[發(fā)明專利]一種光照射裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910361956.7
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN111856745B
• 公開（公告）日: 2023-03-17
• 發(fā)明（設計）人: 許凱迪
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;G02B26/02
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種光照射裝置，其特征在于，用于光配向設備、光固化設備、印刷設備或光清洗設備中，包括：

線狀光源；

多個反射單元，多個所述反射單元圍繞所述線狀光源形成反射腔，所述反射腔包括出光口，所述線狀光源位于所述反射腔內(nèi)，所述反射單元的反射面朝向所述線狀光源，所述線狀光源出射的部分光束經(jīng)過至少一個所述反射單元反射后從所述出光口出射；

多個第一探測單元，與所述反射單元一一對應，所述第一探測單元用于測量入射到對應的所述反射單元的光束的入射角和第一能量分布；

多個旋轉(zhuǎn)單元，與所述反射單元一一對應并固定連接，所述旋轉(zhuǎn)單元用于帶動所述反射單元旋轉(zhuǎn)；

第二探測單元，設置于所述反射腔的出光口，所述第二探測單元用于測量所述出光口的出射光束的出射角和第二能量分布；

控制單元，分別與所述第一探測單元、所述第二探測單元和所述旋轉(zhuǎn)單元連接，所述控制單元用于獲取所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的數(shù)據(jù)，并根據(jù)預設出射角、預設能量分布、所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的數(shù)據(jù)控制所述旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)與所述旋轉(zhuǎn)單元對應的所述反射單元，以使所述出光口的出射光束以所述預設出射角和所述預設能量分布出射；

偏振控制單元，位于所述第二探測單元的出光側(cè)，用于調(diào)節(jié)所述出光口的出射光束的偏振態(tài)；

所述出光口的延伸方向平行于所述線狀光源的延伸方向；

所述第二探測單元的延伸方向垂直于所述出光口的延伸方向；所述偏振控制單元的延伸方向垂直于所述出光口的延伸方向；

所述第二探測單元在沿所述第二探測單元的延伸方向上的長度為L1；所述出光口在沿垂直于所述出光口的延伸方向上的長度為L2；所述偏振控制單元在沿所述偏振控制單元的延伸方向上的長度為L3；L1L2L3；

其中，所述反射單元的數(shù)量為大于或等于4的偶數(shù)，且關于所述線狀光源呈軸對稱分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光照射裝置，其特征在于，所述第一探測單元包括第一角度探測單元和第一能量探測單元，所述第一角度探測單元用于測量入射到所述反射單元的光束的入射角，所述第一能量探測單元用于測量入射到所述反射單元的光束的第一能量分布；

所述第二探測單元包括第二角度探測單元和第二能量探測單元，所述第二角度探測單元用于測量所述出光口的出射光束的出射角，所述第二能量探測單元用于測量所述出光口的出射光束的第二能量分布。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光照射裝置，其特征在于，所述反射單元包括平面反射鏡、拋物面反射鏡、球面反射鏡或橢球面反射鏡的至少一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光照射裝置，其特征在于，所述反射單元的反射面鍍有反射膜。