[發明專利]顯示面板及其制作方法有效
| 申請號: | 201910361334.4 | 申請日: | 2019-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN110165074B | 公開(公告)日: | 2021-08-06 |
| 發明(設計)人: | 郭林山 | 申請(專利權)人: | 武漢天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京晟睿智杰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人: | 于淼 |
| 地址: | 430074 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一設置有發光器件的基板;
形成第一無機材料層;
薄化所述第一無機材料層,得到第一無機層;
形成第二無機層;
形成第三層;所述第三層位于第一區域中,所述顯示面板包括預設的顯示區和非顯示區,所述顯示區位于所述第一區域內;
復用所述第三層作為第二掩膜版,使用干刻法對所述第一無機層和所述第二無機層圖案化、同時對所述第三層進行薄化,保留第一區域中的第一無機層,得到第一無機封裝層;保留所述第一區域中的第二無機層,得到第二無機封裝層;對所述第三層進行薄化,得到第三封裝層。
2.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述第三層的材料為無機材料。
3.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述形成第三層進一步為:
形成第三材料層;
使用第一掩膜版對所述第三材料層圖案化,保留所述第一區域中的第三材料層,得到第三層。
4.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述第三層的材料為有機材料。
5.根據權利要求4所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述形成第三層進一步為:
使用噴墨打印技術在所述第一區域打印有機材料以形成所述第三層。
6.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,還包括:
所述形成第三層之前,包括:
形成第三無機材料層;
薄化所述第三無機材料層,得到第三無機層;
所述復用所述第三層作為第二掩膜版,使用干刻法對所述第一無機層和所述第二無機層圖案化、同時對所述第三層進行薄化進一步為:
復用所述第三層作為第二掩膜版,使用干刻法對所述第三無機層、所述第一無機層和所述第二無機層圖案化、同時對所述第三層進行薄化;保留所述第一區域中的第三無機層,得到第三無機封裝層。
7.根據權利要求6所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述第三層的材料為有機材料;
所述制作方法還包括:
在所述第三層背離所述基板的一側形成第四無機封裝層。
8.根據權利要求6所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述第三層的材料為無機材料;
所述形成第三層之前,還包括:
使用噴墨打印技術在所述第一區域打印有機材料以形成第一有機封裝層,所述第一有機封裝層位于所述第三無機封裝層背離所述基板的一側表面。
9.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述非顯示區包括綁定區;
所述基板還包括多個焊盤,所述多個焊盤位于所述綁定區;
所述綁定區位于所述第一區域以外。
10.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述第一無機封裝層的材料包括:氮化硅和/或氧化硅;
所述第二無機封裝層的材料包括:氧化鋁。
11.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述第三層的材料包括:氮氧化硅。
12.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述基板還包括至少一個阻擋部,所述阻擋部為環形且圍繞所述發光器件設置,所述阻擋部位于所述第一區域內部。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





