[發明專利]2-苯乙烯基苯并惡唑或苯并噻唑基酮肟酯類化合物及其制備方法和應用有效
| 申請號: | 201910361535.4 | 申請日: | 2019-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN110117262B | 公開(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發明(設計)人: | 金明;潘海燕;萬德成 | 申請(專利權)人: | 同濟大學 |
| 主分類號: | C07D263/56 | 分類號: | C07D263/56;C07D277/64;C08F2/48 |
| 代理公司: | 上海科律專利代理事務所(特殊普通合伙) 31290 | 代理人: | 葉鳳 |
| 地址: | 200092 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 苯乙烯 噻唑 基酮肟酯類 化合物 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種2-苯乙烯基苯并惡唑或苯并噻唑基酮肟酯類化合物,其特征在于:選自以下化合物:
2.一種如權利要求1所述的2-苯乙烯基苯并惡唑或苯并噻唑基酮肟酯類化合物作為輻射固化光敏引發劑的用途。
3.根據權利要求2所述的用途,其特征在于:所述輻射固化光敏引發劑的光源選自紫外光和可見光中的一種以上。
4.根據權利要求2所述的用途,其特征在于:所述輻射固化光敏引發劑包括0.01-30重量份2-苯乙烯基苯并惡唑或苯并噻唑基酮肟酯類化合物和100重量份含烯鍵不飽和化合物。
5.根據權利要求4所述的用途,其特征在于:所述輻射固化光敏引發劑包括0.5-10重量份2-苯乙烯基苯并惡唑或苯并噻唑基酮肟酯類化合物和100重量份含烯鍵不飽和化合物。
6.根據權利要求4所述的用途,其特征在于:所述含烯鍵不飽和化合物是指烯鍵通過自由基聚合反應被交聯的化合物或混合物;
所述含烯鍵不飽和化合物選自單體、低聚物或預聚物,或是三者的混合物或共聚物,或是三者的水性分散體。
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