

Y軸方向上每個區域中圖形的曝光位置的實際間距數據和理論間距數據的差值為△d，分別計為：

△d1_1＝d1_1-A,△d1_2＝d1_2-2*A,…,△d1_n＝d1_n-n*A,…,△dm_n＝dm_n-n*A；

第m個曝光條帶上的第n個區域的誤差補償值通過如下公式表示：

Rmn＝Res*(△dm_n-△dm_(n-1))/A

其中，Res為曝光載板平臺的移位精度。

6.根據權利要求5所述的基于DI機投圖控制系統的對曝光位置進行補償的方法，其特征在于：步驟step2中得到的誤差補償值通過主控系統，按曝光條帶的順序依次發送給曝光控制板，曝光控制板接收到誤差補償值后，按曝光條帶把數據依次存儲在硬件SRAM的不同區域。