[發明專利]光刻膠

有效

• 申請號: 201910372874.2
• 申請日: 2019-05-06
• 公開（公告）號: CN110174819B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 饒夙締;陳孝賢
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/027
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂;程曉

本發明提供一種光刻膠，包括樹脂、光引發劑、聚合物單體、溶劑以及光反應粒子，其中，所述光引發劑在光照下產生自由基，用于引發聚合物單體發生光交聯固化反應形成高聚物，所述光反應粒子根據光的波長對光進行選擇性吸收并釋放出抗氧化劑，用于捕捉光引發劑在光照下產生的自由基，從而降低聚合物單體的反應程度，進而達到控制光刻膠膜層不同深度的反應程度的作用，在曝光制程中使整個光刻膠膜層的反應程度達到均勻一致，解決在光刻工藝中由于光刻膠表底層反應差異而形成的taper偏陡、膜面不平等問題。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種光刻膠。

背景技術

薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)具有機身薄、省電、無輻射等眾多優點，得到了廣泛的應用。現有市場上的液晶顯示器大部分為背光型液晶顯示裝置，其包括液晶顯示面板及背光模組(backlight module)。通常液晶顯示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、TFT陣列基板、夾于彩膜基板與TFT陣列基板之間的液晶(Liquid Crystal，LC)及密封框膠(Sealant)組成。CF基板是LCD用來實現彩色顯示的主要器件，其基本構成通常包括：玻璃基板、黑色矩陣(Black Matrix，BM)、彩色濾光層等等。

光刻技術是LCD行業的常見工藝制程，光刻膠則是光刻制程的必要材料，其在光束照射下，能夠發生交聯固化或者降解反應。由于光刻膠發生光交聯固化反應后，具有不被蝕刻液侵蝕的特性，常將其用于顯示面板的圖案化蝕刻制程中，也可被作為直接材料保留在面板中，如CF基板側的黑色矩陣、彩色濾光層RGB色阻、有機覆蓋層(over coat，OC)及間隔物(photo spacer，PS)等，再如TFT陣列基板側的有機絕緣平坦層(Polymer Film onArray，PFA)等。現有光刻膠體系中，光刻膠的組成通常包括至少一種樹脂、單體、光引發劑、溶劑。以負型光刻膠為例，光刻膠形成圖案的過程為：在曝光階段利用紫外光照射光刻膠，使其中的光引發劑產生自由基，促進受光區域單體或樹脂發生交聯反應而在后續的顯影過程后被保留，而未受到紫外光照射的區域則在后續的顯影過程中被顯影液溶解，從而形成所需光刻膠圖案。在此圖案化過程中，普通光刻膠通常由于其膜層厚度較厚，以及一些吸光粒子(如黑色矩陣光刻膠中的炭黑，彩色光阻中的彩色顏料)的存在，導致整個光刻膠膜層在曝光過程中在其厚度方向上所接收到的紫外光照程度不同，使得表層和底層的反應程度不一致。進而引發一系列的制程問題，如膜面不平，圖案邊緣坡度(taper)過陡等，而這些光刻膠圖案化制程問題則會進一步導致LCD品質降低。

發明內容

本發明的目的在于提供一種光刻膠，可解決光刻膠表層和底層反應程度不一致而引起的制程問題。

為實現上述目的，本發明提供了一種光刻膠，包括樹脂、光引發劑、聚合物單體、溶劑以及光反應粒子；

所述光引發劑在光照下產生自由基，用于引發聚合物單體發生光交聯固化反應形成高聚物；

所述光反應粒子根據光的波長對光進行選擇性吸收并釋放出抗氧化劑，用于捕捉光引發劑在光照下產生的自由基，從而降低聚合物單體的反應程度。

所述光反應粒子通過對光進行選擇性吸收并發生分解反應而生成抗氧化劑，從而釋放出其所生成的抗氧化劑。

所述光反應粒子為核殼結構，包括外殼及由外殼包覆的內核，所述外殼為光反應聚合物，所述內核為抗氧化劑，所述光反應粒子的外殼對光進行選擇性吸收并發生反應而裂解，從而釋放出內核的抗氧化劑。

所述光反應粒子所吸收的光的波長為300-400nm。

所述抗氧化劑為酚類抗氧化劑或胺類抗氧化劑。

所述光反應粒子的粒徑為50-500nm。

所述樹脂為堿溶性樹脂、熱固型樹脂或光固型樹脂；