[發明專利]一種均勻鍍膜的裝置以及方法

在審

• 申請號: 201910361919.6
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN111850477A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 王正安
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種均勻鍍膜的裝置以及方法，該裝置包括：點蒸發源陣列、加熱組件、膜層監控機構和加熱控制機構；點蒸發源陣列包括多個均勻排布的點蒸發源，在每個點蒸發源的外部設置加熱組件；膜層監控機構包括：厚度測量器，用于監測基板的膜層厚度，成分分析器，用于監測基板的膜層成分，以及與厚度測量器和成分分析器連接的控制器，用于根據膜層厚度和膜層成分得到各個點蒸發源的蒸發量；加熱控制機構與控制器和加熱組件連接，用于根據蒸發量，控制加熱組件對每個點蒸發源的加熱輸出功率。本發明通過設置多個均勻排布的點蒸發源，能夠實現大面積的均勻鍍膜，并通過實時監測數據，精確控制蒸發材料的蒸發量，提高了蒸發材料的有效利用率。

技術領域

本發明涉及蒸發鍍膜技術領域，尤其涉及一種均勻鍍膜的裝置以及方法。

背景技術

蒸發鍍膜常稱真空鍍膜。真空鍍膜設備，是用于在高真空的條件下，加熱金屬或非金屬材料的靶材，使其以原子團或離子等形式被蒸發，并在鍍件表面凝結成薄膜的一種設備。

現有的薄膜太陽能電池，主要采用真空鍍膜設備進行制備。在薄膜太陽能電池的制備過程中，若靶材蒸汽在鍍件表面沉積的厚度差較大，會造成產品品質不均勻，膜層厚度的均勻性決定了整批次生產的薄膜太陽能電池的成品率。

在實際生產中，通常將真空鍍膜設備中的蒸發源設置為點蒸發源或線性蒸發源，進行薄膜太陽能電池的制備。但是設置點蒸發源對太陽能電池基板進行蒸發鍍膜，無法保證靶材蒸汽能夠均勻地噴射至待蒸鍍的鍍件表面；而采用線性蒸發源難以實現機械調節，機械加工完成后的線性蒸發源，難以根據鍍膜過程中膜層的實時性能參數進行位置調節。

發明內容

鑒于現有技術中的上述缺陷或不足，期望提供一種均勻鍍膜的裝置以及方法，能夠對真空鍍膜的膜層厚度進行均勻性調整，從而提高工作效率和產品良率。

為了實現上述目的，本發明采取的技術方案為：

本發明的一方面，提供了一種均勻鍍膜的裝置。

本發明提供的一種均勻鍍膜的裝置，設于蒸發鍍膜腔內并位于基板傳送帶的下方，其特征在于，該裝置包括：點蒸發源陣列、加熱組件、膜層監控機構和加熱控制機構；

所述點蒸發源陣列包括多個均勻排布的點蒸發源，在每個所述點蒸發源的外部設置所述加熱組件；

所述膜層監控機構包括：厚度測量器，用于監測基板的膜層厚度，成分分析器，用于監測基板的膜層成分，以及與厚度測量器和成分分析器連接的控制器，用于根據所述膜層厚度和膜層成分得到各個所述點蒸發源的蒸發量；

所述加熱控制機構與所述控制器和所述加熱組件連接，用于根據所述蒸發量，控制所述加熱組件對每個所述點蒸發源的加熱輸出功率。

本發明的另一方面，還提供了一種均勻鍍膜的方法。

本發明提供的一種均勻鍍膜的方法，包括：

將基板傳送至蒸發鍍膜腔內；

加熱控制機構以初始加熱輸出功率控制加熱組件對各個點蒸發源進行加熱；

厚度測量器采集基板的膜層厚度數據并傳輸至控制器，成分分析器采集基板的膜層成分數據并傳輸至控制器；

控制器根據膜層厚度數據和膜層成分數據，得到各個點蒸發源的蒸發量數據并傳輸至加熱控制機構；

加熱控制機構根據所述蒸發量數據，對各個點蒸發源的加熱組件加熱輸出功率進行調整；

加熱組件根據加熱控制機構調整后的加熱輸出功率，對各個點蒸發源進行加熱。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：