[發(fā)明專利]一種真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法及裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910362335.0
• 申請(qǐng)日: 2019-04-30
• 公開（公告）號(hào): CN110117779A
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李建;李巖;古大龍;馬亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信利（仁壽）高端顯示科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56;C23C16/44;C23G5/00
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 廖苑濱

本發(fā)明提供了一種真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法，所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件在鍍膜過程中會(huì)沉積鍍膜層，所述再生方法包括以下步驟：在所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件會(huì)沉積鍍膜層的表面制作可熔膜層；當(dāng)所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件上沉積的鍍膜層厚度超過厚度閾值時(shí)，烘烤所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件使得可熔膜層熔解帶動(dòng)沉積鍍膜層脫落。本發(fā)明提供的真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法在實(shí)現(xiàn)真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生過程中，不需要進(jìn)行酸洗，從而能夠有效避免酸洗帶來(lái)的環(huán)保問題；而是通過烘烤使得可熔膜層熔解帶動(dòng)沉積鍍膜層脫落來(lái)實(shí)現(xiàn)再生的，再生工藝簡(jiǎn)單，能有效節(jié)省運(yùn)輸費(fèi)用，提高再生速度，減少購(gòu)置備用真空鍍膜裝置內(nèi)部件的費(fèi)用，有效實(shí)現(xiàn)了降低生產(chǎn)成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及了真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及了一種真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法及裝置。

背景技術(shù)

真空鍍膜裝置在液晶顯示器、觸摸屏、AMOLED等產(chǎn)品的制作中應(yīng)用廣泛，其中，真空真空鍍膜裝置內(nèi)部件在鍍膜過程中會(huì)沉積鍍膜層，例如真空擋板。當(dāng)沉積的鍍膜層厚度大于厚度閾值時(shí)就需要進(jìn)行更換或者再生，否則會(huì)出現(xiàn)沉積的鍍膜層脫落損傷產(chǎn)品。現(xiàn)有的真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法一般是將真空鍍膜裝置內(nèi)部件拆下后運(yùn)輸?shù)酵鈪f(xié)廠進(jìn)行酸洗、噴砂、清洗等工序之后，再包裝運(yùn)返回產(chǎn)品制造廠使用，這樣會(huì)存在以下技術(shù)問題：1、酸洗存在嚴(yán)重的環(huán)保問題，酸洗用到的硫酸、鹽酸，排放后嚴(yán)重污染環(huán)境，目前很多城市要求硫酸、鹽酸零排放；2、周期太長(zhǎng)，一般需要10天以上，使得再生過程中需要使用備用部件，購(gòu)買費(fèi)用大；3、需要在外協(xié)廠進(jìn)行再生，運(yùn)輸費(fèi)用大，年費(fèi)用可達(dá)數(shù)十萬(wàn)元)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法及裝置，它可以有效實(shí)現(xiàn)真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生利用，而且避免酸洗帶來(lái)的環(huán)保問題，降低生產(chǎn)成本。

為了解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法，所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件在鍍膜過程中會(huì)沉積鍍膜層，所述再生方法包括以下步驟：

在所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件會(huì)沉積鍍膜層的表面制作可熔膜層；

當(dāng)所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件上沉積的鍍膜層厚度超過厚度閾值時(shí)，烘烤所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件使得可熔膜層熔解帶動(dòng)沉積鍍膜層脫落。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述可熔膜層的材料為熔點(diǎn)范圍為130℃-350℃的金屬。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述可熔膜層的材料為銦或銦合金。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述可熔膜層的材料為銦，且所述可熔膜層的厚度為 0.1-10mm。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述烘烤具體為預(yù)熱3-15分鐘后，烘烤5-60分鐘。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述烘烤溫度大于156.63℃。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，還包括對(duì)熔解的可熔膜層進(jìn)行回收。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述對(duì)熔解的可熔膜層進(jìn)行回收包括：使得熔解的可熔膜層流經(jīng)濾網(wǎng)進(jìn)入回收艙；冷卻回收艙中的可熔膜層。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述真空鍍膜裝置內(nèi)部件為真空擋板。

進(jìn)一步地，提供一種真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生裝置，包括用于烘烤真空鍍膜裝置內(nèi)部件的烤箱和設(shè)于所述烤箱下的回收艙；所述回收艙的入口設(shè)有濾網(wǎng)。

本發(fā)明具有如下技術(shù)效果：本發(fā)明提供的真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生方法在實(shí)現(xiàn)真空鍍膜裝置內(nèi)部件的再生過程中，不需要進(jìn)行酸洗，從而能夠有效避免酸洗帶來(lái)的環(huán)保問題；而是通過烘烤使得可熔膜層熔解帶動(dòng)沉積鍍膜層脫落來(lái)實(shí)現(xiàn)再生的，再生工藝簡(jiǎn)單，而烘烤工序不需要通過外協(xié)廠完成，因此也能有效節(jié)省運(yùn)輸費(fèi)用，提高再生速度，減少購(gòu)置備用真空鍍膜裝置內(nèi)部件的費(fèi)用，有效實(shí)現(xiàn)了降低生產(chǎn)成本。

附圖說(shuō)明