[發(fā)明專(zhuān)利]工件矯正方法和工件矯正裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910341006.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110400766A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-11-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石井直樹(shù) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 日東電工株式會(huì)社;日東精機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會(huì)華 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶圓 工件矯正 矯正 物理接觸 吹送 損傷 氣體噴射噴嘴 按壓 按壓板 電路面 平坦化 吸附孔 載置面 薄型 朝上 基板 翹曲 吸附 變形 電路 平坦 暴露 | ||
本發(fā)明提供一種不會(huì)對(duì)以晶圓、基板為例的薄型的工件帶來(lái)變形、損傷就能夠?qū)⒃摴ぜ教沟爻C正的工件矯正方法和工件矯正裝置。經(jīng)由設(shè)于保持臺(tái)(9)的吸附孔(17)對(duì)載置于保持臺(tái)(9)的晶圓(W)進(jìn)行吸附,并且借助設(shè)于晶圓(W)的上方的氣體噴射噴嘴(27)向晶圓(W)吹送氣體(N)。在吹送的氣體(N)的壓力的作用下,晶圓(W)被向保持臺(tái)(9)的載置面按壓,因此,能夠?qū)⒕A(W)的翹曲可靠地矯正來(lái)使該晶圓(W)平坦化。在矯正晶圓(W)時(shí),按壓板等構(gòu)件不必與晶圓(W)的朝上暴露的電路面物理接觸。因而,能夠可靠地避免因物理接觸導(dǎo)致使晶圓(W)的電路發(fā)生損傷等不良的情況。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在對(duì)以半導(dǎo)體晶圓(以下適當(dāng)?shù)胤Q(chēng)作“晶圓”)、基板為例的薄板狀的工件進(jìn)行粘合帶的粘貼操作等各種操作時(shí),用于矯正工件的翹曲使工件平坦化的工件矯正方法和工件矯正裝置。
背景技術(shù)
在晶圓的表面進(jìn)行電路圖案形成處理之后,實(shí)施均勻地磨削晶圓的整個(gè)背面而使晶圓更加薄型化的背面磨削處理。在進(jìn)行該背面磨削處理之前,為了保護(hù)電路,在晶圓的整個(gè)表面粘貼保護(hù)用的粘合帶(保護(hù)帶)。此外,在進(jìn)行背面磨削處理之后,跨薄型化后的晶圓的整個(gè)背面和包圍該晶圓的周?chē)男螤畹沫h(huán)框地粘貼有支承用的粘合帶(切割帶)。
在將粘合帶粘貼于晶圓的情況下,作為穩(wěn)定地保持晶圓的方法,通常使用將晶圓載置于平坦的保持臺(tái)之后利用保持臺(tái)來(lái)吸附晶圓的整個(gè)下表面的方法。但是,在相對(duì)于晶圓粘貼粘合帶的工序中,有時(shí)晶圓發(fā)生翹曲等應(yīng)變。
在該情況下,保持臺(tái)能夠吸附的對(duì)象限于晶圓的一部分,因此,難以穩(wěn)定地吸附保持晶圓。并且,難以對(duì)發(fā)生應(yīng)變的晶圓的整個(gè)面均勻且高精度地粘貼粘合帶。
因此,作為進(jìn)行向晶圓粘貼粘合帶的操作之前的階段,在平坦的保持臺(tái)載置晶圓,利用按壓板按壓晶圓的整個(gè)面,從而矯正晶圓的翹曲使晶圓平坦化(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2012-114465號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
但是,在上述現(xiàn)有裝置中,存在如下的問(wèn)題。
即,在現(xiàn)有的矯正方法中,為了矯正晶圓,需要使按壓板接觸晶圓。因此,作為一例,在將電路面暴露的晶圓作為矯正對(duì)象時(shí),若利用按壓板接觸、按壓,則擔(dān)憂(yōu)晶圓的電路發(fā)生變形、損傷等問(wèn)題。
因而,針對(duì)不適合進(jìn)行使按壓板這樣的構(gòu)件機(jī)械地接觸并按壓的操作的對(duì)象,無(wú)法使用按壓板,因此,難以高精度地矯正而使之平坦化。
本發(fā)明是鑒于這樣的情況而完成的,其主要目的在于提供一種工件矯正方法和工件矯正裝置,其不會(huì)對(duì)以晶圓、基板為例的薄型的工件帶來(lái)變形、損傷就能夠?qū)⒃摴ぜ教沟爻C正。
本發(fā)明為了達(dá)成這樣的目的,采取如下的結(jié)構(gòu)。
即,本發(fā)明是一種工件矯正方法,其特征在于,具有:
保持過(guò)程,在該過(guò)程中,在平坦的保持臺(tái)上保持工件;
氣體供給過(guò)程,在該過(guò)程中,利用從設(shè)于所述保持臺(tái)的上方的氣體供給機(jī)構(gòu)向所述工件的上表面供給的氣體的壓力來(lái)按壓所述工件;以及
吸附過(guò)程,在該過(guò)程中,經(jīng)由設(shè)于所述保持臺(tái)的吸附孔將所述工件的下表面吸附于所述保持臺(tái)。
(作用·效果)根據(jù)該結(jié)構(gòu),在平坦的保持臺(tái)上保持工件,利用從設(shè)于保持臺(tái)的上方的氣體供給機(jī)構(gòu)供給的氣體的壓力來(lái)按壓工件。并且,經(jīng)由設(shè)于保持臺(tái)的吸附孔將工件的下表面吸附于保持臺(tái)。工件被向上表面供給的氣體的壓力按壓,從而翹曲被矯正。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于日東電工株式會(huì)社;日東精機(jī)株式會(huì)社,未經(jīng)日東電工株式會(huì)社;日東精機(jī)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910341006.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:基片處理裝置、基片處理方法和刷
- 下一篇:反應(yīng)腔室
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





