[發明專利]攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法有效
| 申請號: | 201910360037.8 | 申請日: | 2019-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN111866321B | 公開(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發明(設計)人: | 陳振宇;劉筱迪;趙波杰;黃楨 | 申請(專利權)人: | 寧波舜宇光電信息有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/225 | 分類號: | H04N5/225 |
| 代理公司: | 上海聯益知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31427 | 代理人: | 尹飛宇 |
| 地址: | 315400 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 攝像 模組 及其 感光 組件 電子設備 減少 散光 方法 | ||
本發明揭露了一攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法,其中所述感光組件包括一感光芯片、至少一阻容器件、一擴展走線層和一模制基體,所述擴展走線層具有一通光孔,所述通光孔對應于所述感光芯片的至少所述感光區域,以允許外界光線藉由所述通光孔抵至所述感光芯片的至少所述感光區域,其中,所述擴展走線層具有一內側面,所述內側面界定形成所述通光孔,其中,所述內側面相較所述感光芯片的所述感光區域所界定的一感光面傾斜地設置,所述模制基體一體結合所述感光芯片、所述至少一阻容器件和所述擴展走線層。
技術領域
本發明涉及一攝像模組領域,尤其涉及一利用擴展走線工藝及其結構實現攝像模組的電路系統架設的攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法。
背景技術
雜散光,也稱為雜光或雜散輻射,指的是在攝像模組光學系統中除了成像光線外,擴散于感光芯片表面上的其他非成像光線輻射能,以及通過非正常光路到達感光芯片的成像光線輻射能。雜散光的存在將對攝像模組的成像造成影響,因此,在設計攝像模組的光學系統及攝像模組的封裝過程,皆應充分考慮如何減少雜散光。
發明內容
本發明的一個目的在于提供一攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法,其中,所述攝像模組藉由一擴展走線層參與封裝并架設所述攝像模組的電路系統,以通過所述擴展走線層導通所述攝像模組的一感光芯片和至少一阻容器件。
本發明的另一目的在于提供一攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法,其中,所述擴展走線層包括一擴展走線電路,其延伸于所述擴展走線層內,以架設形成所述攝像模組的電路系統,也就是說,在本發明中,無論所述攝像模組的電路系統如何因應于攝像模組各電子元器件的性能配置需求,所述攝像模組的電路系統調整皆于所述擴展走線層的內部發生,將不會影響攝像模組的封裝和結構尺寸。
本發明的另一目的在于提供一攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法,其中,所述擴展走線層藉由光刻工藝形成一通光孔,所述通光孔對應于所述感光芯片的至少感光區域,以允許外界光線藉由所述通光孔抵至所述感光芯片。
本發明的另一目的在于提供一攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法,其中,在本發明的一實施例中,在利用光刻工藝形成所述通光孔的過程中,利用光刻工藝中的駐波效應使得所述擴展走線層的形成所述通光孔的一內側面具有波浪狀,以增大雜散光的反射區域減少雜散光對攝像模組成像效果的影響。
本發明的另一目的在于提供一攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法,其中,在本發明的一實施例中,在利用光刻工藝加工所述擴展走線層以形成所述通光孔的過程中,以一定斜度光刻所述擴展走線層以使得所述擴展走線層的形成所述通光孔的一內側面相對于所述感光芯片的感光面為一傾斜面,以藉由該傾斜面反射部分雜散光至所述攝像模組的外部,以減少雜散光對攝像模組成像效果的影響。
本發明的另一目的在于提供一攝像模組及其感光組件、電子設備和減少雜散光的方法,其中,所述感光芯片與所述擴展走線層以面對面接觸的方式實現電連接,以使得藉由所述擴展走線層所形成的所述通光孔可直接限制外界光線抵至所述感光芯片的所述感光區域的范圍。
本發明的另一目的在于提供一攝像模組及其感光組件、電子設備和制備方法,其中,所述擴展走線層的一頂表面形成所述感光組件的一頂表面且所述擴展走線層的所述頂表面具有相對較高的平整度,以使得其天然利于作為其他部件(例如,光學鏡頭,濾光元件或驅動元件等)的安裝基面。
通過下面的描述,本發明的其它優勢和特征將會變得顯而易見,并可以通過權利要求書中特別指出的手段和組合得到實現。
依本發明,前述以及其它目的和優勢可以通過一感光組件被實現,其包括:
一感光芯片,所述感光芯片包括一感光區域和位于所述感光區域周圍的一電連接區域;
至少一阻容器件;
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