[發明專利]膜形成裝置及膜形成方法有效
| 申請號: | 201910371007.7 | 申請日: | 2019-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN111349912B | 公開(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發明(設計)人: | 巖永剛 | 申請(專利權)人: | 富士膠片商業創新有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 日本東京*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 形成 裝置 方法 | ||
1.一種膜形成裝置,其具備:
反應容器,在內部配置有膜形成對象部件,且用于利用供給至內部的成膜性氣體的激勵分解而將以所述成膜性氣體中所包含的元素為構成要素的膜堆積于所述膜形成對象部件上,所述反應容器具有:能夠激勵分解所述成膜性氣體的反應活性區域和作為與所述反應活性區域連續的區域的反應惰性區域;
成膜性氣體供給裝置,向所述反應容器內的所述反應惰性區域供給所述成膜性氣體;
激勵裝置,對所述反應容器內的所述成膜性氣體進行激勵分解;
保持裝置,具有:保持部件,具有使所述反應容器內的氣體通過的開口部并保持所述膜形成對象部件,所述膜形成對象部件覆蓋所述開口部,或是所述膜形成對象部件嵌入所述開口部;及驅動部,所述驅動部在所述反應惰性區域與所述反應活性區域之間驅動所述保持部件而使所述膜形成對象部件反復移動且隨著所述膜形成對象部件的移動而從所述反應惰性區域向所述反應活性區域供給所述成膜性氣體;及
排氣部件,設置于所述反應容器內,排出所述反應容器內的氣體,且排出已通過由所述保持部件保持的狀態的所述膜形成對象部件的內部及側面的至少一方的所述反應容器內的氣體。
2.根據權利要求1所述的膜形成裝置,其還具備遮蔽部件,所述遮蔽部件設置于所述反應容器內并遮蔽所述反應活性區域與所述反應惰性區域之間的至少一部分。
3.根據權利要求1所述的膜形成裝置,其中,
所述排氣部件設置成隔著被所述保持部件保持的所述膜形成對象部件與所述成膜性氣體供給裝置的成膜性氣體供給口對置。
4.根據權利要求1所述的膜形成裝置,其中,
所述排氣部件設置成隔著被所述保持部件保持的所述膜形成對象部件與所述反應容器內的所述反應活性區域對置。
5.根據權利要求1所述的膜形成裝置,其中,
所述保持部件為介于所述成膜性氣體供給裝置的成膜性氣體供給口與所述排氣部件之間而設置的部件。
6.根據權利要求1所述的膜形成裝置,其中,
所述保持部件為介于所述反應容器內的所述反應活性區域與所述排氣部件之間而設置的部件。
7.根據權利要求5所述的膜形成裝置,其中,
所述保持部件為筒狀部件。
8.根據權利要求7所述的膜形成裝置,其中,
所述排氣部件設置于作為所述保持部件的所述筒狀部件的內周面側。
9.根據權利要求1所述的膜形成裝置,其中,
所述膜形成對象部件為具有使所述反應容器內的氣體通過的開口部的部件。
10.根據權利要求9所述的膜形成裝置,其中,
所述膜形成對象部件為多孔體、筒狀部件或在厚度方向上具有貫穿孔的部件。
11.一種膜形成裝置,其具備:
反應容器,在內部配置有膜形成對象部件,且用于利用供給至內部的成膜性氣體的激勵分解而將以所述成膜性氣體中所包含的元素為構成要素的膜堆積于所述膜形成對象部件上;
成膜性氣體供給裝置,向所述反應容器內供給所述成膜性氣體;
激勵裝置,對所述反應容器內的所述成膜性氣體進行激勵分解;
保持部件,設置于所述反應容器內,具有使所述反應容器內的氣體通過的開口部并保持所述膜形成對象部件,所述膜形成對象部件覆蓋所述開口部,或是所述膜形成對象部件嵌入所述開口部;及
排氣部件,設置于所述反應容器內,排出所述反應容器內的氣體,所述排氣部件排出已通過由所述保持部件保持的狀態的所述膜形成對象部件的內部及側面的至少一方的所述反應容器內的氣體。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





