[發(fā)明專利]一種光照射裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910361956.7 | 申請日: | 2019-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN111856745B | 公開(公告)日: | 2023-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 許凱迪 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B26/08 | 分類號: | G02B26/08;G02B26/02 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 照射 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種光照射裝置。該裝置包括線狀光源;多個反射單元,圍繞線狀光源形成反射腔,反射腔包括出光口,線狀光源出射的部分光束經(jīng)至少一個反射單元反射后從出光口出射;多個第一探測單元,用于測量入射到對應(yīng)的反射單元的光束的入射角和第一能量分布;多個旋轉(zhuǎn)單元,用于帶動反射單元旋轉(zhuǎn);第二探測單元,用于測量出光口的出射光束的出射角和第二能量分布;控制單元,用于獲取入射角、第一能量分布、出射角和第二能量分布的數(shù)據(jù),并根據(jù)預(yù)設(shè)出射角、預(yù)設(shè)能量分布和上述數(shù)據(jù)控制旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)反射單元,以使出射光束以預(yù)設(shè)出射角和預(yù)設(shè)能量分布出射。本發(fā)明的技術(shù)方案,可實現(xiàn)出射光束的出射角和能量分布可調(diào),以滿足多種應(yīng)用場景的需求。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實施例涉及光束調(diào)節(jié)技術(shù),尤其涉及一種光照射裝置。
背景技術(shù)
自然界中,由于許多材料在光照下會發(fā)生形態(tài)、性質(zhì)等方面的改變,光照射裝置廣泛應(yīng)用在光配向、固化、印刷、光清洗等技術(shù)領(lǐng)域。
現(xiàn)有的光照射裝置,一般是通過線光源發(fā)射光束,經(jīng)過槽狀反射鏡將光束反射到出光口出射。由于槽狀反射鏡反射光束的方向固定,光照射裝置出射光的角度無法調(diào)節(jié);出光口出射光線的能量分布為高斯分布,導(dǎo)致受光面接收的能量不均勻。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種光照射裝置,以實現(xiàn)出射光束的出射角和能量分布可調(diào)。
本發(fā)明實施例提供了一種光照射裝置,包括:
線狀光源;
多個反射單元,多個所述反射單元圍繞所述線狀光源形成反射腔,所述反射腔包括出光口,所述線狀光源位于所述反射腔內(nèi),所述反射單元的反射面朝向所述線狀光源,所述線狀光源出射的部分光束經(jīng)過至少一個所述反射單元反射后從所述出光口出射;
多個第一探測單元,與所述反射單元一一對應(yīng),所述第一探測單元用于測量入射到對應(yīng)的所述反射單元的光束的入射角和第一能量分布;
多個旋轉(zhuǎn)單元,與所述反射單元一一對應(yīng)并固定連接,所述旋轉(zhuǎn)單元用于帶動所述反射單元旋轉(zhuǎn);
第二探測單元,設(shè)置于所述反射腔的出光口,所述第二探測單元用于測量所述出光口的出射光束的出射角和第二能量分布;
控制單元,分別與所述第一探測單元、所述第二探測單元和所述旋轉(zhuǎn)單元連接,所述控制單元用于獲取所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的數(shù)據(jù),并根據(jù)預(yù)設(shè)出射角、預(yù)設(shè)能量分布、所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的數(shù)據(jù)控制所述旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)與所述旋轉(zhuǎn)單元對應(yīng)的所述反射單元,以使所述出光口的出射光束以所述預(yù)設(shè)出射角和所述預(yù)設(shè)能量分布出射;
其中,所述反射單元的數(shù)量為大于或等于4的偶數(shù),且關(guān)于所述線狀光源呈軸對稱分布。
可選的,所述第一探測單元包括第一角度探測單元和第一能量探測單元,所述第一角度探測單元用于測量入射到所述反射單元的光束的入射角,所述第一能量探測單元用于測量入射到所述反射單元的光束的第一能量分布;
所述第二探測單元包括第二角度探測單元和第二能量探測單元,所述第二角度探測單元用于測量所述出光口的出射光束的出射角,所述第二能量探測單元用于測量所述出光口的出射光束的第二能量分布。
可選的,還包括:
偏振控制單元,位于所述第二探測單元的出光側(cè),用于調(diào)節(jié)所述出光口的出射光束的偏振態(tài)。
可選的,所述反射單元包括平面反射鏡、拋物面反射鏡、球面反射鏡或橢球面反射鏡的至少一種。
可選的,所述反射單元的反射面鍍有反射膜。
可選的,所述出光口的延伸方向平行于所述線狀光源的延伸方向;
所述第二探測單元的延伸方向垂直于所述出光口的延伸方向;
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