[發明專利]一種光刻機在審
| 申請號： | 201910326298.8 | 申請日： | 2019-04-23 |
| 公開（公告）號： | CN110032045A | 公開（公告）日： | 2019-07-19 |
| 發明（設計）人： | 李代甫 | 申請（專利權）人： | 柳江 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳國海智峰知識產權代理事務所(普通合伙) 44489 | 代理人： | 王慶海;劉軍鋒 |
| 地址： | 430200 湖北省武漢市東*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射鏡 激光器 光刻機 晶片 晶片座 掩模座 諧振光 泵浦裝置 光刻掩模 激光投射 全反射鏡 掩模布置 增益介質 輸出 諧振 輸出光 分光 光刻 掩模 激光 穿過 曝光 | ||
1.一種光刻機，其特征在于，包括激光器和掩模座、晶片座；
所述掩模座布置在所述激光器的諧振光路上，用于安裝光刻掩模；
所述晶片座布置在所述激光器的輸出光路上，用于安裝光刻晶片。
2.根據權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述光刻機工作時，掩模布置在所述掩模座上，晶片布置在所述晶片座上；諧振光穿過掩模上的孔、縫完成諧振，輸出的激光投射到晶片上對晶片進行曝光。
3.根據權利要求1或2所述的光刻機，其特征在于，所述激光器由第一反射鏡、第二反射鏡、增益介質和泵浦裝置組成；
所述第一反射鏡為全反射鏡，所述第二反射鏡為部分反射鏡，所述激光器產生的激光通過所述第二反射鏡分光輸出。
4.根據權利要求3所述的光刻機，其特征在于，還包括增益介質隔離腔；
所述增益介質隔離腔將空間隔離成腔內和腔外兩個部分，所述增益介質布置在所述增益介質隔離腔的腔內，所述晶片座布置在所述增益介質隔離腔的腔外。
5.根據權利要求4所述的光刻機，其特征在于，
用所述第二反射鏡構成增益介質隔離腔的一部分，所述掩模座布置在增益介質隔離腔的腔內，
或者，
所述增益介質隔離腔上位于所述激光器的諧振光路上的部分和/或所述增益介質隔離腔上位于所述激光器的輸出光路上的部分由對激光透明的材料構成，以利于激光穿過增益介質諧振腔完成諧振或輸出，所述掩模座布置在增益介質隔離腔的腔內，或者所述掩模座布置在增益介質隔離腔的腔外。
6.根據權利要求5所述的光刻機，其特征在于，所述第一反射鏡和所述第二反射鏡均為平面鏡且互相平行，構成所述激光器的諧振腔；
在所述掩模座上安裝有掩模和所述晶片座上安裝有晶片時，所述晶片、所述掩模、所述第一反射鏡和所述第二反射鏡兩兩互相平行。
7.根據權利要求6所述的光刻機，其特征在于，還包括凸透鏡或凹透鏡和快門；
所述凸透鏡或凹透鏡布置在所述激光器的輸出光路上，從所述激光器輸出的激光通過所述凸透鏡或凹透鏡輸出到所述晶片上，使掩模在所述晶片上的成像得到放大或縮小；
所述快門布置在所述激光器的輸出光路上，用于控制激光器輸出光路的通/斷從而控制對晶片的曝光時間。
8.根據權利要求1或2所述的光刻機，其特征在于，所述激光器由第一反射鏡、第二反射鏡、分光鏡、增益介質和泵浦裝置組成；
所述第一反射鏡和所述第二反射鏡均為全反射鏡，所述分光鏡布置在所述第一反射鏡和所述第二反射鏡之間的諧振光路上，所述第一反射鏡和所述第二反射鏡之間反射的光通過所述分光鏡透射或反射形成諧振回路，所述激光器產生的激光通過所述分光鏡的反射或透射分光輸出。
9.根據權利要求8所述的光刻機，其特征在于，
在所述掩模座上安裝有掩模和所述晶片座上安裝有晶片時，所述晶片與所述分光鏡的交線和所述掩模與所述分光鏡的交線平行，所述晶片與所述分光鏡的夾角和所述掩模與所述分光鏡的夾角相等。
10.一種光刻方法，將掩模布置在激光器的諧振光路上，將晶片布置在激光器的輸出光路上；通過掩模影響激光器的諧振，進而將掩模圖案復制到激光器的輸出光束中，再將含有掩模圖案信息的激光器輸出光束投射到晶片上，在晶片上恢復出掩模圖案以實現光刻成像。
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