[發明專利]鐳雕蝕刻工藝

在審

• 申請號: 201910334946.4
• 申請日: 2019-04-24
• 公開（公告）號: CN109955636A
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發明（設計）人: 段志宏;段世茂
• 申請（專利權）人: 蘇州星澤激光科技有限公司
• 主分類號: B44C1/22
• 分類號: B44C1/22
• 代理公司: 北京國坤專利代理事務所(普通合伙) 11491
• 代理人: 趙紅霞

本發明揭示了鐳雕蝕刻工藝，用于模具槽室的紋理成型，包括如下步驟：表面處理，對模具的槽室進行清洗，再通過噴砂工藝對槽室內加工表面進行平滑處理；表面覆蓋封隔層，調配封隔液，將封隔液均勻覆蓋在加工表面上，封隔液固化后形成封隔層；鐳雕開窗，根據成型紋理在封隔層上進行開窗，開窗部金屬體外露；化學腐蝕，對開窗部的外露金屬體進行蝕刻。本發明采用鐳雕與蝕刻工藝相結合，縮短了傳統蝕刻紋理成型周期，同時又降低了全流程鐳雕作業的成本。封隔層形成科學，鐳射擊穿穩定，開窗金屬表面灼刻深度得到精確控制，提高了紋理成型精度。尤為適用具備曲面及彎折面的加工表面，且滿足多層紋理的加工需求。

技術領域

本發明涉及鐳雕蝕刻工藝，屬于的金屬表面紋理形成工藝的技術領域。

背景技術

傳統的制作工藝多采用菲林曝光，在每一次菲林曝光前需要人工精確對位上一層圖案，且每層圖案之間的位置公差精度為±0.03mm，精度較差；且每一次的人工菲林對位都耗費大量的時間而且定位不準確造成返工，從而導致成本居高不下。除此之外，這種方式每層花紋都需要噴涂感光膠，使得產生的工藝廢水較多，污染環境。

申請公告號CN109277274A的中國發明專利揭示了模具外觀紋理的激光蝕刻混合工藝，該工藝通過鐳射和蝕刻工藝能實現紋理成型，提高作業效率。但是，其感光膠的特性和用量均存在較大缺陷。

在實際應用過程中，傳統地感光膠很難實現鐳雕強度的控制，在擊穿感光膠后金屬表面存在非平整的灼刻現象，影響到紋理的高精度成型，尤其是在出現曲度及彎折面狀態下，容易出現誤差，而且感光膠的用量與鐳射并不存在必然的關系。

另外，擊穿層需要較高地化學穩定性，在進行蝕刻作業時，能確保紋理成型精度，而傳統地感光膠在蝕刻過程中，易出現不穩定性，最終導致紋理成型精度較低。

發明內容

本發明的目的是解決上述現有技術的不足，針對傳統鐳雕蝕刻混合工藝所存在的問題，提出鐳雕蝕刻工藝。

為了達到上述目的，本發明所采用的技術方案為：

鐳雕蝕刻工藝，用于模具槽室的紋理成型，包括如下步驟：

S1表面處理，

對模具的槽室進行清洗，再通過噴砂工藝對槽室內加工表面進行平滑處理；

S2表面覆蓋封隔層，

調配封隔液，將封隔液均勻覆蓋在加工表面上，封隔液固化后形成封隔層；

S3鐳雕開窗，

根據成型紋理在封隔層上進行開窗，開窗部金屬體外露；

S4化學腐蝕，

對開窗部的外露金屬體進行蝕刻。

優選地，所述步驟S2中，封隔液按照質量比包括：

10份黑色水性聚氨酯面漆，

5份固化劑，

8～10份稀料。

優選地，所述步驟S1中，噴砂采用600目～800目碳化硅研磨顆粒。

優選地，所述步驟S2中，覆蓋在加工表面的封隔液的層厚為0.3mm±0.05mm，進行熱光照固化，固化時間為5min±20s。

優選地，所述步驟S3中，鐳射強度控制在擊穿封隔液層、金屬表層灼刻深度小于0.001mm。

優選地，所述加工表面具備曲面和/彎折面。

優選地，所述紋理包括至少兩層紋理層，任意紋理層采用步驟S2和步驟S4成型。

本發明的有益效果主要體現在：