[發明專利]一種掩膜版清洗裝置及清洗方法

在審

• 申請號: 201910364544.9
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN110000150A
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 朱朝月;李素華;楊碩;張孟湜
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;B08B7/00
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

1.一種掩膜版清洗裝置，其特征在于，包括：清洗槽和輔助清洗組件，其中，

所述清洗槽用于收容清洗藥液及浸入所述清洗藥液的待清洗掩膜版；

所述輔助清洗組件設于所述清洗槽外，且相對所述清洗槽可移動設置，所述輔助清洗組件包括：熱源、降解光源、超聲波發生器中的一種或多種的組合。

2.根據權利要求1所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，還包括形成在所述清洗槽外部的導軌，所述輔助清洗組件可移動的安裝在所述導軌上；

優選地，所述掩膜版清洗裝置包括至少兩條導軌及至少兩個所述輔助清洗組件，每條所述導軌上均至少對應安裝一個所述輔助清洗組件。

3.根據權利要求1所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，所述輔助清洗組件包括降解光源，所述清洗槽的至少一個側壁為透明材質，所述降解光源相對于透明材質的所述側壁可移動設置；

優選地，所述透明材質為玻璃材質。

4.根據權利要求3所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽的一個側壁為透明材質，且在該透明材質的所述側壁外部設置有至少一條導軌，所述輔助清洗組件可往返移動的安裝在所述導軌上；

優選地，在透明材質的所述側壁外部設置有兩條導軌，且在每條所述導軌上分別安裝有至少一個所述輔助清洗組件；兩條所述導軌相對于所述清洗槽底壁的水平高度不同。

5.根據權利要求3所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽的相對設置的兩個側壁為透明材質，且在透明材質的每個所述側壁外部設置有至少一條導軌，所述輔助清洗組件可往返移動的安裝在所述導軌上；

優選地，在透明材質的每個所述側壁外部設置有兩條導軌，且在每條所述導軌上分別安裝有至少一個所述輔助清洗組件；兩條所述導軌相對于所述清洗槽底壁的水平高度不同。

6.根據權利要求3所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽的側壁均為透明材質，且在至少一個所述側壁外部設置有至少一條導軌，所述輔助清洗組件可往返移動的安裝在所述導軌上；或者，在所述清洗槽的外部形成有至少一條環形導軌，所述輔助清洗組件可往返移動或可繞所述清洗槽環形運動的安裝在所述環形導軌上；

優選地，在所述清洗槽的外部形成有一條環形導軌，且在該所述環形導軌上安裝有兩個所述輔助清洗組件，兩個所述輔助清洗組件間隔設置；

優選地，在所述清洗槽的外部形成有兩條環形導軌，且在每條所述環形導軌上分別安裝有至少一個所述輔助清洗組件；兩條所述導軌相對于所述清洗槽底壁的水平高度不同。

7.根據權利要求1所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，還包括驅動裝置，所述驅動裝置設于所述清洗槽外，且所述驅動裝置與所述輔助清洗組件連接用于帶動所述輔助清洗組件移動。

8.根據權利要求1所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，還包括用于將所述清洗槽和所述輔助清洗組件與環境隔離的隔離罩，所述清洗槽和所述輔助清洗組件置于所述隔離罩內。

9.根據權利要求1所述的掩膜版清洗裝置，其特征在于，所述輔助清洗組件為紫外線光源。

10.一種掩膜版清洗方法，其特征在于，包括：

在清洗槽內放入待清洗掩膜版與清洗藥液；

開啟設置在所述清洗槽外部的輔助清洗組件，并驅動所述輔助清洗組件相對所述清洗槽移動；所述輔助清洗組件包括：熱源、降解光源、超聲波發生器中的一種或多種的組合；

優選地，所述輔助清洗組件包括降解光源，利用所述降解光源照射所述清洗槽內的所述待清洗掩膜版。