[發(fā)明專利]一種光刻機

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910326298.8
• 申請日: 2019-04-23
• 公開（公告）號: CN110032045A
• 公開（公告）日: 2019-07-19
• 發(fā)明（設計）人: 李代甫
• 申請（專利權）人: 柳江
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳國海智峰知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44489
• 代理人: 王慶海;劉軍鋒

本發(fā)明涉及光刻機技術領域，尤其涉及一種光刻機，包括激光器和掩模座、晶片座；其中激光器由第一反射鏡、第二反射鏡、增益介質(zhì)和泵浦裝置組成；第一反射鏡為全反射鏡，第二反射鏡為部分反射鏡，激光器產(chǎn)生的激光通過第二反射鏡分光輸出；其中掩模座布置在所述激光器的諧振光路上，用于安裝光刻掩模，晶片座布置在所述激光器的輸出光路上，用于安裝光刻晶片。光刻機工作時，掩模布置在所述掩模座上，晶片布置在所述晶片座上；諧振光穿過掩模上的孔、縫完成諧振，輸出的激光投射到晶片上對晶片進行曝光。

技術領域

本發(fā)明涉及光刻機技術領域，尤其涉及一種光刻機。

背景技術

光刻機是現(xiàn)代半導體工業(yè)需要用到的一種重要且關鍵的設備，現(xiàn)有光刻機由于受到光線衍射效應的影響，在光刻精度遠小于光刻波長時，進一步提高光刻精度越來越困難。

并且現(xiàn)在的光刻機系統(tǒng)復雜，工藝要求高，實施難度大并且實現(xiàn)成本巨大，因此，很有必要提供一種光刻機，來解決現(xiàn)有技術中存在的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種光刻機，通過將光刻掩模布置在激光器的諧振回路之中，來解決光的衍射問題，以提高光刻機的光刻精度。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種光刻機，包括激光器和掩模座、晶片座；

掩模座布置在激光器的諧振光路上，用于安裝光刻掩模；

晶片座布置在激光器的輸出光路上，用于安裝光刻晶片。

進一步的，光刻機工作時，掩模布置在掩模座上，晶片布置在晶片座上；諧振光穿過掩模上的孔、縫完成諧振，輸出的激光投射到晶片上對晶片進行曝光。

具體的，激光器由第一反射鏡、第二反射鏡、增益介質(zhì)和泵浦裝置組成；

第一反射鏡為全反射鏡，第二反射鏡為部分反射鏡，激光器產(chǎn)生的激光通過第二反射鏡分光輸出。

進一步的，還包括增益介質(zhì)隔離腔；

增益介質(zhì)隔離腔將空間隔離成腔內(nèi)和腔外兩個部分，增益介質(zhì)布置在增益介質(zhì)隔離腔的腔內(nèi)，晶片座布置在增益介質(zhì)隔離腔的腔外。

具體的，用第二反射鏡構(gòu)成增益介質(zhì)隔離腔的一部分，掩模座布置在增益介質(zhì)隔離腔的腔內(nèi)，

或者，

增益介質(zhì)隔離腔上位于激光器的諧振光路上的部分和/或增益介質(zhì)隔離腔上位于激光器的輸出光路上的部分由對激光透明的材料構(gòu)成，以利于激光穿過增益介質(zhì)諧振腔完成諧振或輸出，掩模座布置在增益介質(zhì)隔離腔的腔內(nèi)，或者掩模座布置在增益介質(zhì)隔離腔的腔外。

具體的，第一反射鏡和第二反射鏡均為平面鏡且互相平行，構(gòu)成激光器的諧振腔。

具體的，在掩模座上安裝有掩模和晶片座上安裝有晶片時，晶片、掩模、第一反射鏡和第二反射鏡兩兩互相平行。

進一步的，還包括凸透鏡或凹透鏡和快門；

凸透鏡或凹透鏡布置在激光器的輸出光路上，從激光器輸出的激光通過凸透鏡或凹透鏡輸出到晶片上，使掩模在晶片上的成像得到放大或縮小；

快門布置在激光器的輸出光路上，用于控制激光器輸出光路的通/斷從而控制對晶片的曝光時間。

本發(fā)明提供的另一種光刻機，激光器由第一反射鏡、第二反射鏡、分光鏡、增益介質(zhì)和泵浦裝置組成；

第一反射鏡和第二反射鏡均為全反射鏡，分光鏡布置在第一反射鏡和第二反射鏡之間的諧振光路上，第一反射鏡和第二反射鏡之間反射的光通過分光鏡透射或反射形成諧振回路，激光器產(chǎn)生的激光通過分光鏡的反射或透射分光輸出。