[發明專利]一種波像差測量裝置及光刻機有效
| 申請號： | 201910365328.6 | 申請日： | 2019-04-30 |
| 公開（公告）號： | CN111856885B | 公開（公告）日： | 2021-08-03 |
| 發明（設計）人： | 夏建培;馬明英 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 波像差 測量 裝置 光刻 | ||
1.一種波像差測量裝置，包括照明系統，以及沿所述照明系統發出的光的光路依次排列的包括物面光柵的物面光柵板、投影物鏡、包括像面光柵的像面光柵板以及光電探測器，其特征在于，所述波像差測量裝置還包括：
所述物面光柵板和所述像面光柵板均為透明光柵板；
所述物面光柵由多個間隔均勻的凸起部或凹陷部排列組成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度為d；
所述像面光柵由多個間隔均勻的凸起部或凹陷部排列組成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度為d；
其中，d＝λ(k+1/2)/(n折-1)，λ為入射光的波長，k為正整數，n折為對應光柵板的折射率。
2.根據權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述物面光柵為一維條狀光柵，所述像面光柵為二維棋盤狀光柵。
3.根據權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述物面光柵板和所述像面光柵板的形成材料在深紫外光波段的折射率取值范圍為1.1～1.8。
4.根據權利要求3所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述物面光柵板和所述像面光柵板的形成材料為石英玻璃。
5.根據權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述像面光柵板和光電探測器之間設置有一間隙。
6.根據權利要求5所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述間隙的高度取值范圍為0.1～0.8mm。
7.根據權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述光電探測器包括CMOS采集芯片以及涂覆于所述CMOS采集芯片靠近所述像面光柵板一側的熒光轉換層。
8.根據權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述物面光柵的周期與所述像面光柵的周期之比等于所述投影物鏡的縮小倍數或放大倍數。
9.根據權利要求8所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述物面光柵的周期為4.5μm。
10.一種光刻機，其特征在于，包括上述權利要求1-9任一項所述的波像差測量裝置。
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