[發(fā)明專利]一種基于反射式結(jié)構(gòu)光照明的玻璃瑕疵檢測方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910368957.4 | 申請日: | 2019-05-05 |
| 公開(公告)號: | CN110031482A | 公開(公告)日: | 2019-07-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 駱聰;袁春輝;楊鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州天準(zhǔn)科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/958 | 分類號: | G01N21/958 |
| 代理公司: | 蘇州國誠專利代理有限公司 32293 | 代理人: | 王麗 |
| 地址: | 215163 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 分布圖 反射式結(jié)構(gòu) 檢測 玻璃樣品 玻璃瑕疵 相位梯度 調(diào)制度 面陣 瑕疵 光照 結(jié)構(gòu)光光源 瑕疵檢測 成像 調(diào)制 探測 圖像 玻璃 配置 | ||
本發(fā)明提供了一種基于反射式結(jié)構(gòu)光照明的玻璃瑕疵檢測方法,其配置簡單、檢測方便,不僅瑕疵增強效果明顯,且可實現(xiàn)面陣檢測,待檢玻璃樣品通過成像模組成像,所得圖像中的待檢玻璃樣品被結(jié)構(gòu)光光源調(diào)制,進(jìn)而獲得調(diào)制度分布圖和相位梯度分布圖,通過調(diào)制度分布圖和相位梯度分布圖可實現(xiàn)增強各種玻璃內(nèi)外部的瑕疵,從而實現(xiàn)了面陣探測,提高了瑕疵檢測效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在線玻璃瑕疵檢測方法,具體為一種基于反射式結(jié)構(gòu)光照明的玻璃瑕疵檢測方法。
背景技術(shù)
在玻璃的生產(chǎn)、組裝過程中,玻璃內(nèi)、外部會產(chǎn)生氣泡、結(jié)石、扭曲、碎裂以及劃痕等缺陷,這些缺陷會影響玻璃產(chǎn)品的功能和美觀程度。其中,對于大尺寸的玻璃瑕疵,可使用高亮度線光源與線陣相機的配合實現(xiàn)明場和暗場的照明結(jié)構(gòu),其可以顯著增強圖像中的瑕疵特征,從而實現(xiàn)了很好的檢測效果。
但是,這種方法有如下缺陷:1)其需要根據(jù)瑕疵特征來相應(yīng)調(diào)整照明角度、光源尺寸等參數(shù),在實際使用中還需要大量的驗證試驗方可確認(rèn)最優(yōu)工作狀態(tài),比較繁瑣;2)而對于玻璃內(nèi)部的小尺寸瑕疵,由于散射光強度較弱,這種明場、暗場配合的檢測方法依然無法得到高對比度的瑕疵圖像,也就需要對后端的瑕疵檢測算法提出極高的要求;3)需要配合線陣相機和直線模組使用,且無法實現(xiàn)面陣探測。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題,本發(fā)明提供了一種基于反射式結(jié)構(gòu)光照明的玻璃瑕疵檢測方法,其配置簡單、檢測方便,不僅瑕疵增強效果明顯,且可實現(xiàn)面陣檢測。
其技術(shù)方案是這樣的:其特征在于:其包括如下步驟:
S1、結(jié)構(gòu)光光源設(shè)置于待檢玻璃樣品上方,所述結(jié)構(gòu)光光源上的光強呈條紋分布,所述待檢玻璃樣品放置于運動掃描機構(gòu)上;
S2、成像模組安裝于所述待檢玻璃樣品斜上方,調(diào)節(jié)所述成像模組的鏡頭,以使其對所述待檢玻璃樣品清晰成像;
S3、所述結(jié)構(gòu)光光源的結(jié)構(gòu)光條紋沿法向平移,平移距離為所述結(jié)構(gòu)光光源周期的1/N,N=3,4,5…;
S4、所述成像模組對所述待檢玻璃樣品成像,所得圖像中的所述待檢玻璃樣品被所述結(jié)構(gòu)光光源調(diào)制,使得所述待檢玻璃樣品圖像上出現(xiàn)明顯的條紋結(jié)構(gòu);
S5、重復(fù)N次所述步驟S3和S4,獲得N幅調(diào)制后的待檢玻璃樣品圖像,記圖像為Ij(j=1,2,3,…N);隨后根據(jù)獲得的N幅圖像計算出每個像素對應(yīng)的調(diào)制度和相位梯度,獲得調(diào)制度分布圖和相位梯度分布圖;
S6、通過機器視覺算法或者深度學(xué)習(xí)算法,分析調(diào)制度分布圖、相位梯度分布圖和原始灰度圖之間的特征形式,即可實現(xiàn)玻璃表面瑕疵的全類型檢測。
其進(jìn)一步特征在于:
所述步驟S5中,重復(fù)4次所述步驟S3和S4,獲得4幅調(diào)制后的待檢玻璃樣品圖像,記圖像為I1、I2、I3、I4,根據(jù)獲得的4幅圖像計算出每個像素對應(yīng)的調(diào)制度和相位梯度,其中,調(diào)制度和相位梯度θ的計算公式為:
I1=I0+Icos(θ)
I3=I0+Icos(θ+π)
根據(jù)上述公式,I1-I3=2I cos(θ),I2-I4=2I sin(θ)
得到
其中,I0為圖像光強分布的基頻信息,I為圖像光強分布中波動信息的幅值;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘇州天準(zhǔn)科技股份有限公司,未經(jīng)蘇州天準(zhǔn)科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910368957.4/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





