[發明專利]一種磁控濺射用靶材的制備裝置及方法

有效

• 申請號: 201910353358.5
• 申請日: 2019-04-29
• 公開（公告）號: CN109913839B
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 王永超;王偉濤;楊玉杰;付憲坡;張軍營;李建勛
• 申請（專利權）人: 河南東微電子材料有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 鄭州浩翔專利代理事務所(特殊普通合伙) 41149
• 代理人: 邊延松

1.一種磁控濺射用靶材的制備裝置，其特征在于，包括料倉（1），所述料倉（1）下設有下料管（2），所述下料管（2）上設有電磁閥（3），所述下料管（2）下方設有燒結爐體（4），所述燒結爐體（4）的一側設有控制器（5），所述燒結爐體（4）上設有進料管（6），所述進料管（6）與所述下料管（2）相匹配，所述進料管（6）內設有稱重斗（7）, 所述稱重斗（7）下端設有電控自動門（8），所述電控自動門（8）安裝在所述進料管（6）的內壁上，所述電控自動門（8）與稱重斗（7）之間設有壓力傳感器（9），所述燒結爐體（4）內部設有電熱絲放置腔（10），所述電熱絲放置腔（10）內壁設有電加熱絲（11），所述電熱絲放置腔（10）上位于所述燒結爐體（4）內設有集熱腔（12），所述集熱腔（12）上開設有主加熱開口（13），所述電加熱絲（11）位于所述主加熱開口（13）下方，所述主加熱開口（13）的兩側位于所述集熱腔（12）上分別設有預熱開口（14）和保溫開口（15），所述燒結爐體（4）的一側位于所述集熱腔（12）的上方開設有缺口（16），所述缺口（16）內設有轉盤（17），所述轉盤（17）的中部設有轉軸（18），所述轉軸（18）遠離所述轉盤（17）的一端位于第一電機（19）的輸出端，所述轉盤（17）的周圍設有若干放置槽（20），所述放置槽（20）下開設有第一通孔（21），所述放置槽（20）內放置設有底模（22），所述底模（22）包括外殼（23），所述外殼（23）的兩側設有轉動桿（24），所述放置槽（20）的兩側設有立板（25），所述立板（25）上開設有卡槽（26），所述卡槽（26）與所述轉動桿（24）相匹配，所述外殼（23）下設有第二通孔（27），所述第二通孔（27）與所述第一通孔（21）相匹配，所述外殼（23）內設有內模（28），所述內模（28）上設有把手板（29），所述放置槽（20）的一側開設有放置空腔，所述放置空腔內固定設有第二電機（30），所述第二電機（30）的輸出端固定設有旋轉板（31），所述旋轉板（31）的邊緣位置固定設有固定柱（32），所述固定柱（32）上套設有套環（33），所述套環（33）的一側固定設有第一傳動桿（34），所述第一傳動桿（34）遠離所述套環（33）的一端通過活動軸活動連接設有第二傳動桿（35），所述放置槽（20）與所述放置空腔之間設有傳動桿通道（36），所述第二傳動桿（35）貫穿所述傳動桿通道（36）延伸至所述放置槽（20）內與所述底模（22）的外壁相匹配，所述燒結爐體（4）的一側設有液壓桿（37），所述液壓桿（37）的輸出端設有上模（38），所述上模（38）與所述內模（28）相匹配，所述電磁閥（3）、電控自動門（8）、第一電機（19）、第二電機（30）、電加熱絲（11）分別與所述控制器（5）電性連接。

2.根據權利要求1所述的一種磁控濺射用靶材的制備裝置，其特征在于，所述進料管（6）的內壁上設有導料板（39）。

3.根據權利要求2所述的一種磁控濺射用靶材的制備裝置，其特征在于，所述電熱絲放置腔（10）的一側設有檢修門（40）。

4.根據權利要求3所述的一種磁控濺射用靶材的制備裝置，其特征在于，所述外殼（23）內壁設有若干限位柱，所述限位柱令所述外殼（23）和所述內模（28）之間形成導熱空腔（41）。

5.根據權利要求4所述的一種磁控濺射用靶材的制備裝置，其特征在于，所述內模（28）包括陶瓷側壁和合金底板，所述合金底板固定在所述陶瓷側壁的底部，所述合金底板與所述第二通孔（27）相匹配。

6.根據權利要求5所述的一種磁控濺射用靶材的制備裝置，其特征在于，所述轉盤（17）下位于所述燒結爐體（4）的一側設有承載臺（42），所述承載臺（42）與所述轉盤（17）相接觸。

7.根據權利要求6所述的一種磁控濺射用靶材的制備裝置，其特征在于，所述承載臺（42）上設有若干滾輪，所述承載臺（42）通過滾輪與所述轉盤（17）相接觸。