[發(fā)明專利]光學裝置、曝光裝置、光學裝置制造方法和物品制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910341356.4 | 申請日: | 2019-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN110412704B | 公開(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 中島猛;戶村聰;羽切正人;關美津留 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G02B7/00 | 分類號: | G02B7/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 楊小明 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 裝置 曝光 制造 方法 物品 | ||
本發(fā)明涉及光學裝置、曝光裝置、光學裝置制造方法和物品制造方法。一種光學裝置包括光學部件、被配置為支撐光學部件的支撐機構、操縱機構,該操縱機構被配置為在接觸光學部件的同時操縱光學部件,使得光學部件的狀態(tài)改變。通過操縱機構將光學部件從光學部件由支撐機構支撐的第一狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由操縱機構支撐的第二狀態(tài)。
技術領域
本發(fā)明涉及一種光學裝置、曝光裝置、光學裝置的制造方法和物品的制造方法。
背景技術
在通過保持機構保持諸如透鏡或鏡子的光學部件的光學裝置中,光學部件可以由于其自身重量等而在應力下變形。例如,日本專利公開第2001-242364號描述了在透鏡和透鏡安裝部分在多個點處彼此接觸的布置中,存在透鏡變形和光學特性劣化的可能性。
光學部件由于其自身重量而變形是不可避免的,但是可以在考慮光學部件的變形的同時調整包括光學部件的光學裝置的光學特性。然而,當在裝運之前調整光學裝置并在裝運之后再次調整光學裝置時,如果在裝運之前和裝運之后光學部件的變形狀態(tài)不同,則裝運之前調整的重要性降低,并且在裝運之后會需要長時間進行再次調整。
發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種有利于縮短再次調整光學裝置所需的時間的技術。
本發(fā)明的第一方面提供了一種光學裝置,包括光學部件和被配置為支撐光學部件的支撐機構,所述光學裝置包含:操縱機構,被配置為在接觸光學部件的同時操縱光學部件,使得光學部件的狀態(tài)改變,其中,通過操縱機構將光學部件從光學部件由支撐機構支撐的第一狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由操縱機構支撐的第二狀態(tài)。
本發(fā)明的第二方面提供了一種光學裝置,包括光學部件和被配置為支撐光學部件的支撐機構,所述光學裝置包含:操縱機構,被配置為在接觸光學部件的同時操縱光學部件,使得光學部件的狀態(tài)改變,其中,操縱機構包括被配置為驅動光學部件的驅動機構,并且光學部件由驅動機構驅動,使得光學部件從光學部件由支撐機構支撐的第一狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由操縱機構支撐的第二狀態(tài)。
本發(fā)明的第三方面提供了一種光學裝置,包括光學部件和被配置為支撐光學部件的支撐機構,所述光學裝置包含:操縱機構,被配置為在接觸光學部件的同時操縱光學部件,使得光學部件的狀態(tài)改變;以及傳感器,被配置為測量光學部件的位移或形狀,其中,通過操縱機構將光學部件從光學部件由支撐機構支撐的第一狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由操縱機構支撐的第二狀態(tài),并且基于傳感器的測量結果,通過操縱機構操縱光學部件。
本發(fā)明的第四方面提供了一種曝光裝置,其被配置為使用在本發(fā)明的第一、第二和第三方面之一中限定的光學裝置來曝光基板。
本發(fā)明的第五方面提供了一種制造光學裝置的方法,該光學裝置包括光學部件、被配置為支撐光學部件的支撐機構以及被配置為操縱光學部件使得光學部件的狀態(tài)改變的操縱機構,所述方法包括:將光學部件的狀態(tài)設置為光學部件由支撐機構支撐的狀態(tài);在所述設置之后,將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由操縱機構支撐的狀態(tài);在所述改變之后,將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由支撐機構支撐的狀態(tài);在將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由支撐機構支撐的狀態(tài)之后,調整光學裝置的光學特性;在所述調整之后,運輸光學裝置;在所述運輸之后,將光學部件的狀態(tài)設置為光學部件由支撐機構支撐的狀態(tài);當在所述運輸之后將光學部件的狀態(tài)設置為光學部件由支撐機構支撐的狀態(tài)之后,將光學裝置的狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由操縱機構支撐的狀態(tài);以及在將光學裝置的狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由操縱機構支撐的狀態(tài)之后,將光學裝置的狀態(tài)改變?yōu)楣鈱W部件由支撐機構支撐的狀態(tài)。
本發(fā)明的第六方面提供一種制造物品的方法,所述方法包括:通過使用在本發(fā)明的第四方面中限定的曝光裝置對施加有光敏劑的基板進行曝光;通過對光敏劑進行顯影來形成圖案;以及使用該圖案處理基板,其中,所述物品是從基板制造的。
根據(jù)下面參照附圖對示例性實施例的描述,本發(fā)明的其他特征將變得清晰。
附圖說明
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