[發明專利]一種掩膜版清洗裝置及清洗方法

在審

• 申請號: 201910364544.9
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN110000150A
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 朱朝月;李素華;楊碩;張孟湜
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;B08B7/00
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

本發明實施例涉及半導體制造技術領域，公開了一種掩膜版清洗裝置，包括：清洗槽和輔助清洗組件，其中，清洗槽用于收容清洗藥液及浸入清洗藥液的待清洗掩膜版；輔助清洗組件設于清洗槽外，且相對清洗槽可移動設置，輔助清洗組件包括：熱源、降解光源、超聲波發生器中的一種或多種的組合。本發明實施方式提供的掩膜版清洗裝置及清洗方法，實現了對待清洗掩膜版快速、徹底的清潔。

技術領域

本發明實施例涉及半導體制造技術領域，特別涉及一種掩膜版的清洗裝置及清洗方法。

背景技術

蒸鍍工藝使用的掩膜版，很容易殘留蒸鍍材料，難以清洗。蒸鍍掩膜版清洗工藝一般使用化學藥液比如：硫酸、去離子水、氨水、二氧化碳、臭氧、雙氧水等，去除掩膜版表面殘留的蒸鍍材料。為提高清洗效率，現有技術中通常采用加熱、循環、超聲波振動等方式加速殘留物質的去除。

然而，發明人發現現有技術中至少存在如下問題：由于掩膜版上存在多處開孔，而在掩膜版開孔處極易殘留蒸鍍材料，僅通過現有清洗工藝難以快速、徹底的清潔掩膜版上的殘留物質。

發明內容

本發明實施方式的目的在于提供一種掩膜版清洗裝置及清洗方法，實現了對待清洗掩膜版快速、徹底的清潔。

為解決上述技術問題，本發明的實施方式提供了一種掩膜版清洗裝置，包括：清洗槽和輔助清洗組件，其中，清洗槽用于收容清洗藥液及浸入清洗藥液的待清洗掩膜版；輔助清洗組件設于清洗槽外，且相對清洗槽可移動設置，輔助清洗組件包括：熱源、降解光源、超聲波發生器中的一種或多種的組合。

本發明實施方式相對于現有技術而言，提供了一種掩膜版清洗裝置，包括：清洗槽和輔助清洗組件，其中，清洗槽用于收容清洗藥液及浸入清洗藥液的待清洗掩膜版；輔助清洗組件設于清洗槽外，且相對清洗槽可移動設置，輔助清洗組件包括：熱源、降解光源、超聲波發生器中的一種或多種的組合。本實施方式中利用清洗藥液清洗待清洗掩膜版的同時，還利用設于清洗槽外的可移動的輔助清洗組件清潔待清洗掩膜版，相比于單獨的藥液清洗或單獨的輔助清洗組件清潔來說，采用熱源、降解光源、超聲波發生器中的一種或多種的組合方式輔助清洗藥液清洗待清洗掩膜版，實現了掩膜版的快速、徹底的清潔。

另外，還包括形成在清洗槽外部的導軌，輔助清洗組件可移動的安裝在導軌上；優選地，掩膜版清洗裝置包括至少兩條導軌及至少兩個輔助清洗組件，每條導軌上均至少對應安裝一個輔助清洗組件。

另外，輔助清洗組件包括降解光源，清洗槽的至少一個側壁為透明材質，降解光源相對于透明材質的側壁可移動設置；優選地，透明材質為玻璃材質。

另外，清洗槽的一個側壁為透明材質，且在該透明材質的側壁外部設置有至少一條導軌，輔助清洗組件可往返移動的安裝在導軌上；優選地，在透明材質的側壁外部設置有兩條導軌，且在每條導軌上分別安裝有至少一個輔助清洗組件；兩條導軌相對于清洗槽底壁的水平高度不同。該方案中在透明材質的側壁外部設置導軌，輔助清洗組件往返移動地安裝在導軌上，待清洗掩膜版無需在清洗槽內移動便可實現對待清洗掩膜版表面殘留物質的完全清潔，同時還可以減小清洗槽的體積；優選地，兩條導軌相對于清洗槽底壁的水平高度不同，使得兩條導軌上的輔助清洗組件能夠實現對待清洗掩膜版的均勻清潔，使得掩膜版表面的清潔更加的徹底。

另外，清洗槽的相對設置的兩個側壁為透明材質，且在透明材質的每個側壁外部設置有至少一條導軌，輔助清洗組件可往返移動的安裝在導軌上；優選地，在透明材質的每個側壁外部設置有兩條導軌，且在每條導軌上分別安裝有至少一個輔助清洗組件；兩條導軌相對于清洗槽底壁的水平高度不同。該方案中清洗槽相對設置的兩個側壁均為透明材質，在每個透明材質的側壁外部設置導軌，輔助清洗組件往返移動地安裝在導軌上，待清洗掩膜版無需在清洗槽內移動便可實現對待清洗掩膜版兩面的表面殘留物質的完全清潔，同時還可以減小清洗槽的體積；優選地，兩條導軌相對于清洗槽底壁的水平高度不同，使得兩條導軌上的輔助清洗組件能夠實現對待清洗掩膜版的均勻清潔，使得掩膜版表面的清潔更加的徹底。