[發明專利]一種蒸發源裝置

有效

• 申請號: 201910363036.9
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN110042345B
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 肖世艷;彭久紅
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發明提供一種蒸發源裝置，包括：主坩堝組件，包括多個傾斜排列的主坩堝，每一所述主坩堝均包括N個噴嘴；以及，補位坩堝組件，包括N?1個補位坩堝，所述補位坩堝組件的噴嘴的連線形成直角三角形，以將所述主坩堝組件的噴嘴陣列填補為矩形方陣；本發明中坩堝組件提升坩堝內材料切換速度和設備保養效率，任意相鄰每一排和每一列的噴嘴用于噴出的蒸鍍材料種類均相同，且任意相鄰的兩個噴嘴用于噴出不相同的蒸鍍材料，提升蒸鍍材料間均一性，從而在基板上形成多種蒸鍍材料種類和比例分布均勻的膜層，圍繞蒸發源裝置輪廓上設置有多層制限板，有效控制了蒸鍍成膜區，利于保證器件結構的完整和性能，同時可通過增加蒸鍍成膜區以提高蒸鍍材料的利用率。

技術領域

本發明涉及顯示面板制造技術領域，尤其涉及一種蒸發源裝置。

背景技術

蒸鍍制程在液晶顯示器組件、半導體組件及太陽能電池組件制作過程中受到了廣泛的應用，為了將制作過程中所使用的蒸鍍材料均勻涂布于基板，一般是將基板設置于坩堝噴嘴的上方，借助加熱絲將坩堝內的蒸鍍材料加熱，形成蒸汽，以均勻地附著在基板上，獲得高品質的膜層。

如圖1a所示，現有技術的蒸發源裝置，從俯視圖看，主坩堝1、輔助坩堝2和主坩堝3形狀相同，呈長圓形，坩堝的長邊垂直于蒸鍍氣體掃描的方向，多個噴嘴10，噴嘴20，噴嘴30呈陣列分布；如圖1b所示，圍繞主坩堝1、輔助坩堝2和主坩堝3分別設置有制限板，從縱向截面圖上，噴嘴10周圍有制限板4，噴嘴20周圍有制限板5，噴嘴30周圍有制限板6，制限板4、制限板5和制限板6為傾斜的板材，外圍均設置有支架，內側與相鄰的噴嘴保持預設距離，噴嘴之間兩側相鄰的虛線之間區域為該噴嘴的有效噴射區域；如圖1c所示，主坩堝1、輔助坩堝2和主坩堝3分別存放蒸鍍材料40、蒸鍍材料50和蒸鍍材料60，當成膜位置大于或等于600mm時，基板上只蒸鍍有輔助材料50，當成膜位置小于或等于100mm時，基板上只蒸鍍材料50和蒸鍍材料60，當成膜位置位于100mm到550mm區域內時，基板上蒸鍍材料40、蒸鍍材料50和蒸鍍材料60形成多層膜，且膜層中三種材料比例不相等，分布位置不均勻。

綜上所述，現有技術的蒸發源裝置中不同蒸鍍材料蒸鍍到基板時，存在先后順序，蒸鍍材料種類和比例在蒸鍍區域中分布集中，造成基板上形成多層膜，且膜層中蒸鍍材料分布和比例不均勻，每個坩堝設置了制限板，縮小噴嘴的噴射區域，導致兩側噴嘴噴射到基板兩端的蒸鍍材料較少，制限板的高度較低，造成一些材料未噴射到基板上，降低了蒸鍍材料的利用率，且集成式坩堝造成材料更換、保養困難、耗時長的技術問題。

發明內容

本發明提供一種蒸發源裝置，能夠解決現有技術的蒸發源裝置中不同蒸鍍材料蒸鍍到基板時，存在先后順序，蒸鍍材料種類和比例在蒸鍍區域中分布集中，造成基板上形成多層膜，且膜層中蒸鍍材料分布和比例不均勻，每個坩堝設置了制限板，縮小噴嘴的噴射區域，導致兩側坩堝的噴嘴噴射到基板兩端的蒸鍍材料較少，制限板的高度較低，造成一些材料未噴射到基板上，降低了蒸鍍材料的利用率，且集成式坩堝造成材料更換、保養困難、耗時長的技術問題。

為解決上述問題，本發明提供的技術方案如下：

一種蒸發源裝置包括：主坩堝組件，包括多個傾斜排列的主坩堝，每一所述主坩堝均包括N個噴嘴，所述主坩堝組件的噴嘴陣列分布形成平行四邊形；以及，補位坩堝組件，包括N-1個補位坩堝，所述補位坩堝組件的噴嘴的連線形成直角三角形，以將所述主坩堝組件的噴嘴陣列填補為矩形方陣；其中，所述矩形方陣中任意相鄰每一排和每一列的噴嘴用于噴出的蒸鍍材料種類均相同，且任意相鄰的兩個噴嘴用于噴出不相同的蒸鍍材料。

根據本發明一優選實施例，所有所述主坩堝的形狀相同，任意相鄰所述主坩堝沿著縱向等間距、平行設置。

根據本發明一優選實施例，所述主坩堝傾斜排列的方向與縱向呈預設角度α，且0°＜α＜90°。

根據本發明一優選實施例，所述補位坩堝的傾斜角度與所述主坩堝的傾斜角度相同。