[發(fā)明專利]一種鈦、鉛共摻雜二硫化鎢復(fù)合薄膜的制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910320095.8
• 申請日: 2019-04-19
• 公開（公告）號: CN110016644A
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡建強;郭力;徐克明;徐新;楊士釗;鄭全喜
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍空軍勤務(wù)學(xué)院
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 溫州市品創(chuàng)專利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙) 33247
• 代理人: 洪中清

1.一種鈦、鉛共摻雜二硫化鎢復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，依次包括以下步驟：

S1、對不銹鋼片進行前物理化學(xué)清洗，然后磨光、拋光處理，確保基體表面的粗糙度小于Ra2μm，刻蝕樣品表面，除去樣品表面的氧化物和其他污染物；

S2、將多孔氧化石墨烯、二硫化鎢靶、鈦靶、鉛靶和前處理后的不銹鋼片裝入閉合場非平衡磁控濺射沉積室，將沉積室的氣壓抽至1.0×10³Pa后，通入高純氬氣為工作氣體，將脈沖偏壓施加至基材上；

S3、調(diào)節(jié)鈦靶電流，在基底表面沉積一層150nm-200nm厚的過渡層；

S4、調(diào)節(jié)鈦靶和鉛靶電流，濺射后得到鈦、鉛共摻雜二硫化鎢復(fù)合薄膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦、鉛共摻雜二硫化鎢復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，S2中，多孔氧化石墨烯按如下工藝進行制備：將濃度為28-32％的過氧化氫與濃度為0.5-1.5mg/ml的氧化石墨烯分散液混合，超聲25-35min形成一穩(wěn)定的溶液，然后把溶液置于聚四氟乙烯內(nèi)襯的反應(yīng)釜中，升溫至110-130℃，保溫5-15h，接著把制備的多孔氧化石墨烯溶液通過3500-4500rpm的離心和去離子水沖洗的方式除去多余的過氧化氫，所獲得的濃縮液在真空條件下50-70℃干燥10-15h，冷卻至室溫得到。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈦、鉛共摻雜二硫化鎢復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，濃度為28-32％的過氧化氫與濃度為0.5-1.5mg/ml的氧化石墨烯的體積比為1:18-22。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦、鉛共摻雜二硫化鎢復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，沉積時間為0.5-1.5h。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦、鉛共摻雜二硫化鎢復(fù)合薄膜的制備方法，其特征在于，S4中，濺射功率為25-35W。