[發(fā)明專利]光學裝置、曝光裝置、光學裝置制造方法和物品制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910341356.4
• 申請日: 2019-04-26
• 公開（公告）號: CN110412704B
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 中島猛;戶村聰;羽切正人;關(guān)美津留
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G02B7/00
• 分類號: G02B7/00;G03F7/20
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 楊小明

1.一種通過使用支撐機構(gòu)和操縱機構(gòu)來調(diào)整光學部件的狀態(tài)的方法，所述方法包含：

設(shè)置步驟，將光學部件的狀態(tài)設(shè)置為支撐機構(gòu)支撐光學部件而操縱機構(gòu)不支撐光學部件的第一狀態(tài)；

第一改變步驟，將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)椴倏v機構(gòu)支撐光學部件的第二狀態(tài)；以及

第二改變步驟，將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)橹螜C構(gòu)支撐光學部件而操縱機構(gòu)不支撐光學部件的第一狀態(tài)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，第一改變步驟和第二改變步驟被執(zhí)行以減少光學部件中的應(yīng)力。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，設(shè)置步驟、第一改變步驟和第二改變步驟：

在裝運光學裝置之前根據(jù)預先確定的規(guī)范被執(zhí)行，并且

根據(jù)與裝運之前相同的規(guī)范在裝運光學裝置之后進一步被執(zhí)行。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，第二狀態(tài)包括操縱機構(gòu)支撐光學部件而支撐機構(gòu)不支撐光學部件的狀態(tài)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，第二狀態(tài)包括支撐機構(gòu)和操縱機構(gòu)均支撐光學部件的狀態(tài)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，

第二狀態(tài)包括：

支撐機構(gòu)和操縱機構(gòu)均支撐光學部件的第三狀態(tài)，以及

操縱機構(gòu)支撐光學部件而支撐機構(gòu)不支撐光學部件的第四狀態(tài)，并且

第一改變步驟包括：將光學部件的狀態(tài)從第一狀態(tài)改變?yōu)榈谌隣顟B(tài)，然后將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)榈谒臓顟B(tài)，以及然后將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)榈谌隣顟B(tài)，并且

第二改變步驟將光學部件的狀態(tài)從第三狀態(tài)改變?yōu)榈谝粻顟B(tài)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，

光學裝置還包括被配置為封閉光學部件的封閉構(gòu)件，

操縱機構(gòu)被配置為改變布置在封閉構(gòu)件中的光學部件的狀態(tài)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，操縱機構(gòu)包括被配置為驅(qū)動光學部件的驅(qū)動機構(gòu)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，基于被配置為測量光學部件的位移或形狀的傳感器的測量，執(zhí)行第一改變步驟。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進一步包括：

在第二改變步驟之后測量光學部件的位移或形狀的測量步驟；

第三改變步驟，將光學部件的狀態(tài)從第一狀態(tài)改變?yōu)榈诙顟B(tài)；以及然后

第四改變步驟，將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)榈谝粻顟B(tài)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，光學部件是曝光裝置的部件，曝光裝置被配置為使用所述光學部件來曝光基板。

12.一種制造光學裝置的方法，該光學裝置包括光學部件、被配置為支撐光學部件的支撐機構(gòu)以及被配置為操縱光學部件以改變光學部件的狀態(tài)的操縱機構(gòu)，所述方法包括：

第一設(shè)置步驟，將光學部件的狀態(tài)設(shè)置為支撐機構(gòu)支撐光學部件的第一狀態(tài)；

第一改變步驟，在第一設(shè)置步驟之后，將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)椴倏v機構(gòu)支撐光學部件的第二狀態(tài)；

第二改變步驟，在第一改變步驟之后，將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)橹螜C構(gòu)支撐光學部件的第一狀態(tài)；

第一調(diào)整步驟，在第二改變步驟之后，調(diào)整光學裝置的光學特性；

運輸步驟，在第一調(diào)整步驟之后，運輸光學裝置；

第二設(shè)置步驟，在運輸步驟之后，將光學部件的狀態(tài)設(shè)置為支撐機構(gòu)支撐光學部件的第一狀態(tài)；

第三改變步驟，在第二設(shè)置步驟之后，將光學裝置的狀態(tài)改變?yōu)椴倏v機構(gòu)支撐光學部件的第二狀態(tài)；以及

第四改變步驟，在第三改變步驟之后，將光學裝置的狀態(tài)改變?yōu)橹螜C構(gòu)支撐光學部件的第一狀態(tài)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，還包括：在第四改變步驟之后，調(diào)整光學裝置的光學特性的第二調(diào)整步驟。

14.一種使用曝光裝置的物品制造方法，曝光裝置被配置為通過使用其光學部件來曝光基板，所述方法包括：

設(shè)置步驟，將光學部件的狀態(tài)設(shè)置為支撐機構(gòu)支撐光學部件而操縱機構(gòu)不支撐光學部件的第一狀態(tài)；

第一改變步驟，將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)椴倏v機構(gòu)支撐光學部件的第二狀態(tài)；以及

第二改變步驟，將光學部件的狀態(tài)改變?yōu)橹螜C構(gòu)支撐光學部件而操縱機構(gòu)不支撐光學部件的第一狀態(tài)；

曝光步驟，用曝光裝置對施加有光敏劑的基板進行曝光；

通過對光敏劑進行顯影來形成圖案；以及

使用圖案處理基板，以從基板制造物品。