[發明專利]真空干燥設備在審
| 申請號： | 201910326774.6 | 申請日： | 2019-04-23 |
| 公開（公告）號： | CN110116559A | 公開（公告）日： | 2019-08-13 |
| 發明（設計）人： | 李文杰;井口真介 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | B41J11/00 | 分類號： | B41J11/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空干燥設備 溫度調節裝置 多孔整流板 氣體抽取裝置 膜面均勻性 噴墨打印 氣流變化 抽氣 基板 膜面 載臺 | ||
1.一種真空干燥設備，其特征在于：所述真空干燥設備包含：
一腔體，具有一容置空間；
一載臺，設在所述容置空間內；
一多孔整流板，設在所述容置空間內且位在所述載臺的上方，其中所述多孔整流板的一下表面面對所述載臺，以及所述多孔整流板包含從中心朝外部減少的一孔分布密度；
一多孔溫度調節裝置，設在所述容置空間內且接觸所述多孔整流板的一上表面；及
一氣體抽取裝置，設在所述多孔溫度調節裝置的上方且連通所述腔體的容置空間。
2.如權利要求1所述的真空干燥設備，其特征在于：所述多孔整流板的一材質包含陶瓷。
3.如權利要求1所述的真空干燥設備，其特征在于：所述孔分布密度從所述多孔整流板的中心朝外部是連續的漸減。
4.如權利要求1所述的真空干燥設備，其特征在于：所述孔分布密度從所述多孔整流板的中心朝外部是階段式的漸減。
5.如權利要求1所述的真空干燥設備，其特征在于：所述多孔溫度調節裝置是一多孔冷凝板。
6.如權利要求5所述的真空干燥設備，其特征在于：所述多孔冷凝板的一溫度調整范圍介于2至30℃之間。
7.如權利要求1所述的真空干燥設備，其特征在于：所述氣體抽取裝置包含一機械泵浦及一分子泵浦中的至少一種。
8.如權利要求1所述的真空干燥設備，其特征在于：所述多孔整流板包含從中心朝外部分布的多個區域，所述多個區域包含：
一第一區域，位在所述多孔整流板的中心且具有一第一孔分布密度；
一第二區域，鄰接所述第一區域且具有一第二孔分布密度，其中所述第二孔分布密度小于所述第一孔分布密度；及
一第三區域，鄰接所述第二區域且具有一第三孔分布密度，其中所述第三孔分布密度小于所述第二孔分布密度。
9.如權利要求8所述的真空干燥設備，其特征在于：所述多個區域各具有一面積，其中所述多個區域的面積從中心朝外部是減少的。
10.一種真空干燥設備，其特征在于：所述真空干燥設備包含：
一腔體，具有一容置空間；
一載臺，設在所述容置空間內；
一陶瓷多孔整流板，設在所述容置空間內且位在所述載臺的上方，其中所述陶瓷多孔整流板的一下表面面對所述載臺，以及所述陶瓷多孔整流板包含從中心朝外部減少的一孔分布密度；
一多孔冷凝板，設在所述容置空間內且接觸所述陶瓷多孔整流板的一上表面；及
一氣體抽取裝置，設在所述多孔冷凝板的上方且連通所述腔體的容置空間。
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